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電子發燒友網>模擬技術>寬禁帶半導體材料氮化鎵(GaN)和碳化硅(SiC)介紹

寬禁帶半導體材料氮化鎵(GaN)和碳化硅(SiC)介紹

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范圍的高性能硅方案,也處于實現的前沿,具備全面的陣容,產品涵蓋碳化硅(SiC)、氮化(GaN)分立器件、模塊乃至圍繞帶方案的獨一無二的生態系統,為設計人員提供針對不同應用需求的更多的選擇。
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一文詳解下一代功率器件技術

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2018-07-19 09:47:205129

第三代半導體材料碳化硅(SiC)與氮化鎵(GaN)的發展

5G將于2020年將邁入商用,加上汽車走向智慧化、聯網化與電動化的趨勢,將帶動第三代半導體材料碳化硅(SiC)與氮化鎵(GaN)的發展。2018年全球SiC基板產值將達1.8億美元,而GaN基板產值
2020-03-15 09:56:574129

碳化硅材料的特點和應用

碳化硅SiC半導體材料是自第一代元素半導體材料(Si、Ge)和第二代化合物半導體材料(GaAs、GaP、InP等)之后發展起來的第三代半導體材料
2020-10-02 18:20:0012091

SiC-碳化硅-功率半導體介紹講解

SiC-碳化硅-功率半導體介紹講解說明。
2021-04-26 10:11:32140

氮化鎵(GaN)和碳化硅(SiC)的區別在哪里?

氮化鎵(GaN)和碳化硅(SiC)功率晶體管這兩種化合物半導體器件已作為方案出現。這些器件與長使用壽命的硅功率橫向擴散金屬氧化物半導體(LDMOS) MOSFET和超級結MOSFET競爭。
2022-04-01 11:05:193412

碳化硅SiC)與氮化鎵(GaN

一旦硅開始達不到電路需求,碳化硅氮化鎵就作為潛在的替代半導體材料浮出水面。與單獨的硅相比,這兩種化合物都能夠承受更高的電壓、更高的頻率和更復雜的電子產品。這些因素可能導致碳化硅氮化鎵在整個電子市場上得到更廣泛的采用。
2022-12-13 10:01:358946

什么是碳化硅SiC)?

碳化硅SiC)是第三代化合物半導體材料半導體材料可用于制造芯片,這是半導體行業的基石。碳化硅是通過在電阻爐中高溫熔化石英砂,石油焦,鋸末等原材料而制造的。
2023-02-02 16:23:4420965

碳化硅氮化鎵器件的特點差異

  碳化硅SiC)和氮化鎵(GaN)被稱為“寬帶隙半導體”(WBG)。在帶隙寬度中,硅為1.1eV,SiC為3.3eV,GaN為3.4eV,因此寬帶隙半導體具有更高的擊穿電壓,在某些應用中可以達到1200-1700V。
2023-02-05 14:13:341220

何謂SiC碳化硅)?

碳化硅SiC)是比較新的半導體材料。一開始,我們先來了解一下它的物理特性和特征。SiC的物理特性和特征:SiC是由硅(Si)和碳(C)組成的化合物半導體材料。其結合力非常強,在熱、化學、機械方面都非常穩定。
2023-02-08 13:42:083923

SiC碳化硅)元件推動電動車新走向

第一代半導體材料大部分為目前廣泛使用的高純度硅;第二代化合物半導體材料包括砷化鎵、磷化銦;第三代化合物半導體材料碳化硅SiC)、氮化鎵(GaN)為代表。
2023-02-20 14:10:34509

SiC碳化硅二極管的特性和優勢

什么是第三代半導體?我們把SiC碳化硅功率器件和氮化鎵功率器件統稱為第三代半導體,這個是相對以硅基為核心的第二代半導體功率器件的。今天我們著重介紹SiC碳化硅功率器件,也就是SiC碳化硅二極管
2023-02-21 10:16:472090

半導體材料GaN(氮化鎵)的詳細介紹

、高速軌道列車、能源互聯網等產業自主創新發展和轉型升級的重點核心材料和電子元器件,已成為全球半導體技術和產業競爭焦點。氮化鎵是一種寬能隙材料,它能夠提供與碳化硅SiC)相似的性能優勢,但降低成本的可
2023-02-21 15:02:5710

有趣的材料—無處不在的碳化硅

電子器件的使用環境逐漸惡劣,航空航天、石油探測領域前景廣闊,在熱導率、擊穿場等上的要求更高,那么以碳化硅(SiC)、氮化鎵(GaN)為主的第三代半導體材料起到了極大的作用。
2023-03-24 13:58:281323

什么是碳化硅半導體

硅(Si)是電子產品中常用的純半導體的一個例子。鍺(Ge)是另一種純半導體,用于一些最早的電子設備。半導體也由化合物制成,包括砷化鎵 (GaAs)、氮化鎵 (GaN)、硅鍺 (SiGe) 和碳化硅SiC)。我們稍后將回到最后一項。
2023-05-24 11:26:141681

碳化硅氮化鎵哪個好

碳化硅氮化鎵的區別? 碳化硅SiC)和氮化鎵(GaN)是兩種常見的寬禁帶半導體材料,在電子、光電和功率電子等領域中具有廣泛的應用前景。雖然它們都是寬禁帶半導體材料,但是碳化硅氮化鎵在物理性質
2023-12-08 11:28:51742

氮化半導體碳化硅半導體的區別

鎵(GaN半導體氮化鎵是一種二元復合半導體(由氮和鎵元素構成),具有較大的禁帶寬度(3.4電子伏特)。它是一個具有六方晶系結構的材料,并且具有較高的熱穩定性和寬溫度范圍的應用特性。 碳化硅SiC半導體碳化硅
2023-12-27 14:54:18331

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