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電子發(fā)燒友網(wǎng)>模擬技術>高k柵介質(zhì)NMOSFET遠程聲子散射對溝道遷移率的影響

高k柵介質(zhì)NMOSFET遠程聲子散射對溝道遷移率的影響

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2022-06-22 11:01:14

CGHV40050F氮化鎵 (GaN) 電子遷移率晶體管 (HEMT)

Wolfspeed 的 CGHV40050 是無與倫比的;氮化鎵 (GaN) 電子遷移率晶體管 (HEMT)。CGHV40050;從 50 伏電壓軌運行;提供通用的;適用于各種射頻和微波應用的寬帶
2022-06-23 09:16:15

CGHV40050P氮化鎵 (GaN) 電子遷移率晶體管 (HEMT)

Wolfspeed 的 CGHV40050 是無與倫比的;氮化鎵 (GaN) 電子遷移率晶體管 (HEMT)。CGHV40050;從 50 伏電壓軌運行;提供通用的;適用于各種射頻和微波應用的寬帶
2022-06-23 09:19:21

CGHV40100P氮化鎵 (GaN) 電子遷移率晶體管 (HEMT)

Wolfspeed 的 CGHV40100 是無與倫比的;氮化鎵 (GaN) 電子遷移率晶體管 (HEMT)。CGHV40100;從 50 伏電壓軌運行;提供通用的;適用于各種射頻和微波應用的寬帶
2022-06-23 14:23:02

CGHV40100F氮化鎵 (GaN) 電子遷移率晶體管 (HEMT)

Wolfspeed 的 CGHV40100 是無與倫比的;氮化鎵 (GaN) 電子遷移率晶體管 (HEMT)。CGHV40100;從 50 伏電壓軌運行;提供通用的;適用于各種射頻和微波應用的寬帶
2022-06-23 14:28:12

CGHV40180F氮化鎵 (GaN) 電子遷移率晶體管 (HEMT)

Wolfspeed 的 CGHV40180 是一款氮化鎵 (GaN) 電子遷移率晶體管 (HEMT)。它具有無與倫比的輸入,可在 DC-2.0 GHz 范圍內(nèi)提供最佳的瞬時寬帶性能。GaN與硅或砷
2022-06-24 09:19:36

CGHV40180P氮化鎵 (GaN) 電子遷移率晶體管 (HEMT)

Wolfspeed 的 CGHV40180 是一款氮化鎵 (GaN) 電子遷移率晶體管 (HEMT)。它具有無與倫比的輸入,可在 DC-2.0 GHz 范圍內(nèi)提供最佳的瞬時寬帶性能。GaN與硅或砷
2022-06-24 09:22:17

CGHV40200PP氮化鎵 (GaN) 電子遷移率晶體管 (HEMT)

Wolfspeed 的 CGHV40200PP 是無與倫比的;氮化鎵 (GaN) 電子遷移率晶體管 (HEMT)。CGHV40200PP;從 50 伏電壓軌運行;提供通用的;適用于各種射頻和微波
2022-06-24 09:54:07

CGHV50200F氮化鎵 (GaN) 電子遷移率晶體管 (HEMT)

Wolfspeed 的 CGHV50200F 是一款專為高效設計的氮化鎵 (GaN) 電子遷移率晶體管 (HEMT);高增益和寬帶寬能力;這使得 CGHV50200F 成為對流散射通信的理想選擇
2022-06-27 09:17:27

CGHV50200F-AMP氮化鎵 (GaN) 電子遷移率晶體管 (HEMT)測試板

Wolfspeed 的 CGHV50200F 是一款專為高效設計的氮化鎵 (GaN) 電子遷移率晶體管 (HEMT);高增益和寬帶寬能力;這使得 CGHV50200F 成為對流散射通信的理想選擇
2022-06-27 09:19:25

CGHV59070F氮化鎵 (GaN) 電子遷移率晶體管 (HEMT)

Wolfspeed 的 CGHV59070 是內(nèi)部匹配的;氮化鎵 (GaN) 電子遷移率晶體管 (HEMT)。CGHV59070;從 50 伏電壓軌運行;提供一般用途;適用于各種射頻和微波
2022-06-27 14:09:43

CGHV59070P氮化鎵 (GaN) 電子遷移率晶體管 (HEMT)

Wolfspeed 的 CGHV59070 是內(nèi)部匹配的;氮化鎵 (GaN) 電子遷移率晶體管 (HEMT)。CGHV59070;從 50 伏電壓軌運行;提供一般用途;適用于各種射頻和微波
2022-06-27 14:11:15

CGHV96130F氮化鎵 (GaN) 電子遷移率晶體管 (HEMT)

Wolfspeed 的 CGHV96130F 是碳化硅 (SiC) 基板上的氮化鎵 (GaN) 電子遷移率晶體管 (HEMT)。與其他技術相比,這種 GaN 內(nèi)部匹配 (IM) FET 可提供
2022-06-27 16:24:32

CMPA0060025D氮化鎵 (GaN) 電子遷移率晶體管 (HEMT)

Wolfspeed 的 CMPA0060025 是一種基于氮化鎵 (GaN) 電子遷移率晶體管 (HEMT) 的單片微波集成電路 (MMIC)。GaN與硅或砷化鎵相比具有優(yōu)越的性能;包括更高的擊穿
2022-06-27 16:34:19

CMPA0060025F氮化鎵 (GaN) 電子遷移率晶體管 (HEMT)

Wolfspeed 的 CMPA0060025 是一種基于氮化鎵 (GaN) 電子遷移率晶體管 (HEMT) 的單片微波集成電路 (MMIC)。GaN與硅或砷化鎵相比具有優(yōu)越的性能;包括更高的擊穿
2022-06-27 16:37:17

GTRA263902FC-V2氮化鎵 (GaN)on SiC 電子遷移率晶體管 (HEMT)

描述GTRA263902FC是一個370瓦(P3dB) GaN on SiC電子遷移率晶體管(HEMT),用于多標準蜂窩功率放大器應用。它的特點是輸入匹配,高效率,熱增強包與無耳法蘭
2022-07-08 10:36:58

GTRA362002FC-V1氮化鎵 (GaN)on SiC 電子遷移率晶體管 (HEMT)

描述GTRA362002FC 是一款 200 瓦 (P3dB) GaN on SiC 電子遷移率晶體管 (HEMT),設計用于多標準蜂窩功率放大器應用。它具有輸入匹配功能;高效率; 以及帶有無耳
2022-07-11 09:54:35

GTRA412852FC-V1氮化鎵 (GaN)on SiC 電子遷移率晶體管 (HEMT)

描述GTVA101K4 是一款專為高效設計的 GaN on SiC 電子遷移率晶體管 (HEMT);高增益和寬帶寬能力。這使得 GTVA101K4 非常適合 0.96 – 1.4 GHz 頻段
2022-07-11 14:40:10

GTVA126001EC-V1氮化鎵 (GaN)on SiC 電子遷移率晶體管 (HEMT)

描述GTVA126001EC 和 GTVA126001FC 是 600 瓦 GaN on SiC 電子遷移率晶體管 (HEMT),用于 1200 至 1400 MHz 頻段。它們具有輸入匹配功能
2022-07-12 15:04:32

QPD0006 是一種單路徑電子遷移率晶體管

Qorvo 的 QPD0006 是一種單路徑電子遷移率晶體管 (HEMT),工作頻率范圍為 2.5 至 5 GHz。它提供 13.5 W (~41.3 dBm) 的輸出功率,增益為 16 dB,漏
2022-10-12 11:50:48

CMPA0527005F,CREE/科銳,5W, 0.5 - 2.7 GHz, 50 V,電子遷移率晶體管

CMPA0527005F,CREE/科銳,5W, 0.5 - 2.7 GHz, 50 V,電子遷移率晶體管CMPA0527005F,CREE/科銳,5W, 0.5 - 2.7 GHz, 50 V
2023-10-17 16:12:54

FHX04X 是一種電子遷移率晶體管 HEMT

FHX04X型號簡介Sumitomo的FHX04X、FHX05X和FHX06X是一種電子遷移率晶體管(HEMT)用于通用、低噪聲和高增益放大器在2到18GHz的頻率范圍內(nèi)。這些設備非常適合電信
2023-12-15 10:01:25

FHX05X 是一種電子遷移率晶體管 HEMT

FHX05X型號簡介Sumitomo的FHX04X、FHX05X和FHX06X是一種電子遷移率晶體管(HEMT)用于通用、低噪聲和高增益放大器在2到18GHz的頻率范圍內(nèi)。這些設備非常適合電信
2023-12-15 10:06:46

FHX06X 是一種電子遷移率晶體管 HEMT

FHX06X型號簡介Sumitomo的FHX04X、FHX05X和FHX06X是一種電子遷移率晶體管(HEMT)用于通用、低噪聲和高增益放大器在2到18GHz的頻率范圍內(nèi)。這些設備非常適合電信
2023-12-15 10:12:14

矩形波導中沿E面均勻多介質(zhì)散射特性分析

本文應用有限元邊界元耦合法數(shù)值分析了矩形波導結中沿E 面均勻的多個任意截面形狀介質(zhì)柱的散射特性,對介質(zhì)柱所在區(qū)域和除去介質(zhì)柱后的空氣區(qū)域分別用有限元和多連域問題
2010-09-17 13:32:5513

載流子遷移率測量方法總結

載流子遷移率測量方法總結 0 引言    遷移率是衡量半導體導電性能的重要參數(shù),它決定半導體材料的電導率,影響器件的工作速度。已有很多文章對載流子遷
2009-11-03 10:44:5111953

遷移率二維半導體Bi2O2Se的紫外光輔助插層氧化方法

然而,將高遷移率二維半導體與高介電常數(shù)的柵介質(zhì)有效集成并極限微縮是電子學領域的一個重要挑戰(zhàn)。目前,商用硅基集成電路中所用的柵介質(zhì)為原子層沉積法(ALD)制備的氧化鉿(HfO2)
2022-09-26 10:04:421449

載流子輸運現(xiàn)象之散射率、遷移率、電阻率、砷化鎵

前言 載流子輸運就是求電流密度相關。目錄 前言 平均自由時間 & 散射概率 平均自由時間 & 遷移率 平均自由時間 & 電導率 遷移率-溫度關系 電阻率-溫度關系 輕摻雜時 1 016? 1 018
2023-02-27 10:34:560

MXene范德華接觸在氮化鎵高電子遷移率晶體管中的應用

摘要:柵極控制能力是決定氮化鎵高電子遷移率晶體管性能的關鍵因素。然而在金屬-氮化鎵界面,金屬和半導體的直接接觸會導致界面缺陷和固定電荷,這會降低氮化鎵高電子遷移率晶體管柵控能力。在本項研究中,二維
2023-05-25 16:11:29599

半導體材料方阻電阻率、霍爾遷移率非接觸式測量技術

半導體材料wafer、光伏硅片的電阻率非接觸式測量、霍爾遷移率測試儀
2023-06-15 14:12:101041

8.2.10.3 4H-SiC反型層遷移率的實驗結果∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》

8.2.10.34H-SiC反型層遷移率的實驗結果8.2.10反型層電子遷移率8.2金屬-氧化物-半導體場效應晶體管(MOSFET)第8章單極型功率開關器件《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件
2022-03-05 10:43:22266

8.2.10.1 影響反型層遷移率的機理∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》

8.2.10.1影響反型層遷移率的機理8.2.10反型層電子遷移率8.2金屬-氧化物-半導體場效應晶體管(MOSFET)第8章單極型功率開關器件《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》往期內(nèi)
2022-03-03 09:46:19354

8.2.10.2 反型層遷移率的器件相關定義∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》

8.2.10.2反型層遷移率的器件相關定義8.2.10反型層電子遷移率8.2金屬-氧化物-半導體場效應晶體管(MOSFET)第8章單極型功率開關器件《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件
2022-03-04 10:19:46276

n溝道增強型絕緣柵場效應管

n溝道增強型絕緣柵場效應管 n溝道增強型絕緣柵場效應管,又稱nMOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor),是一種非常
2023-09-02 10:05:251535

除碳可提高GaN電子遷移率

據(jù)日本研究人員報告,通過減少碳污染來避免碳污染源導致的“遷移率崩潰”,氮化鎵(GaN)的電子遷移率性能創(chuàng)下新高 。
2024-03-13 10:51:34346

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