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電子發燒友網>模擬技術>Si基GaN功率器件制備技術與集成

Si基GaN功率器件制備技術與集成

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氮化鎵(GaN)器件基礎技術問題分享

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基于GaN功率晶體管和集成電路的早期成功最初源于GaN與硅相比的速度優勢。GaN-on-Si晶體管的開關速度比MOSFET快10倍,比IGBT快100倍。
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功率GaN的多種技術路線簡析

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GaN器件在Class D上的應用優勢

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GaNLED等ESD敏感器件的靜電防護技術(三)

五、 LED靜電防護技術  1、一般靜電防護的基本思路:  1)從元器件設計方面,把靜電保護設計到LED器件內,例如大功率LED,設計者在承載GaNLED芯片倒裝的硅片上,設計靜電保護二極管,這時
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GaN微波半導體器件材料的特性

材料在制作耐高溫的微波大功率器件方面也極具優勢。筆者從材料的角度分析了GaN 適用于微波器件制造的原因,介紹了幾種GaN 微波器件最新研究動態,對GaN 調制摻雜場效應晶體管(MODFETs)的工作原理以及特性進行了具體分析,并同其他微波器件進行了比較,展示了其在微波高功率應用方面的巨大潛力。
2019-06-25 07:41:00

GaN技術怎么助力RF功率放大器的較大功率,帶寬和效率?

GaN技術的出現讓業界放棄TWT放大器,轉而使用GaN放大器作為許多系統的輸出級。這些系統中的驅動放大器仍然主要使用GaAs,這是因為這種技術已經大量部署并且始終在改進。下一步,我們將尋求如何使用電路設計,從這些寬帶功率放大器中提取較大功率、帶寬和效率。
2019-09-04 08:07:56

GaN和SiC區別

半導體材料可實現比硅表親更小,更快,更可靠的器件,并具有更高的效率,這些功能使得在各種電源應用中減少重量,體積和生命周期成本成為可能。 Si,SiC和GaN器件的擊穿電壓和導通電阻。 Si,SiC
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GaN在單片功率集成電路中的工業應用分析

GaN在單片功率集成電路中的工業應用日趨成熟
2023-06-25 10:19:10

GaN是高頻器件材料技術上的突破

為什么GaN可以在市場中取得主導地位?簡單來說,相比LDMOS硅技術而言,GaN這一材料技術,大大提升了效率和功率密度。約翰遜優值,表征高頻器件的材料適合性優值, 硅技術的約翰遜優值僅為1, GaN最高,為324。而GaAs,約翰遜優值為1.44。肯定地說,GaN是高頻器件材料技術上的突破。  
2019-06-26 06:14:34

Si功率器件前言

的AC/DC轉換和功率轉換為目的的二極管和MOSFET,以及作為電源輸出段的功率模塊等來分類等等。在這里,分以下二個方面進行闡述:一是以傳統的硅半導體為基礎的“硅(Si功率器件”,另一是與Si
2018-11-28 14:34:33

IFWS 2018:氮化鎵功率電子器件技術分會在深圳召開

功率氮化鎵電力電子器件具有更高的工作電壓、更高的開關頻率、更低的導通電阻等優勢,并可與成本極低、技術成熟度極高的硅半導體集成電路工藝相兼容,在新一代高效率、小尺寸的電力轉換與管理系統、電動機
2018-11-05 09:51:35

MACOM射頻功率產品概覽

在射頻領域采用硅氮化鎵(GaN on Si技術的供應商。我們采用硅氮化鎵(GaN Si技術以分立器件、模塊和單元的形式提供廣泛的連續波(CW)射頻功率晶體管產品,支持頻率從DC到6GHz
2017-08-14 14:41:32

MACOM:GaN在無線基站中的應用

。盡管以前氮化鎵與LDMOS相比價格過高,但是MACOM公司的最新的第四代硅氮化鎵技術(MACOM GaN)使得二者成本結構趨于相當。基于氮化鎵的MAGb功率晶體管在2.6GHz頻段可提供高于70
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PMP21440提供GaNSI使用情況的對比研究

描述該參考設計為客戶提供有關電源設計中 GaNSI 使用情況的對比研究。該特定的設計使用 TPS40400 控制器來驅動 CSD87381(對于硅電源)和采用 EPC2111
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SiC/GaN功率開關有什么優勢

IC、電源控制器和高集成度嵌入式處理器, 將能管理復雜的多電平、多級功率回路,從而正確發揮新一代 SiC/GaN 功率轉換器的優勢。——ADI公司再生能源戰略營銷經理Stefano
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TI全集成式原型機助力GaN技術推廣應用

下以更高的轉換頻率運行。這意味著,在同樣的條件下,GaN可實現比基于硅材料的解決方案更高的效率。TI日前發布了LMG5200,隨著這款全集成式原型機的推出,工程師們能夠輕松地將GaN技術融入到電源
2018-09-11 14:04:25

TI助力GaN技術的推廣應用

GaN技術融入到電源解決方案中,從而進一步突破了對常規功率密度預期的限值。基于數十年電源測試方面的專業知識,TI已經對GaN進行了超百萬小時的加速測試,并且建立了一個能夠實現基于GaN電源
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《炬豐科技-半導體工藝》在硅上生長的 InGaN 激光二極管的腔鏡的晶圓制造

半導體激光器非常適合與 Si 光子學的單片集成。制造具有法布里-珀羅腔的半導體激光器通常包括小面解理,但是,這與片上光子集成不兼容。蝕刻作為一種替代方法在制備腔鏡方面具有很大優勢,無需將晶片破碎成條形。然而
2021-07-09 10:21:36

不同襯底風格的GaN之間有什么區別?

氮化鎵(GaN)這種寬帶隙材料將引領射頻功率器件新發展并將砷化鎵(GaAs)和LDMOS(橫向擴散金屬氧化物半導體)器件變成昨日黃花?看到一些媒體文章、研究論文、分析報告和企業宣傳文檔后你當然會這樣
2019-07-31 07:54:41

為什么GaN會在射頻應用中脫穎而出?

金屬有機物化學氣相淀積(MOCVD) 或分子束外延(MBE) 技術而制成。GaN-on-SiC 方法結合了GaN 的高功率密度功能與SiC 出色的導熱性和低射頻損耗。這就是GaN-on-SiC 成為高
2019-08-01 07:24:28

什么是基于SiC和GaN功率半導體器件

元件來適應略微增加的開關頻率,但由于無功能量循環而增加傳導損耗[2]。因此,開關模式電源一直是向更高效率和高功率密度設計演進的關鍵驅動力。  基于 SiC 和 GaN功率半導體器件  碳化硅
2023-02-21 16:01:16

什么是氮化鎵(GaN)?

、高功率、高效率的微電子、電力電子、光電子等器件方面的領先地位。『三點半說』經多方專家指點查證,特推出“氮化鎵系列”,告訴大家什么是氮化鎵(GaN)?
2019-07-31 06:53:03

什么阻礙氮化鎵器件的發展

。目前主流的GaN技術廠商都在研發以Si為襯底的GaN器件,以替代昂貴的SiC襯底。有分析預測到2019年GaN的成本將與傳統的Si器件相當,屆時很可能出現一個市場拐點。并且該技術對于供應商來說是一
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單片GaN器件集成驅動功率轉換的效率/密度和可靠性分析

單片GaN器件集成驅動功率轉換的效率、密度和可靠性
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圖形藍寶石襯底GaN發光二極管的研制

)藍寶石制作圖形藍寶石襯底(PSS);然后,在PSS上進行MOCVD制作GaN發光二極管(LED)外延片;最終,進行芯片制造和測試。PSS的基本結構為圓孔,直徑為3μm,間隔為2μm,深度為864 nm
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基于GaN器件的電動汽車高頻高功率密度2合1雙向OBCM設計

設計。基于雙向6.6kw OBC和3.0kW LV-DC/DC的一體化“二合一”設計,本文提出了一種高效散熱方案采用Navitas集成驅動GaN-Power-IC器件技術。CCMPFC的開關頻率設置為
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基于GaN的OBC和低壓DC/DC集成設計

OBC和低壓DC/DC的集成設計可以減小系統的體積;提高功率密度,降低成本。寬帶隙半導體器件GaN帶來了進一步發展的機遇提高電動汽車電源單元的功率密度
2023-06-16 06:22:42

基于GaN的開關器件

在過去的十多年里,行業專家和分析人士一直在預測,基于氮化鎵(GaN)功率開關器件的黃金時期即將到來。與應用廣泛的MOSFET硅功率器件相比,基于GaN功率器件具有更高的效率和更強的功耗處理能力
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基于Si襯底的功率GaNLED制造技術,看完你就懂了

請大佬詳細介紹一下關于基于Si襯底的功率GaNLED制造技術
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基于德州儀器GaN產品實現更高功率密度

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增強型GaN功率晶體管設計過程風險的解決辦法

氮化鎵(GaN)是最接近理想的半導體開關的器件,能夠以非常高的能效和高功率密度實現電源轉換。但GaN器件在某些方面不如舊的硅技術強固,因此需謹慎應用,集成正確的門極驅動對于實現最佳性能和可靠性至關重要。本文著眼于這些問題,給出一個驅動器方案,解決設計過程的風險。
2020-10-28 06:59:27

實時功率GaN波形監視的必要性討論

作者: Grant Smith,德州儀器 (TI)業務拓展經理簡介功率氮化鎵 (GaN) 器件是電源設計人員工具箱內令人激動的新成員。特別是對于那些想要深入研究GaN的較高開關頻率如何能夠導致更高
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應用GaN技術克服無線基礎設施容量挑戰

上的毫米波頻率。另外,GaN功率放大器支持更高的帶寬,即使在較高的頻率也是如此。  如今存在的兩種主要GaN技術為碳化硅GaN(SiC)和硅GaN(Si)。GaN on Si的優勢在于基板成本低,可以在
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報名 | 寬禁帶半導體(SiC、GaN)電力電子技術應用交流會

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2022-12-21 16:07:11426

GaN基準垂直肖特基功率二極管(SBD)的設計與制備

依托先進的半導體器件仿真設計平臺,天津賽米卡爾科技有限公司技術團隊實現了擊穿電壓為420 V的GaN基準垂直肖特基功率二極管的設計方案(SFP-SBD:具有側壁場板的GaN 基準垂直肖特基功率
2023-02-27 15:50:380

探索GaN-on-Si技術難點

GaN-on-Si LED技術是行業夢寐以求的技術。首先,硅是地殼含量第二的元素,物理和化學性能良好,在大尺寸硅襯底上制作氮化鎵LED的綜合成本可以降低25%;
2023-03-10 09:04:16886

絕緣柵SiGaN平面器件關鍵工藝

傳統GaN-on-Si功率器件歐姆接觸主要采用Ti/Al/X/Au多層金屬體系,其中X金屬可為Ni,Mo,PT,Ti等。這種傳統有Au歐姆接觸通常采用高溫退火工藝(>800℃),第1層Ti在常溫下
2023-04-29 16:46:00735

絕緣柵GaN基平面功率開關器件技術

GaN功率開關器件能實現優異的電能轉換效率和工作頻率,得益于平面型AlGaN/GaN異質結構中高濃度、高遷移率的二維電子氣(2DEG)。圖1示出絕緣柵GaN基平面功率開關的核心器件增強型AlGaN/GaN MIS/MOS-HEMT的基本結構。
2023-04-29 16:50:00793

GaN單晶襯底顯著改善HEMT器件電流崩塌效應

最重要的器件之一,在功率器件和射頻器件領域擁有廣泛的應用前景。HEMT器件通常是在硅(Si)、藍寶石(Al2O3)、碳化硅(SiC)等異質襯底上通過金屬有機氣象外延(MOCVD)進行外延制備。由于異質
2023-06-14 14:00:551654

技術 | 氮化鎵(GaN)與硅(Si)的MOS開關比較

付出更大的成本?本文會以適配器(Adaptor)的應用來做說明。圖1目標產品應用種類氮化鎵(GaN)是橫向結構的功率元件,其具有小于硅(Si)的十分之一以下的閘極電荷(
2022-12-09 14:41:082746

GaN功率器件應用可靠性增長研究

GaN功率器件是雷達T/R組件或發射功放組件中的核心元器件,隨著器件的輸出功率功率密度越來越高,器件的長期可靠性成為瓶頸。文章對雷達脈沖工作條件下GaN功率器件的失效機理進行了分析和研究,指出
2023-03-03 14:04:051074

垂直GaN功率器件徹底改變功率半導體

使用GaN(氮化鎵)的功率半導體作為節能/低碳社會的關鍵器件而受到關注。兩家日本公司聯手創造了一項新技術,解決了導致其全面推廣的問題。
2023-10-20 09:59:40709

論文研究氮化鎵GaN功率集成技術.zip

論文研究氮化鎵GaN功率集成技術
2023-01-13 09:07:473

低成本垂直GaN功率器件研究

隨著半導體技術的發展,垂直GaN功率器件逐漸憑借其優勢逐漸應用在更多的領域中。高質量的GaN單晶材料是制備高性能器件的基礎。
2023-12-27 09:32:54374

航空航天領域中的GaN功率器件(下)

由于宇航電源整體及其組件面臨的綜合挑戰,GaN功率器件的全面應用至今尚未達成。但是,隨著GaN功率器件輻照強化及驅動方式的創新改良,宇航電源將會得到更大助推。 結合高集成度電源設計,以及優化的宇航
2024-01-05 17:59:04272

氮化鎵功率器件結構和原理

晶體管)結構。GaN HEMT由以下主要部分組成: 襯底:氮化鎵功率器件的襯底采用高熱導率的材料,如氮化硅(Si3N4),以提高器件的熱擴散率和散熱能力。 二維電子氣層:氮化鎵襯底上生長一層氮化鎵,形成二維電子氣層。GaN材料的禁帶寬度大,由于
2024-01-09 18:06:41667

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