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電子發燒友網>模擬技術>碳化硅功率器件的基本原理、性能優勢、應用領域

碳化硅功率器件的基本原理、性能優勢、應用領域

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2022-02-07 15:01:28396

6.4.1.2 SiC上的肖特基接觸∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》

6.4.1.2SiC上的肖特基接觸6.4.1n型和p型SiC的肖特基接觸6.4金屬化第6章碳化硅器件工藝《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》往期內容:6.4.1.1基本原理∈《碳化硅技術
2022-01-24 10:22:28480

8.2.3 MOSFET電流-電壓關系∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》

8.2.3MOSFET電流-電壓關系8.2金屬-氧化物-半導體場效應晶體管(MOSFET)第8章單極型功率開關器件碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》往期內容:8.2.2分裂準費米能級
2022-02-24 10:08:25466

6.3.4.1 SiC特有的基本現象∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》

的結構和物理特性∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》6.3.2氧化硅的介電性能∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》6.3.1氧化速率
2022-01-05 13:59:37493

8.2.10.2 反型層遷移率的器件相關定義∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》

8.2.10.2反型層遷移率的器件相關定義8.2.10反型層電子遷移率8.2金屬-氧化物-半導體場效應晶體管(MOSFET)第8章單極型功率開關器件碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件
2022-03-04 10:19:46276

6.1.6 離子注入及后續退火過程中的缺陷行成∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》

6.1.6離子注入及后續退火過程中的缺陷行成6.1離子注入第6章碳化硅器件工藝《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》往期內容:6.1.5高溫退火和表面粗糙化∈《碳化硅技術基本原理——生長
2021-12-31 14:13:05466

6.4.2.1 基本原理∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》

6.4.2.1基本原理6.4.2n型和p型SiC的歐姆接觸6.4金屬化第6章碳化硅器件工藝《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》往期內容:6.4.1.2SiC上的肖特基接觸∈《碳化硅技術
2022-01-24 10:09:121034

6.1.5 高溫退火和表面粗糙化∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》

6.1.5高溫退火和表面粗糙化6.1離子注入第6章碳化硅器件工藝《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》往期內容:6.1.4半絕緣區域的離子注入∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件
2021-12-31 14:25:52549

7.3 pn與pin結型二極管∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》

7.3pn與pin結型二極管第7章單極型和雙極型功率二極管《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》往期內容:7.2肖特基勢磊二極管(SBD)∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件
2022-02-10 09:18:15614

8.1.4 比通態電阻∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》

8.1.4比通態電阻8.1結型場效應晶體管(JFET)第8章單極型功率開關器件碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》往期內容:8.1.3飽和漏極電壓∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征
2022-02-20 16:16:46636

6.2.1 反應性離子刻蝕∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》

6.2.1反應性離子刻蝕6.2刻蝕第6章碳化硅器件工藝《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》往期內容:6.1.6離子注入及后續退火過程中的缺陷行成∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件
2021-12-31 10:57:22817

6.3.4.8 其他方法∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》

6.3.4.8其他方法6.3.4電學表征技術及其局限性6.3氧化及氧化硅/SiC界面特性第6章碳化硅器件工藝《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》往期內容:6.3.4.7電導法∈《碳化硅
2022-01-11 17:26:05445

6.4.2.2 n型SiC的歐姆接觸∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》

6.4.2.2n型SiC的歐姆接觸6.4.2n型和p型SiC的歐姆接觸6.4金屬化第6章碳化硅器件工藝《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》往期內容:6.4.2.1基本原理∈《碳化硅技術
2022-01-25 09:18:08743

7.3.1 大注入與雙極擴散方程∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》

7.3.1大注入與雙極擴散方程7.3pn與pin結型二極管第7章單極型和雙極型功率二極管《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》往期內容:7.3pn與pin結型二極管∈《碳化硅技術基本原理
2022-02-11 09:25:07541

8.1 結型場效應晶體管(JFET)∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》

8.1.1夾斷電壓8.1結型場效應晶體管(JFET)第8章單極型功率開關器件碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》往期內容:7.4結勢壘肖特基(JBS)二極管與混合pin肖特基(MPS
2022-02-16 09:43:48325

6.2.2 高溫氣體刻蝕∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》

6.2.2高溫氣體刻蝕6.2刻蝕第6章碳化硅器件工藝《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》往期內容:6.2.1反應性離子刻蝕∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》6.1.6
2021-12-31 10:31:17723

8.1.5 增強型和耗盡型工作模式∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》

8.1.5增強型和耗盡型工作模式8.1結型場效應晶體管(JFET)第8章單極型功率開關器件碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》往期內容:8.1.4比通態電阻∈《碳化硅技術基本原理——生長
2022-02-20 14:15:56384

8.2.8 UMOS的先進設計∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》

8.2.8UMOS的先進設計8.2金屬-氧化物-半導體場效應晶體管(MOSFET)第8章單極型功率開關器件碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》往期內容:8.2.7DMOSFET的先進
2022-03-01 10:36:06605

8.1.6 功率JFET器件的實現∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》

8.1.6功率JFET器件的實現8.1結型場效應晶體管(JFET)第8章單極型功率開關器件碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》往期內容:8.1.5增強型和耗盡型工作模式∈《碳化硅技術
2022-02-21 09:29:28537

6.3.4.2 MOS電容等效電路∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》

6.3.4.2MOS電容等效電路6.3.4電學表征技術及其局限性6.3氧化及氧化硅/SiC界面特性第6章碳化硅器件工藝《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》往期內容:6.3.4.1SiC
2022-01-07 14:24:25420

5.3.2.1 壽命控制∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》

5.3.2.1壽命控制5.3.1SiC中的主要深能級缺陷5.3SiC中的點缺陷第5章碳化硅的缺陷及表征技術《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》往期內容:5.3.2載流子壽命“殺手
2022-01-06 09:38:25510

5.3.2 載流子壽命“殺手”∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》

5.3.2載流子壽命“殺手”5.3.1SiC中的主要深能級缺陷5.3SiC中的點缺陷第5章碳化硅的缺陷及表征技術《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》往期內容:5.3.1.2雜質∈《碳化硅
2022-01-06 09:37:40535

8.2.4 飽和漏極電壓∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》

8.2.4飽和漏極電壓8.2金屬-氧化物-半導體場效應晶體管(MOSFET)第8章單極型功率開關器件碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》往期內容:8.2.3MOSFET電流-電壓關系
2022-02-25 09:29:27469

5.3.1.2 雜質∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》

基本原理——生長、表征、器件和應用》5.3SiC中的點缺陷5.2.3擴展缺陷對SiC器件性能的影響∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》5.2.1SiC
2022-01-06 09:30:23552

5.3.1.1 本征缺陷∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》

5.3.1.1本征缺陷5.3.1SiC中的主要深能級缺陷5.3SiC中的點缺陷第5章碳化硅的缺陷及表征技術《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》往期內容:5.2.3擴展缺陷對SiC器件性能
2022-01-06 09:27:16693

6.4.2.3 p型SiC的歐姆接觸∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》

6.4.2.3p型SiC的歐姆接觸6.4.2n型和p型SiC的歐姆接觸6.4金屬化第6章碳化硅器件工藝《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》往期內容:6.4.2.2n型SiC的歐姆接觸
2022-01-26 10:08:16636

5.2.3 擴展缺陷對SiC器件性能的影響∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》

5.2.3擴展缺陷對SiC器件性能的影響5.2SiC的擴展缺陷第5章碳化硅的缺陷及表征技術《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》往期內容:5.2.1SiC主要的擴展缺陷&5.2.2
2022-01-06 09:25:55621

碳化硅二極管的應用領域優勢你知道嗎

今天鑫環電子就為大家講解一下碳化硅二極管的應用領域優勢。??一、太陽能逆變器。??碳化硅二極管是太陽能發電用二極管的基本原材料,碳化硅二極管在各項技術指標上都優于普通雙極二極管技術。碳化硅二極管
2022-12-14 11:36:05843

碳化硅功率器件基本原理、特點和優勢

碳化硅(SiC)功率器件是一種基于碳化硅材料的半導體器件,具有許多優勢和廣泛的應用前景。
2023-06-28 09:58:092319

碳化硅功率器件基本原理優勢

汽車領域中得到了廣泛的應用。本文將從AD820ARZ碳化硅功率器件基本原理優勢及應用等方面進行分析。 一、碳化硅功率器件基本原理 碳化硅功率器件是由碳化硅材料制成的半導體器件,它的工作原理與傳統的硅功率器件基本相同,
2023-09-05 09:04:421880

碳化硅功率器件優勢應用領域及未來趨勢

隨著科技的不斷進步,電力電子設備在各種領域中的應用越來越廣泛。然而,傳統的硅基功率器件已逐漸達到其性能極限。為了滿足不斷增長的性能需求,碳化硅(SiC)功率器件作為一種新興的電力電子設備,正逐漸取代傳統的硅基功率器件,成為新一代電力電子設備的基石。
2023-12-13 09:32:03335

碳化硅功率器件基本原理應用領域及發展前景

隨著電力電子技術的不斷發展,碳化硅(SiC)功率器件作為一種新型的半導體材料,逐漸在電力電子領域嶄露頭角。與傳統的硅功率器件相比,碳化硅功率器件具有高導熱率和高電子飽和遷移率,使得碳化硅功率器件具有高效率、高功率密度、高可靠性等優點。本文將介紹碳化硅功率器件基本原理應用領域以及發展前景。
2023-12-21 09:43:38353

碳化硅肖特基二極管的優勢應用領域

在當今快速發展的電力電子領域碳化硅(SiC)材料因其出色的物理性能而備受關注。作為一種寬禁帶半導體材料,碳化硅在制造高效、高溫和高速的電子器件方面具有巨大潛力。其中,碳化硅肖特基二極管作為一種重要
2023-12-29 09:54:29188

碳化硅功率器件優勢應及發展趨勢

隨著科技的不斷進步,碳化硅(SiC)作為一種新型的半導體材料,在功率器件領域的應用越來越廣泛。碳化硅功率器件在未來具有很大的發展潛力,將在多個領域展現出顯著的優勢。本文將介紹未來碳化硅功率器件優勢
2024-01-06 14:15:03353

碳化硅功率器件簡介、優勢和應用

碳化硅(SiC)是一種優良的寬禁帶半導體材料,具有高擊穿電場、高熱導率、低介電常數等特點,因此在高溫、高頻、大功率應用領域具有顯著優勢碳化硅功率器件是利用碳化硅材料制成的電力電子器件,主要包括
2024-01-09 09:26:49379

簡單認識碳化硅功率器件

隨著能源危機和環境污染日益加劇,電力電子技術在能源轉換、電機驅動、智能電網等領域的應用日益廣泛。碳化硅(SiC)功率器件作為第三代半導體材料的代表,具有高溫、高速、高效、高可靠性等優點,被譽為“未來電力電子的新星”。本文將詳細介紹碳化硅功率器件基本原理性能優勢應用領域以及未來發展趨勢。
2024-02-21 09:27:13210

碳化硅功率器件的工作原理和性能優勢

的物理性能和潛力巨大的市場應用前景,受到了業界的廣泛關注。本文將深入探討碳化硅功率器件的工作原理、性能優勢應用領域以及未來的發展趨勢。
2024-02-25 10:37:01165

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