中村開發高亮度藍光LED全過程詳細介紹
20世紀90年代中期使得超過人類身高的超大屏幕全彩顯示器成為可能、2000年前后又為手機屏幕彩色化做出貢獻的,就是高亮度藍色發光二極管.藍色發光二極管技術還成為了開發藍色激光器的基礎,其實用化使得錄制高清節目的藍光成為現實.高亮度藍色LED通過與紅色和綠色LED組合便可制造出各種顏色,接踵而來的便是促生出取代白熾燈和熒光燈的新一代節能照明巨大市場.
日本的企業及大學為開發高亮度藍色LED做出了巨大貢獻.在GaNLED的研究階段,名古屋大學赤崎勇教授(現為名城大學特聘教授)領導的研究小組取得了出色的成果.在之后的實用化及高亮度化階段,日亞化學工業的中村修二(現為美國加州大學圣塔芭芭拉分校教授)發揮了重要作用.1995年1~3月《日經電子》連續報道了中村從GaN類藍色LED的研究開始到產品化為止的故事,此次本站將刊登該系列報道,希望能向讀者展現在該技術開發過程中,技術人員的艱辛與快樂.
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日亞總部內的藍色發光二極管顯示器展示區,站在左側的就是開發成功藍光發光二極管的中村修二.
中村在進入該公司后一直在開發金屬Ga、InP、GaAs、GaAlAs等單結晶材料及多結晶材料.為了節約經費,從設備到部件加工的整個過程均由中村一人完成.雖然開發最終取得成功,并順利啟動了業務,但產品卻賣不出去.焦急之下,中村選擇了藍色發光二極管作為下一研究課題,而這是一種只要能業務化必定會暢銷的產品.
總部位于日本德島縣阿南市的日亞化學工業(以下簡稱日亞,注1)是當地頗為有名的公司.因為該公司有長達三周的夏季休假制度.員工將這一長假全部用到了阿波舞的練習上.而且到阿波舞演出正式舉行時,該公司還會派出員工組成的"日亞方陣"跳上大街.
注1)日亞化學工業是總部位于日本德島縣阿南市的化學品廠商.員工數量在1994年4月為640名,銷售額在1993年1月~1993年12月為167億日元.主要產品為CRT及熒光燈等使用的熒光體材料,占銷售額的8成~9成.此外還制造化合物半導體材料、真空蒸鍍材料、濺射靶材以及液晶面板背照燈等使用的EL(場致發光)燈等.公司成立于1956年12月.在中村1979年進入公司時,銷售額約為40億日元,員工數量約為200名.
日亞化學工業在阿南的總部
日亞在一舉成為全球聞名的公司是在1993年底(表1).這源于該公司開發出了亮度達到1cd的藍光發光二極管,并成功實施量產.曾一度被公認"要到21世紀才能實現"的高亮度藍色發光二極管由此順利地進入了實用期 注2).
注2)日本電子機械工業會(EIAJ)電子顯示器和電子管業務委員會電子顯示器2000年研究會在1993年7月公布的《電子顯示器產業2000年前景調查研究報告》中曾這樣描述:"在可視LED中,藍光LED被公認為最難實現高亮度化的產品,而且實際的開發進展也頗為緩慢,為了在2000年達到1cd,業界幾乎找遍了一切可能性".
表1藍色發光二極管的開發年表
對于日亞的壯舉,該領域的技術人員及研究人員與全世界一樣感到震驚.而更驚奇的是,實現如此壯舉的,并非在該領域長期從事研究的海內外知名大學,也非大型電子廠商,而是一家地方城市的化學廠商.由此,日亞的稱呼從"夏季休假的日亞"變成了"藍光發光二極管的日亞".
為了孩子選擇回鄉
幾乎全靠一己之力開發成功高亮度藍色發光二極管的是當年40歲的研究人員中村修二(圖1).中村1979年從德島大學研究生院畢業后進入日亞.專業是電子工程學.
學生時代,中村當然向往到東京或大阪等大城市工作.但到了畢業參加工作時,中村卻已經有了孩子.他在上大學時就結婚了.
"單身的話,可以留在城市闖一闖.但有了孩子的話,還是到鄉下生活的好.不想因為工作而犧牲家庭".正是這種想法最終使中村與日亞結下了不解之緣.
但并不是說中村就沒有猶豫過.實際上,中村也曾到總部位于京都的京瓷面試過.盡管通過了嚴格的考試,順利獲得了進入京瓷的機會,但結果中村還是放棄了.最后,中村選擇留在了當地,也就是妻子娘家的所在地德島市.
日亞是中村的大學導師介紹的.雖然自己的專業是電子工程學,但中村希望從事材料開發工作,因此導師向他推薦了這家公司.不過,當中村來到日亞時卻頗感意外.這只是一家員工僅200人的小型化學公司,到處都有一股刺鼻的硫化氫(H2S)的氣味注3)."這家公司怎么這么臟啊!",這就是日亞給中村留下的第一印象.
注3)硫化氫的氣味類似臭雞蛋味.
"瀕死"的開發課
進入日亞后,中村被分到了開發課.進入公司后中村發現,這里的員工全部都是阿南附近的人,像他這樣來自德島的還真少見.而且,中村還是該公司第一個學電子專業的員工.中村感覺公司是考慮到他學的專業與眾不同,所以才把他分配到可以做新業務的開發部門的.
中村最初負責的開發課題是提煉用于化合物半導體GaP注4)中的金屬Ga材料.雖說是開發課,但其實只是一名課長帶著兩名開發人員和幾個助手的小部門.辦公場所是由帶屋頂的停車場改造的,只是在四周增加了圍墻,十分簡陋(圖2).
注4)GaP(磷化鎵)是III-V族化合物半導體的一種.屬于能帶為2.3eV的間接遷移型.通過電子-空穴的再結合可獲得較強的發光現象(主波長為590nm),因此可用作發光二極管的材料.但波長580nm~590nm的黃色發光二極管用材料目前大多使用可獲得高亮度的GaAsP及In-GaAlP等.
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圖2:開發課原址
現在用于對廢棄物進行化學處理.氣味仍像當年一樣刺鼻.在置物架上,中村曾經用過的石英管還放在那里,只是上面布滿了灰塵.
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在開始提煉金屬Ga的幾個月后,營業部門要求除了金屬Ga之外還要制造有望暢銷的GaP.當時開發課已經處于垂死狀態,甚至開始有傳言說"馬上就要撤銷了".在這種情況下,恐怕也只有啟動這一有望形成賺錢的業務了.公司隨即指定中村來負責開發.當時的開發人員有兩名.一名繼續負責金屬Ga的提煉,而另一名,也就是中村,則開始著手開發GaP.
表面上聽起來這是"為了開拓新業務而進行的開發課題",但實際情況仍然嚴峻.因為并沒有預算.所以無法購買相關設備.也買不起昂貴的部件.結果,只有完全靠自己來制造有關設備(圖3).
黃昏時分的"爆炸慣犯"
要使GaP實現結晶生長,需要使用昂貴的石英管.操作時,將石英管的一端封上,在管的兩端放置金屬Ga和P.然后再封上另一端,對管內進行真空處理.之后加熱石英管,內部的材料就會氣化,相互反應便可形成GaP.最后割開石英管,將反應生成物取出就能獲得GaP.
不過,問題是如何處理使用過的石英管.由于石英管價格昂貴,因此不能用完就扔掉.至少在日亞不能這樣做.于是,中村決定將切斷的石英管重新焊接起來,進行再利用.
從那以后中村就開始沒完沒了地焊接石英管."我進入公司難道就是為了當一個焊工嗎?",中村不止一次地問自己.而且最頭疼的是爆炸事故頻頻發生.對封有Ga和P的石英管進行高溫加熱使,管內的壓力會上升到20~30個大氣壓.這時,只要焊接部位有小小的損傷或是強度不足的話,石英管就會破裂.
早上將材料封到石英管中.下午開始加熱,當溫度達到最高時正好是傍晚.爆炸總是發生在要下班的時候.巨大的聲響往往傳遍整個公司."又是中村".員工們一邊調侃著,一邊趕緊回家.
上司不理解
而此時此刻,中村在實驗室里卻正忙著上演一場激烈大戰.
逐漸習慣事故頻發場面的中村制定出了一套自我保護措施,在自己的桌子與緊靠桌子設置的GaP制造設備之間吊起了金屬板.這樣就不用再擔心爆炸時被飛散的石英片打中了.
不過,石英管一旦爆炸的話,破裂的石英管碎片就會與加熱到高溫的P一起飛射出來.P是也可用作火柴材料的可燃物.當然會燃燒.帶著火的碎塊會向四處飛散.所以中村要追上去一個個將火滅掉.事故頻發程度事后讓中村回想起來都奇怪"竟然平安無事沒有出大事故".
可是長期這樣下去的話,身體可吃不消.懷著這種想法,中村與當時的上司談了多次.只要采用對石英管內部進行高壓處理的方法,爆炸事故就不會停止.因此中村想改用在低壓也可制造出GaP的方法.但是,公司的想法很頑固:"發生爆炸是焊接得不好,并非方式的問題",所以沒有接受中村的提案.
即便如此,開發還是走上了正軌.從1981年開始,中村制造的GaP開始銷售.正是由于付出如此之多的努力,當自己制造的產品上市時,中村真是萬分感慨.GaP的制造開發總算是成功了.不過,GaP的銷售額每月卻只有數百萬日元.作為一項業務,并不算是太大的成功.中村在1982年結束了開發,制造也交接給了后輩.中村從GaP的開發中完全撤了出來.
從這一開發過程中,中村學到的是石英的焊接技術、面對爆炸也毫不畏懼的勇氣、以及"不能一味服從公司"這一教訓.
下一個課題是GaAs結晶生長
從1982年起,中村開始著手與GaAs注5)結晶生長有關的研究課題.這次仍然是營業部門提供的信息:"今后GaAs的增長空間比GaP更大".由于涉及的是新材料,因此新的開發人員也從其他公司跳槽給挖了過來.中村煥發精神開始開發GaAs的多結晶材料.
注5)在III-V族化合物半導體中,GaAs(砷化鎵)是一種為人所熟知的最普通半導體材料.能帶為1.4eV,屬于直接遷移型.電子遷移率為8800cm2/Vs,空穴遷移率為420cm2/Vs,遠遠高于Si,因此適于用作可高速運行的邏輯電路元等使用的材料.另外,由于可通過電子-空穴的再結合獲得較強的發光(主波長為850nm),因此還被廣泛用作發光二極管及半導體激光器材料.
日亞目前制造的化合物半導體(GaAs,InP)
雖說開發的材料變了,但公司內部的開發環境還是一如既往.先要制造設備,其次是要焊接石英管.中村的焊接技術當時已被公認為一把"絕活",在新的開發中仍然每天都在發揮作用(圖4).不用說,爆炸事故依舊是頻繁發生.
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中村展示以往的焊接"絕活"加熱石英棒進行焊接.
即便如此,1983年中村成功開發出了能夠形成產品的GaAs多結晶技術.隨后,GaAs單結晶的開發也完成了.接著,從1985年起,中村又開始著手研究發光二極管用GaAlAs注6)膜的結晶生長.單結晶的生長方法選擇的是液相生長 注7)方式.當然,液相生長的設備也是中村自己制造的(圖5).
注6)GaAlAs(砷鋁化鎵)是III-V族化合物半導體GaAs和AlAs的混合結晶.通過改變Ga1-xAlxAs中的x,可使能帶從2.1eV變為1.4eV.利益于這一特點,GaAlAs被廣泛用于紅色發光二極管及半導體激光器使用的材料.
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注7)在單結晶底板上使單結晶生長被稱為外延生長(EpitaxialGrowth),是制造半導體器件時的重要技術.液相外延(LPE:Liquid PhaseEpitaxy)是其中的一種.這是一種利用經由溶劑的物質移動來實現生長的方法.當利用液相外延技術使GaAs外延生長時,需要使用Ga等制成的溶劑.在Ga中添加GaAs后加熱至900℃高溫,GaAs就會溶解到Ga中.在GaAs底板上導入該溶劑,只要慢慢降低溫度,即可使溶解率降低,從而在GaAs底板上析出GaAs.通過精細控制這一溫度下降速度,便可在GaAs上析出單結晶的GaAs.按照同樣的方法,還可在GaAs底板上使GaAlAs單結晶薄膜生長.
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當時,從研究、制造到質量管理、直至銷售,全部是中村一個人擔當的.中村將研制出來的單結晶推薦給了發光二極管廠商.但其他競爭公司卻拿出了質量更高的單結晶.于是,中村經過反復研究,最終實現了質量毫不遜色的產品.而這時,其他公司在質量上又走在了前面.無論怎么追都追不上.而其原因就在于評測速度過慢.
日亞只銷售材料,自己并不制造發光二極管.因此,在將單結晶制成發光二極管后,全部交由用戶進行評測.而這種方式的話,需要花費1個月才能得到評測結果.這樣,在評測結果出來后再怎么改進,也無法趕上其他公司的開發速度.
押寶發光二極管
"如果不自已制造發光二極管,即使用戶說不行也無法反駁".中村通過與社長直接談判,最后終于成功地導入了發光二極的制造設備和評測設備.而且單結晶的制造人員也得到增加,GaAlAs單結晶的開發由此步入了正軌.最后,中村順利完成了開發.
對于該研究課題,中村給自己打了100分.從制造裝置開始,一切工作全部都是自己完成的.在未從其他公司引進技術的情況下,依靠一已之力確立了GaAlAs單結晶的制造技術.而且還成功地將其變成了一項業務.
盡管如此,比自己后來公司、接替自己工作的人都一個個升遷,自己卻被拋在人后,殘酷的現實使得中村萌生退意.再呆在日亞已沒有多大意思了.獲得如此大的成功,自己卻并未獲得肯定…….
經過反復思考,中村最后得出的結論如下:即使開發取得成功,產品賣得不好的話,自己就不會受到好評.不暢銷就得不到肯定.因此要選擇開發成功后會形成大業務的課題.就這樣,中村選擇了高亮度藍色發光二極管這項課題.如果研究成功的話,產品肯定會暢銷.
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要想研究藍色發光二極管,就需要不同于GaAlAs的結晶生長技術.中村決定先學習這一技術.
正當中村這樣考慮的時候,求之不得的事情隨之而來.為了掌握結晶成長技術,愿不愿意被公司派往美國?對此詢問,中村充滿了期待.
這一非常有吸引力的差事其實卻暗藏著一個陷阱.這是當時中村萬萬都沒有想到的
為了研究藍色發光二極管,首先必須掌握發光層--薄膜的結晶生長技術.為此,中村遠赴美國學習,不過在美國則為制造裝置浪費了一年時間.回國后他仍繼續制造并改造裝置.經過長期艱苦的努力,終于取得了初步成果……
1988年3月,中村修二懷著激動的心情登上了飛往美國弗羅里達的航班.他將以研究員的身份在弗羅里達大學(University ofFlorida)學習一年
去美國做訪問研究員的契機,來自中村拜訪在德島大學求學時的校友酒井士朗(現德島大學教授)的交談.要制造藍色發光二極管,必須從形成用于藍色發光二極管的單晶膜著手.其技術包括MBE法(molecularbeam epitaxy,分子束外延)注1)和MOCVD法(metal organic chemical vapordeposition,金屬有機物化學氣相沉積)注2).中村毫不猶豫地選擇了MOCVD法.原因是MBE裝置的價格高達數億日元,公司根本不可能考慮購置.
注1)MBE(molecular beamepitaxy)法是在底板上生長出單晶膜的方法,屬于氣相生長法的一種.在對導入高真空中的原子(分子)束進行控制的同時,照射底板,使原子沉積.可稱為高精度真空沉積技術.制造使用硅及GaAs等化合物半導體的元件時,需要使用這種技術.
注2)MOCVD(metal organic chemical vapordeposition)法是在底板上沉積薄膜的CVD(chemical vapordeposition,化學沉積)法的一種.也稱為OMCVD(organometalCVD)法.CVD法是將含有沉積物質的氣體,或者這種氣體與非活性氣體的混合氣體通入加熱后的底板上,使其發生熱分解、氧化還原及置換等化學反應,從而在底板上生成或沉積所需物質的方法.其中,原料氣體采用有機金屬(有機物質直接與金屬結合形成的化合物,organometal)的方法稱為MOCVD法.在底板上生長出GaAs等化合物半導體單晶膜時,普遍采用這種技術.
雖然選擇了MOCVD法,但中村卻是第一次接觸這種技術.所以首先需要學習.他決定向當時研究MOCVD法而知名的酒井請教.此時,酒井已決定去弗羅里達大學.他建議中村,"機會難得,一起去吧".這是求之不得的好機會,但不知公司是否會派自己去.
公司肯定不會同意,先向公司申請再說.抱著這種心理,中村決定試一試.于是,他請酒井陪同,向會長和社長說明了自己的想法.出人意料的是,公司當場就決定派他去弗羅里達.
又回到以前的狀態
一切都暢行無阻!讓人覺得順利的恍如夢境.但好景不長,抵達弗羅里達大學之后的中村感到非常吃驚,這里沒有MOCVD裝置,情況與想象的不同.
中村去的研究室本應有2臺MOCVD裝置.其中一臺被隔壁研究室搬走了,而另一臺則需要從現在開始制造.就這樣在美國,中村同樣開始為制造裝置而忙碌起來(圖1).每天忙于配管和焊接,簡直和在日本時沒有什么兩樣.他不禁想,難道自己是為做這些工作千里迢迢來到弗羅里達的嗎?隨之而來的便是倦怠感.時間則毫不理會中村的心情繼續在無情地流逝.等到中村好不容易完成制造裝置的時,已經到了他要回國前的一個月了.
除了中村之外,當時研究室還有數名來自韓國和中國等國家的研究員.中村陪著笑臉央求:我一個月之后必須回日本,時間很緊,裝置能不能讓我優先使用.得到的回答卻是No!.中村只進行了3、4次結晶生長實驗,就要為在美國的學習畫上句號了.
連開會也不通知,不知是覺得中村可憐,還是看中了中村出色的焊接和配管技術,研究室的教授挽留他:"我給你發工資,再待一年吧".但在美國期間,給中村留下的不愉快回憶太多了.
中村去美國之前沒有寫過一篇論文.因為公司不允許.就是因為這個原因,好不容易以研究員的身份去美國,對方卻沒有把他當做研究人員對待,連開會都不通知他.該大學還有研究發光二極管的人員,但中村想請教問題時,人家愛理不理的.
在美國學習期間,中村還第一次體會到了以前只聽說過的"種族障礙".美國人會很自然地和美國人在一起,亞洲人也會和亞洲人形成一個圈子.盡管好不容易獲得了與來自世界各地的研究人員一同工作的機會,相互之間卻沒有交流.
中村回顧在美國學習的日子時說道,"沒有一點兒好的回憶".但是回國后等待著他依然是痛苦的日子.他為"回來之后沒有崗位"而苦惱.在美國沒有學到技術,回來后沒有工作崗位,什么都是沒有,中村只能一切從零開始.
無法實現GaN膜
即便如此,中村還是開始了研究.雖然在職場上中村如同浦島太郎,但派他去美國的社長卻記住了他.公司分配給了中村兩名新員工,開始制造裝置.他決定購買市售的MOCVD裝置,然后進行改造.此外,他還讓公司購買了結晶膜評測裝置.所有裝置加在一起公司先后花費了數億日元.
當年在開發GaAs單結晶時,公司幾乎什么裝置都沒有購買.即便是好說歹說同意出錢了,最多也只有100萬日元左右.突然增加到上億日元的投資,這對中村來說是非常難得的,同時這也形成了一種壓力.
中村從1989年4月回到日本后開始著手進行研究.一個月、兩個月,甚至半年的時間過去了,但研究絲毫沒有取得進展.藍色發光二極管的發光層--GaN膜始終無法形成.甚至在還沒有到達形成GaN膜之前就跌跟頭了.
MOCVD法是在經過高溫加熱的底板上通入原料氣體,然后使氣體在底板表面分解來形成結晶薄膜的方法.需要在通入氣體的容器內放置底板,對其進行高溫加熱,問題就出在這里.
第一個問題是,中村選擇的是GaN注3)作為藍色發光二極管的發光材料.從原理上來說,好幾種材料都能實現藍色發光功能.其中,GaN是受人冷落的材料注4).只因"其他人沒有采用",中村便決定選擇這種材料.開始挑戰結晶膜生長之后,他才明白這種材料不受歡迎的原因.那就是GaN成膜非常困難.如果只對市售裝置稍加改造,根本無法實現膜生長.
注3)GaN(氮化鎵)是III-V族化合物半導體的一種.屬于直接遷移型,能隙(EnergyGap)為3.4eV.通過與InN(能隙為2.0eV)及AlN(能隙為6.3eV)形成混合結晶,可使能隙介于2.0eV到6.3eV之間.
注4)藍色發光二極管用材料有ZnSe、SiC及GaN等.1989年,SiC面向藍色發光二極管用途的研究進展最快,已有人制造出亮度較低的發光二極管.ZnSe的研究也很盛行,作為藍色發光二極管及藍色半導體激光器用材料的有力候選而備受關注.而GaN卻很少有人研究,當時日本國內的學會也曾出現過ZnSe研討會座無虛席、而GaN研討會的參加者不足10人的情況.
被稱為怪人
為了采用MOCVD法在底板上生長出GaN單晶膜,必須將底板加熱至+1000℃以上的高溫.光實現這一點就非常困難,更糟的是,中村的另一選擇又使情況進一步惡化,那就是采用了用加熱器加熱底板的方法.
很早就開始研究GaN膜的名古屋大學研究小組注5)采用從裝置外部施加高頻電磁場的方法加熱底板(圖2).中村仍以"不想和別人采用同一方法"為由,選擇了加熱器加熱.
注5)除了日亞化學工業以外,其他研究GaN的日本研究小組還包括豐田合成的研究小組,以及名古屋大學赤?勇教授(當時,現任名城大學教授)的小組等.豐田合成和名古屋大學的研究小組,1989年已成功生長出GaN單晶膜,1990年初相繼成功試制出了GaN藍色發光二極管,可以說均比日亞化學工業領先一步.
使用高頻電磁場的方法,需在用導體制成的加熱臺(Susceptor,基座)上放置底板,利用從反應室外施加的高頻電磁場提高基座的溫度,從而對底板進行加熱(a).無需在反應室內設置用于加熱的機構,因此構造比較簡單.但不能采用作為導體的金屬形成反應室,一般采用石英玻璃制造反應室.而使用加熱器的(b)方法,可在反應室內放置裝有加熱器的加熱臺,然后在上面放置底板,通過這種方法對底板加熱.采用這種方法時,可自由選擇反應室的材料.
制造GaN膜的原料氣體--NH3具有腐蝕性.沒有一種加熱器即耐高溫又耐腐蝕.因此,加熱器很快就會被腐蝕壞,導致薄膜無法生長.
那時候中村每天都很郁悶.早上來到公司,打開裝置.今天有沒有生成真正的膜,加熱器又被燒壞.下午的工作便是改造和修理設備.他早上第一個上班,下午6點下班.每天都在重復這種沒有盡頭的單調日子.
中村的話變得越來越少,電話也不接,周圍的人開始把他當成怪人.當初部下的兩名新員工,其中一人因"根本看不到成功的希望"而辭職了.
勝利女神曾經微笑,但轉瞬即逝
事情突然出現了轉機.經過多次失敗和不斷摸索,中村終于開發出了不會燒壞的加熱器注6).底板加熱成功后,那么剩下的就只是改造裝置和改進原料氣體的通入方法了.
注6)絕密中的絕密在于如何避免加熱器燒壞.現在仍為不外泄的技術訣竅.據介紹,因開發出了這種加熱器,中村"成了加熱器設計專家".這與焊接技術和配管技術同為中村的特技.
中村對改造裝置有絕對信心.因為進入公司開發部門以后,所有裝置都是自己制造的,而且在美國的一年里充分掌握了氣體配管技巧.雖然周圍的人都勸他,隨意改造MOCVD裝置很危險,但這并沒有讓中村退縮.以前在公司開發科時,他就經歷過數次爆炸事故,所以一點都不害怕.
加熱器開發成功后,用加熱器加熱的方法果真效果不錯.利用高頻率電磁場加熱時,需要用石英玻璃制造MOCVD裝置的反應室、室內配管及出氣口等.雖然中村的焊接技術非常高超,但對石英部件構成的裝置進行改造并非易事.
但用加熱器加熱的話,反應室、配管及出氣口均可用金屬制造.加工比較容易,安裝及拆卸也很方便,改造變得非常輕松
據中村當時的實驗筆記記載,1990年8月底曾嘗試過4種氣體導入方法,9月上旬發現從底板旁邊和上方導入氣體的Two-Flow法比較有效
1990年9月,終于迎來了GaN膜面世的時刻.中村發明了可從底板的兩個方向吹入氣體的"Two-Flow法",成功生長出了結晶薄膜(圖3(b)).他滿懷喜悅地對此次形成的薄膜進行了評測.這種薄膜在此前發布的薄膜中遷移率最高(圖4).太棒了!終于成功了!中村急忙開始第二批和第三批結晶膜的生長工作.打算生成更高品質的薄膜……
1990年9月,使用Two-Flow法生長出了GaN膜.獲得了當時最高的遷移率,比處于領先地位的名古屋大學的研究小組公布的數值還高一位數.摘自1990年9月17日的實驗筆記.
但進入10月份以后,不可思議的事情發生了,GaN膜突然無法生長了.中村急忙檢查裝置,卻沒有發現任何問題.成功了一次,也確實成膜了,現在卻無法生長,而且原因不明.肯定是哪里出現問題了.
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