今天為大家介紹一項國家發明授權專利——一種電感耦合等離子體質譜真空閥門。該專利由江蘇天瑞儀器股份有限公司申請，并于2017年9月12日獲得授權公告。

內容說明

本發明涉及質譜儀設備領域，具體來說，涉及一種電感耦合等離子體質譜儀的真空閥門。

發明背景

電感耦合等離子質譜儀工作時真腔室體必須保證在高真空（10^-7）環境下才能正常工作，因為等離子要在電場、磁場或電磁場中飛行一定的時間和空間，如果在這些時間和空間中存在大量的氣體勢必會使離子很快淬滅而達不到檢測器。所以為了減少離子與背景氣體的碰撞淬滅要抽真空使背景氣體分子數量大大減少，以維持足夠的離子平均自由程。而國內現有的真空閥門技術具有高真空不能滿足，智能化程度不高，結構復雜，不適合用于儀器整體化設計等缺點。

發明內容

有鑒于此，需要克服現有技術中的上述缺陷中的至少一個。本發明提供了一種電感耦合等離子體質譜儀真空閥門，包括：基座，所述基座具有待密封封口，且具有第一腔室及第二腔室，所述第一腔室一端具有與外界相通的通孔，另一端與所述第二腔室一端聯通，所述第二腔室后端與所述待密封封口相通，所述第一腔室與第二腔室及上述帶密封封口形成具有前后相通的腔室；提供前后移動動作的動力源裝置，包括跟隨所述動力源前后運動的伸縮部件，所述動力源裝置安裝在基座外部；滑動裝置，所述滑動裝置置于所述第一腔室內，一端伸出所述第一腔室外與所述伸縮部件相聯，跟隨所述伸縮前后運動；封閉裝置，包括密封圈、密封部件、梯形底座，所述密封部件頂部由容納所述密封圈的容納槽，所述容納槽的深度小于所述密封圈橫截面直徑的三分之二，大于所述密封圈橫截面直徑的三分之一，所述密封部件形狀與所述待密封封口形狀大小一致，所述密封部件置于一端與所述滑動裝置相聯，另一端安裝有滾輪，所述滾輪與所述梯形底座為滾動接觸。

所述伸縮部件進行前后運動帶動所述滑動裝置在腔室內進行前后滑動，進而帶動所述封閉裝置進行前后運動，由于所述封閉裝置的后端具有所述滾輪，所述滾輪在所述梯形底座上進行滾動，帶動所述封閉裝置進行上下的升降運動，進而擠壓所述密封圈，從而對待密封封口進行密封；同時，本發明所使用的動力源裝置也完全可以使用CPU等芯片進行控制，可以實現自動化，進而提升操作的便捷性和提高使用效率。

根據本發明背景技術中對現有技術所述，而國內現有的真空閥門技術具有高真空不能滿足，智能化程度不高，結構復雜，不適合用于儀器整體化設計等缺點；而本發明提供的電感耦合等離子體質譜儀真空閥門，采用開合結構，通過開合來實現靜態和動態真空，并且開啟時，進氣量很小，滿足檢測需要。同時此結構簡單，可通過軟件控制，運動順暢，更適合于儀器整體化設計，裝配簡單，智能化程度高，滿足高真空要求等。

另外，根據本發明公開的電感耦合等離子體質譜儀真空閥門還具有如下附加技術特征：進一步地，所述動力源裝置為氣缸，所述伸縮部件為活塞連桿。

可選地，所述動力源裝置為直線馬達，所述伸縮部件為所述直線馬達上直線運動部件。所述滑動裝置處于通孔的一端密閉安裝，進行密閉安裝可以進一步減少腔室和外界的物質交換，一方面能夠保證腔室的潔凈，另一方面可以更有效的保持真空系統的真空狀態。所述滑動裝置還包括，主滑動軸，所述主滑動軸前端與所述伸縮部件聯接并跟隨其進行前后滑動；聯接件，所述主滑動軸的后端與所述聯接件的前端聯接，所述聯接件的后端與所述密封部件前端聯接；所述主滑動軸、所述聯接件、所述密封部件三者形成三連桿機構。

所述滑動裝置和所述伸縮部件為同向安裝。所述滑動裝置和所述伸縮部件的同向安裝指的是，當伸縮部件向后伸出時，則所述滑動裝置也向后伸出，當伸縮部件收回時，則所述滑動裝置也向內收回，如此可以保證裝置在整體上不必過長，進而方便整體設備的安裝以及節省長度上的空間。

所述電感耦合等離子體質譜儀真空閥門還包括左右滑動桿，所述左右滑動桿與所述密封部件的左右兩側相聯，所述左右滑動桿與所述密封部件聯接部位有第一滑動槽和第二滑動槽。所述密封部件在所述左右滑動桿上的所述滑動槽進行前后運動。

更進一步地，所述第一滑動槽和所述第二滑動槽均包括前后槽，所述前槽為橫槽，所述后槽為向上傾斜槽。左右滑動桿的存在，使得所述密封部件能夠運行的更加平穩，滑動槽的結構使得所述密封部件可以升起。