發(fā)展國產(chǎn)芯片的核心技術(shù)裝備，國內(nèi)有家公司將使用最先進(jìn)的光刻機(jī)裝備，鉆研7nm制程的芯片制造。。 有些朋友會(huì)詫異，咱們國產(chǎn)芯片怎樣會(huì)進(jìn)展到7nm工藝呢，國際上有些廠商已拋卻了研發(fā)7nm制程芯片，中國臺灣的聯(lián)電科技宣告拋卻
2018-10-05 08:16:36
47845 `光刻機(jī)MPA500FAb用光柵尺傳感器(掃描部位)供應(yīng)。型號：SONY SR-721 150mm SCALE UNIT with HK-105C`
2020-01-31 18:04:14
把被攝物體的影像復(fù)制到底片上。 而ASML光刻機(jī)在做的光刻，我們稱之為微影制程，原理是將高能雷射光穿過光罩（reticle），將光罩上的電路圖形透過聚光鏡（projectionlens），將影像縮小
2020-09-02 17:38:07
想知道為啥同一光源為什么可以衍生出這么多不同工藝節(jié)點(diǎn)，以Intel為例，2000年用的是180nm，而現(xiàn)在已經(jīng)是10nm了，其實(shí)光刻機(jī)決定了半導(dǎo)體工藝的制程工藝，光刻機(jī)的精度跟光源的波長、物鏡的數(shù)值孔徑
2020-07-07 14:22:55
。如，美國的高通、博通、AMD，中國***的聯(lián)發(fā)科，大陸的華為海思、展訊等。國內(nèi)單片機(jī)芯片：核心設(shè)備單片機(jī)芯片良品率取決于晶圓廠整體水平，但加工精度完全取決于核心設(shè)備，就是前面提到的“光刻機(jī)”。光刻機(jī)
2018-09-03 16:48:04
子報(bào)》記者解釋：“光刻是芯片制造技術(shù)的主要環(huán)節(jié)之一。目前主流的芯片制造是基于193nm光刻機(jī)進(jìn)行的。然而193nm浸沒光刻技術(shù)很難支撐40nm以下的工藝生產(chǎn)，因此到了22/20nm及以下工藝節(jié)點(diǎn)，芯片廠商
2017-11-14 16:24:44
`現(xiàn)在處理一批MA-1200光刻機(jī)的零件，有需要的朋友請直接聯(lián)系我：137-3532-3169`
2020-02-06 16:24:39
芯片。然而即使如此，近期的芯片短缺依然表現(xiàn)出，這個(gè)數(shù)字還未達(dá)到上限。盡管芯片已經(jīng)可以被如此大規(guī)模地生產(chǎn)出來，生產(chǎn)芯片卻并非易事。制造芯片的過程十分復(fù)雜，今天我們將會(huì)介紹六個(gè)最為關(guān)鍵的步驟：沉積、光刻膠涂
2022-04-08 15:12:41
是分步投影光刻機(jī).利用分步投影光刻機(jī),再結(jié)合移相掩膜等技術(shù),已經(jīng)得到了最小線寬0.10微米的圖形?！ 艚咏奖┕馀c接觸式暴光相似,只是在暴光時(shí)硅片和掩膜版之間保留有很小的間隙,這個(gè)間隙一般在10~25
2012-01-12 10:56:23
%，Lam Research為10億美元，占臺積電采購額的9%，迪恩士占5%，KLA占4%。ASML目前，全球僅有ASML一家公司掌握著EUV光刻機(jī)的核心技術(shù)，這也是5nm制程必需的設(shè)備，但EUV
2020-03-09 10:13:54
看一看，數(shù)一數(shù)，制造一枚合格的芯片都需要哪些設(shè)備？光刻機(jī)光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一，按照用途可以分為好幾種：有用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)；有用于封裝的光刻機(jī)；還有用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī)。用于生產(chǎn)芯片
2018-09-03 09:31:49
制造過程中，步驟會(huì)因?yàn)椴煌牟牧虾?b class="flag-6" style="color: red">工藝而有所差異，不過大體上皆采用這樣的類似工藝過程，于是就需要用到光刻機(jī)和刻蝕機(jī)。首先，在晶圓表面沉積一層薄膜，緊接著再涂敷上光刻膠（光阻），這時(shí)候光刻機(jī)會(huì)按照設(shè)計(jì)好
2018-08-23 17:34:34
的有氧化爐、沉積設(shè)備、光刻機(jī)、刻蝕設(shè)備、離子注入機(jī)、清洗機(jī)、化學(xué)研磨設(shè)備等。以上是今日Enroo關(guān)于晶圓制造工藝及半導(dǎo)體設(shè)備的相關(guān)分享。
2018-10-15 15:11:22
如果國家以兩彈一星的精神投入光刻機(jī)的研發(fā)制造，結(jié)果會(huì)怎樣？
2020-06-10 19:23:14
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻機(jī)作為集成電路制造中最關(guān)鍵的設(shè)備，對芯片制作工藝有著決定性的影響，被譽(yù)為“超精密制造技術(shù)皇冠上的明珠”，根據(jù)之前中芯國際的公報(bào)，目...
2021-07-29 09:36:46
光刻機(jī)的工作臺是一個(gè)六自由度的運(yùn)動(dòng)臺，其中X/Y向運(yùn)動(dòng)臺是的核心基礎(chǔ)工序。管控XY軸角度Yaw和Pitch，直線度Horizontal Straightness和Vertical
2023-02-20 15:49:07
GK-1000光刻掩膜版測溫儀，光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)測溫儀光刻機(jī)是一種用于微納米加工的設(shè)備，主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS（微機(jī)電系統(tǒng)）等微細(xì)結(jié)構(gòu)。光刻機(jī)是一種光學(xué)投影技術(shù)，通過將光線通過
2023-07-07 11:46:07
進(jìn)入10nm工藝節(jié)點(diǎn)之后，EUV光刻機(jī)越來越重要，全球能產(chǎn)EUV光刻機(jī)的就是荷蘭ASML公司了，他們總共賣出18臺EUV光刻機(jī)，總價(jià)值超過20億歐元，折合每套系統(tǒng)售價(jià)超過1億歐元，可謂價(jià)值連城。
2017-01-19 18:22:593470 本文以光刻機(jī)為中心，主要介紹了光刻機(jī)的分類、光刻機(jī)的結(jié)構(gòu)組成、光刻機(jī)的性能指標(biāo)、光刻機(jī)的工藝流程及工作原理。
2017-12-19 13:33:01161176 
光刻是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)流程中最復(fù)雜、最關(guān)鍵的工藝步驟，耗時(shí)長、成本高。半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)的難點(diǎn)和關(guān)鍵點(diǎn)在于將電路圖從掩模上轉(zhuǎn)移至硅片上，這一過程通過光刻來實(shí)現(xiàn)， 光刻的工藝水平直接決定芯片的制程水平和性能
2018-04-08 16:10:52162273 
光刻機(jī)是芯片制造中光刻環(huán)節(jié)的核心設(shè)備， 技術(shù)含量、價(jià)值含量極高。 光刻機(jī)涉及系統(tǒng)集成、精密光學(xué)、精密運(yùn)動(dòng)、精密物料傳輸、高精度微環(huán)境控制等多項(xiàng)先進(jìn)技術(shù)，是所有半導(dǎo)體制造設(shè)備中技術(shù)含量最高的設(shè)備，因此也具備極高的單臺價(jià)值量。
2018-04-10 10:19:4736248 在半導(dǎo)體芯片制造設(shè)備中，投資最大、也是最為關(guān)鍵的是光刻機(jī)，光刻機(jī)同時(shí)也是精度與難度最高、技術(shù)最為密集、進(jìn)步最快的一種系統(tǒng)性工程設(shè)備。光學(xué)光刻技術(shù)與其它光刻技術(shù)相比，具有生產(chǎn)率高、成本低、易實(shí)現(xiàn)高的對準(zhǔn)和套刻精度、掩模制作相對簡單、工藝條件容易掌握等優(yōu)點(diǎn)，一直是半導(dǎo)體芯片制造產(chǎn)業(yè)中的主流光刻技術(shù)。
2018-04-10 11:26:34205917 
時(shí)間是2024年，這個(gè)時(shí)間點(diǎn)上半導(dǎo)體公司的制程工藝應(yīng)該可以到3nm節(jié)點(diǎn)了?！ ?b class="flag-6" style="color: red">國內(nèi)2019年迎首臺EUV光刻機(jī) 光刻機(jī)是中國在半導(dǎo)體設(shè)備制造上最大的短板，處于技術(shù)領(lǐng)先的上海微電子裝備有限公司已量產(chǎn)
2018-11-02 10:14:19834 光刻機(jī)是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中最關(guān)鍵設(shè)備，也被譽(yù)為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)皇冠上的明珠。集成電路里的晶體管是通過光刻工藝在晶圓上做出來的，光刻工藝決定了半導(dǎo)體線路的線寬，同時(shí)也決定了芯片的性能和功耗。
2019-01-23 09:18:0222456 在先進(jìn)制程納米節(jié)點(diǎn)持續(xù)微縮下，光刻機(jī)是重要關(guān)鍵設(shè)備。12寸晶圓主要光刻機(jī)為ArF immersion機(jī)臺，可覆蓋45nm一路往下到7nm節(jié)點(diǎn)的使用范圍，其雷射光波長最小微縮到193nm；針對7nm
2019-06-10 16:56:366512 
格芯首席技術(shù)官Gary Patton表示，如果在5nm的時(shí)候沒有使用EUV光刻機(jī)，那么光刻的步驟將會(huì)超過100步，這會(huì)讓人瘋狂。所以所EUV光刻機(jī)無疑是未來5nm和3nm芯片的最重要生產(chǎn)工具，未來圍繞EUV光刻機(jī)的爭奪戰(zhàn)將會(huì)變得異常激烈。因?yàn)檫@是決定這些廠商未來在先進(jìn)工藝市場競爭的關(guān)鍵。
2019-09-03 17:18:1812845 
光刻機(jī)是芯片制造最為重要的設(shè)備之一。目前，ASML壟斷了全世界的高端光刻機(jī)。
2019-11-28 17:19:3016075 光刻機(jī)是芯片制造最為重要的設(shè)備之一。目前，ASML壟斷了全世界的高端光刻機(jī)。中國一直以來都想掌握光刻機(jī)技術(shù)，但是上海微電子經(jīng)過17年的努力，才造出90nm的光刻機(jī)，這已經(jīng)十分不容易了，這可是0的突破。那么為什么光刻機(jī)這么難造呢？
2020-01-29 11:07:007799 大家都知道，光刻機(jī)是芯片制造過程當(dāng)中一個(gè)重要的環(huán)節(jié)，光刻機(jī)直接決定著芯片的質(zhì)量。而我國作為全球最大的芯片消費(fèi)國之一，每年進(jìn)口的芯片都達(dá)到幾萬億人民幣。
2020-01-09 16:46:5727266 
大家都知道，光刻機(jī)是芯片制造過程當(dāng)中一個(gè)重要的環(huán)節(jié)，光刻機(jī)直接決定著芯片的質(zhì)量。而我國作為全球最大的芯片消費(fèi)國之一，每年進(jìn)口的芯片都達(dá)到幾萬億人民幣。
2020-03-08 16:42:008161 
相信大家都知道，在前一段時(shí)間，中芯國際成功量產(chǎn)14nm芯片的消息，也是瞬間傳遍祖國大江南北，而作為我國大陸目前最先進(jìn)、最大的晶圓代工廠，近日，中芯國際也是再次傳出了好消息，根據(jù)國內(nèi)相關(guān)媒體報(bào)道
2020-03-13 14:31:207033 光刻機(jī)是芯片制造的重要設(shè)備，內(nèi)部結(jié)構(gòu)精密復(fù)雜，它決定著芯片的制程工藝，是芯片生產(chǎn)中不可少的關(guān)鍵設(shè)備，而且光刻機(jī)的技術(shù)門檻極高，整個(gè)設(shè)備的不同部位采用了世界上最先進(jìn)的技術(shù)，如德國的光學(xué)設(shè)備、美國的計(jì)量設(shè)備等，可以說是“集人類智慧大成的產(chǎn)物”，被譽(yù)為半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠。
2020-03-14 10:58:4874615 ，中國最好的光刻機(jī)廠商上海微電子裝備有限公司（SMEE）已經(jīng)量產(chǎn)的光刻機(jī)中，性能最好的SSA600/20工藝只能達(dá)到90nm，相當(dāng)于2004年上市的奔騰四CPU的水準(zhǔn)。而國外的先進(jìn)水平已經(jīng)達(dá)到了7納米，正因如此，國內(nèi)晶圓廠所需的高端光刻機(jī)完全依賴進(jìn)口。
2020-03-18 10:52:1189226 光刻機(jī)是集成電路制造中最精密復(fù)雜、難度最高、價(jià)格最昂貴的設(shè)備，用于在芯片制造過程中的掩膜圖形到硅襯底圖形之間的轉(zhuǎn)移。集成電路在制作過程中經(jīng)歷材料制備、掩膜、光刻、刻蝕、清洗、摻雜、機(jī)械研磨等多個(gè)工序，其中以光刻工序最為關(guān)鍵，因?yàn)樗钦麄€(gè)集成電路產(chǎn)業(yè)制造工藝先進(jìn)程度的重要指標(biāo)。
2020-03-18 11:00:4172452 光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一，作為目前世界上最復(fù)雜的精密設(shè)備之一，其實(shí)光刻機(jī)除了能用于生產(chǎn)芯片之外，還有用于封裝的光刻機(jī)，或者是用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī)。目前，我國高端的光刻機(jī)，基本上是從荷蘭ASML進(jìn)口的。
2020-03-18 11:12:0244388 光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造設(shè)備中價(jià)格占比最大，也是最核心的設(shè)備，是附加價(jià)值極高的產(chǎn)品，被譽(yù)為是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)皇冠上的明珠。
2020-03-19 13:55:2012136 雖然目前上海微電子裝備（集團(tuán)）股份有限公司所生產(chǎn)的光刻機(jī)設(shè)備較為低端，但依舊占據(jù)著國內(nèi)近80%的光刻機(jī)市場份額，所以SMEE憑借幾乎壟斷國內(nèi)的光刻機(jī)市場份額，依舊能夠在全球光刻機(jī)設(shè)備制造領(lǐng)域排名第
2020-06-09 11:36:065662 作為芯片制造的核心設(shè)備之一，光刻機(jī)對芯片生產(chǎn)的工藝有著決定性影響。 據(jù)悉，光刻機(jī)按照用途可分為生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)、封裝芯片的光刻機(jī)以及用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī)。其中，生產(chǎn)芯片的High End
2020-06-15 08:05:54999 作為半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)過程中最重要的裝備，光刻機(jī)一直牽動(dòng)人心。事實(shí)上，制程工藝越先進(jìn)就要離不開先進(jìn)光刻機(jī)。
2020-07-07 16:25:042769 音圈電機(jī)助力的華為多久能夠制造出光刻機(jī)呢？近日有消息稱，從9月14日起，臺積電不再向華為供貨！原因很簡單，因?yàn)锳merica的限令，讓華為很可能會(huì)缺失5nm工藝制程的芯片。那么，現(xiàn)在的問題是，華為
2020-08-07 10:01:088039 作為光刻工藝中最重要設(shè)備之一，光刻機(jī)一次次革命性的突破，使大模集成電路制造技術(shù)飛速向前發(fā)展。了解提高光刻機(jī)性能的關(guān)鍵技術(shù)以及了解下一代光刻技術(shù)的發(fā)展情況是十分重要的。 光刻機(jī) 光刻機(jī)（Mask
2020-08-28 14:39:0411746 
芯片制程已經(jīng)推進(jìn)到了7nm以下，這其中最關(guān)鍵的核心設(shè)備就要數(shù)EUV光刻機(jī)了，目前全世界只有荷蘭ASML（阿斯麥）可以制造。
2020-09-28 16:31:471631 光刻機(jī)又名：掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。光刻機(jī)是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中最關(guān)鍵設(shè)備，光刻工藝決定了半導(dǎo)體線路的線寬，同時(shí)也決定了芯片的性能和功耗。
2020-09-30 16:17:135162 
在制造芯片的過程中，光刻工藝無疑最關(guān)鍵、最復(fù)雜和占用時(shí)間比最大的步驟。光刻定義了晶體管的尺寸，是芯片生產(chǎn)中最核心的工藝，占晶圓制造耗時(shí)的40％到50％。光刻機(jī)在晶圓制造設(shè)備投資額中約占23
2020-10-09 15:40:112189 光刻機(jī)又名：掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。光刻機(jī)是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中最關(guān)鍵設(shè)備，光刻工藝決定了半導(dǎo)體線路的線寬，同時(shí)也決定了芯片的性能和功耗。
2020-10-10 17:17:071496 
荷蘭阿斯麥（ASML）公司的光刻機(jī)作為世界上最貴最精密的儀器，相信大家都有耳聞，它是加工芯片的設(shè)備。其最先進(jìn)的EUV（極紫外光）光刻機(jī)已經(jīng)能夠制造7nm以下制程的芯片，據(jù)說一套最先進(jìn)的7納米EUV
2020-10-15 09:20:054438 光刻機(jī)是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)過程中的關(guān)鍵設(shè)備，光刻機(jī)所使用的光源波長直接決定著芯片的工藝級別。例如，目前最先進(jìn)的芯片制程7nm\5nm等，都離不開EUV極紫外光刻機(jī)，而這種光刻機(jī)的全球唯一供應(yīng)商就是荷蘭
2020-10-16 11:01:542054 ASML的EUV光刻機(jī)是目前全球唯一可以滿足22nm以下制程芯片生產(chǎn)的設(shè)備，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻機(jī)必不可缺。一臺EUV光刻機(jī)的售價(jià)為1.48億歐元，折合人民幣高達(dá)11.74億元
2020-10-19 12:02:499647 
導(dǎo)讀：光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。光刻是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，在整個(gè)芯片制造工藝中，幾乎每個(gè)工藝的實(shí)施，都離不開光刻的技術(shù)。 光刻機(jī)的工作原理： 利用光刻機(jī)
2022-12-23 13:34:547273 作為半導(dǎo)體制造中的核心設(shè)備，光刻機(jī)無疑是芯片產(chǎn)業(yè)皇冠上的明珠，特別是先進(jìn)工藝的光刻機(jī)，7nm以下的都要依賴ASML公司，EUV光刻機(jī)他們還是獨(dú)一份。
2020-11-09 17:11:382195 ASML在光刻機(jī)領(lǐng)域幾乎是巨無霸的存在，而他們對于與中國企業(yè)合作也是非常歡迎，無奈一些關(guān)鍵細(xì)節(jié)上被美國卡死。 中國需要光刻機(jī)，尤其是支持先進(jìn)制程的高端光刻機(jī)，特別是 EUV （極紫外光源）光刻機(jī)
2020-11-10 10:08:043056 在芯片制造環(huán)節(jié)中，光刻機(jī)是核心設(shè)備。沒有光刻機(jī)，半導(dǎo)體或遭斷鏈危機(jī)，摩爾定律將停止，人類也就無法設(shè)計(jì)、制造和封裝硅芯片。放眼全球，一家叫做ASML（阿斯麥）的荷蘭公司市場占有率達(dá)80%，是行業(yè)的絕對
2020-11-13 09:28:515165 12月2日消息，據(jù)國外媒體報(bào)道，全球第一大芯片代工商臺積電，能夠獲得大量的芯片代工訂單，除了領(lǐng)先的制程工藝，還得益于阿斯麥所供應(yīng)的大量先進(jìn)的光刻機(jī)，在第二代7nm和5nm所需要的極紫外光刻機(jī)方面，尤其如此，他們獲得的極紫外光刻機(jī)的數(shù)量，遠(yuǎn)多于三星。
2020-12-02 10:21:09835 自從芯片工藝進(jìn)入到7nm工藝時(shí)代以后，需要用到一臺頂尖的EUV光刻機(jī)設(shè)備，才可以制造7nm EUV、5nm等先進(jìn)制程工藝的芯片產(chǎn)品，但就在近日，又有外媒豪言：這種頂尖的EUV極紫外光刻機(jī)，目前全球
2020-12-03 13:46:226379 之前有消息稱，臺積電正在籌集更多的資金，為的是向ASML購買更多更先進(jìn)制程的EUV光刻機(jī)，而這些都是為了新制程做準(zhǔn)備。
2020-12-29 09:22:482192 對于阿斯麥（ASML）來說，他們正在研發(fā)更先進(jìn)的
光刻機(jī)，這
也是推動(dòng)
芯片工藝繼續(xù)前行的重要?jiǎng)恿Α?/div>
2020-12-29 11:00:101665 中的設(shè)備之一，只不過由于其制造復(fù)雜，研發(fā)困難，而且事關(guān)芯片的制造工藝，所以在芯片制造設(shè)備中占據(jù)著較高的地位。 ? 也正是因此，一臺光刻機(jī)的價(jià)格不菲，尤其是現(xiàn)在最高端的EUV型光刻機(jī)，其售價(jià)高達(dá)1.3億美元，這樣的價(jià)格，已經(jīng)超過了很多芯片企業(yè)的
2021-01-21 15:45:033085 在光刻機(jī)領(lǐng)域一家獨(dú)大的荷蘭光刻機(jī)巨頭ASML，占據(jù)著芯片行業(yè)的頂端，畢竟沒有了他們的設(shè)備，想要造出先進(jìn)工藝制程的芯片是沒戲的。
2021-01-22 09:39:221931 
在光刻機(jī)領(lǐng)域一家獨(dú)大的荷蘭光刻機(jī)巨頭ASML，占據(jù)著芯片行業(yè)的頂端，畢竟沒有了他們的設(shè)備，想要造出先進(jìn)工藝制程的芯片是沒戲的。
2021-01-22 09:34:001572 
在光刻機(jī)領(lǐng)域一家獨(dú)大的荷蘭光刻機(jī)巨頭ASML，占據(jù)著芯片行業(yè)的頂端，畢竟沒有了他們的設(shè)備，想要造出先進(jìn)工藝制程的芯片是沒戲的。 財(cái)報(bào)披露，ASML2020年全年凈銷售額140億歐元，毛利率為48.6
2021-01-22 10:38:164677 
據(jù)國外媒體報(bào)道，臺積電和三星電子的芯片制程工藝，均已提升到了 5nm，更先進(jìn)的工藝研發(fā)也在推進(jìn)，并在謀劃量產(chǎn)事宜。 在制程工藝提升到 5nm 之后，也就意味著臺積電、三星等廠商，對極紫外光刻機(jī)的需求
2021-01-25 17:10:181352 ，對極紫外光刻機(jī)的需求會(huì)不斷增加，而全球目前唯一能生產(chǎn)極紫外光刻機(jī)廠商的阿斯麥，也就大量供應(yīng)極紫外光刻機(jī)。 英文媒體在最新的報(bào)道中表示，在芯片制程工藝方面走在行業(yè)前列的臺積電，在今年預(yù)計(jì)可獲得 18 臺極紫外光刻機(jī)，三星和英特爾也將
2021-01-25 17:21:543321 作為全球最頂尖的半導(dǎo)體設(shè)備制造商，AMSL在芯片產(chǎn)業(yè)鏈中扮演著尤為關(guān)鍵的角色，由它生產(chǎn)出來的光刻機(jī)更是芯片制造過程所需的核心設(shè)備。顧名思義，光刻機(jī)的主要作用就是光刻， 將設(shè)計(jì)好的集成電路刻畫在硅片上，這便是芯片代工最重要的環(huán)節(jié)。
2021-01-26 16:40:582351 2月25日消息，據(jù)國外媒體報(bào)道，芯片制程工藝提升至5nm的臺積電和三星，已從阿斯麥購買了大量的極紫外光刻機(jī)，并且還在大量購買。
2021-02-26 09:22:011530 中芯國際的芯片工藝目前已發(fā)展至14nm，若想將芯片工藝進(jìn)一步提升至7nm乃至3nm等先進(jìn)制程，EUV光刻機(jī)設(shè)備就必不可少。那么，中芯國際此次12億美元的采購協(xié)議都有哪些類型的光刻機(jī)，包含EUV光刻機(jī)嗎？
2021-03-10 14:36:559465 以下內(nèi)容由對話音頻整理 本期話題 ● EUV光刻機(jī)產(chǎn)能如何？ ● 晶圓為什么是圓的？ ● 不同制程的芯片之間有何區(qū)別？ ● 什么是邏輯芯片，邏輯芯片又包括哪些？ ● 專用芯片與通用芯片 ● 中科院
2021-03-14 09:46:3023476 、用途 光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一,按照用途可以分為好幾種:有用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī);有用于封裝的
2021-03-27 10:00:371469 
用途 光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一,按照用途可以分為好幾種:有用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī);有用于封裝的光刻機(jī)
2021-03-30 18:17:272075 
眾所周知，想要在芯片領(lǐng)域打破由歐美國家所壟斷的市場，必須要解決光刻機(jī)的問題，這是傳統(tǒng)硅基芯片制造過程中最為重要的一環(huán)。而在光刻機(jī)領(lǐng)域，荷蘭的ASML則是光刻機(jī)領(lǐng)域金字塔最頂尖的企業(yè)，尤其是在極紫外光領(lǐng)域
2021-04-16 14:31:124401 
在芯片設(shè)計(jì)、制造的諸多環(huán)節(jié)中，光刻機(jī)等核心設(shè)備發(fā)揮了至關(guān)重要的作用。殊不知，在眾多核心設(shè)備中，EDA工具才是真正的重中之重。
2021-05-02 11:49:002682 不會(huì)有我們現(xiàn)在的手機(jī)、電腦了。 光刻機(jī)是用于芯片制造的核心設(shè)備，按照用途可以分為用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)、用于封裝的光刻機(jī)和用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī)。 光刻機(jī)的核心原理就是一個(gè)透鏡組，在精度上首先咱們有個(gè)概念：我們現(xiàn)在芯片的
2021-07-07 14:31:18125772 光刻機(jī)原理怎么做芯片 光刻是集成電路中最重要的工藝，光刻機(jī)是制造芯片的核心裝備，在芯片的制作中，幾乎每個(gè)工藝的實(shí)施，都需要用到光刻技術(shù)?？梢哉f，光刻機(jī)是半導(dǎo)體界的一顆明珠。那么光刻機(jī)原理怎么做芯片
2021-08-07 14:54:5412869 因?yàn)樵诳萍既Πl(fā)生的各種問題，比如華為等企業(yè)被美國供斷芯片，國內(nèi)一度為芯片供應(yīng)問題而一籌莫展，很多人也因此知道了芯片的重要性的世界芯片的格局。在芯片的制作方面，傳統(tǒng)硅基芯片制造必定需要光刻機(jī)，納米制程
2021-08-27 17:22:2336827 因?yàn)樵诳萍既Πl(fā)生的各種問題，比如華為等企業(yè)被美國供斷芯片，國內(nèi)一度為芯片供應(yīng)問題而一籌莫展，很多人也因此知道了芯片的重要性的世界芯片的格局。在芯片的制作方面，傳統(tǒng)硅基芯片制造必定需要光刻機(jī)，納米制程
2021-08-31 09:40:0713616 光刻機(jī)作為芯片產(chǎn)業(yè)制造中不可缺少的設(shè)備，也是工時(shí)和成本占比最高的設(shè)備，更是全球頂尖技術(shù)和人類智慧的結(jié)晶。那么目前有哪些國家可以制造出光刻機(jī)呢？
2022-01-03 17:30:0086844 光刻機(jī)作為芯片的核心制造設(shè)備，也是當(dāng)前最復(fù)雜的精密儀器之一。其實(shí)光刻機(jī)不僅可以用于芯片生產(chǎn)，還可以用于封裝和用于LED制造領(lǐng)域。
2022-01-03 16:43:0016302 光刻機(jī)是芯片制造的重要設(shè)備，內(nèi)部結(jié)構(gòu)精密復(fù)雜，它決定著芯片的制程工藝，是芯片生產(chǎn)中不可少的關(guān)鍵設(shè)備，而且光刻機(jī)的技術(shù)門檻極高，整個(gè)設(shè)備的不同部位采用了世界上最先進(jìn)的技術(shù)
2021-12-30 09:46:534123 光刻機(jī)制作芯片過程非常復(fù)雜，而光刻機(jī)是制造芯片最重要的設(shè)備之一，由于先進(jìn)光刻機(jī)的技術(shù)封鎖，中國芯片廠商的芯片制作工藝目前比較落后，也沒有優(yōu)秀的國產(chǎn)光刻機(jī)來掌握到最先進(jìn)的光刻技術(shù)。
2021-12-30 11:23:2111145 光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前有用于生產(chǎn)的光刻機(jī)，有用于LED制造領(lǐng)域的光刻機(jī)，還有用于封裝的光刻機(jī)。光刻機(jī)是采用類似照片沖印的技術(shù)，然后把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
2022-02-05 16:03:0085813 光刻機(jī)又被稱為掩膜對準(zhǔn)曝光機(jī)，在芯片生產(chǎn)中用于光刻工藝，而光刻工藝又是生產(chǎn)流程中最關(guān)鍵的一步，所以光刻機(jī)又是芯片生產(chǎn)中不可缺少的設(shè)備，總得來說光刻機(jī)是用來制造芯片的。
2022-02-06 07:25:0029436 2nm制程的量產(chǎn)。 目前市面上最先進(jìn)的是EUV光刻機(jī)，而其能夠支持制造的先進(jìn)制程工藝最高為3nm，也就是說，再往后的2nm等工藝就要用更加先進(jìn)的光刻機(jī)來完成。 ASML為此正在研發(fā)一種特別的EUV光刻機(jī)——High-NA EUV光刻機(jī)。這種光刻機(jī)所采用的技術(shù)能夠
2022-06-22 14:44:161183 在芯片研發(fā)的過程中，光刻機(jī)是必不可少的部分，而隨著芯片制程工藝的不斷發(fā)展，普通的光刻機(jī)已經(jīng)不能滿足先進(jìn)制程了，必須要用最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)才能完成7nm及其以下的先進(jìn)制程，而目前臺積電和三星都在攻克
2022-06-28 15:07:126676 光刻機(jī)是制作芯片的關(guān)鍵設(shè)備，利用光刻機(jī)發(fā)出的紫外光源通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的硅片曝光，使光刻膠性質(zhì)變化、達(dá)到圖形刻印在硅片上形成電子線路圖。我國目前還是采用什深紫外光的193nm制程工藝，如上海微電子裝備公司（CMEE）制程90nm工藝的光刻機(jī)，那么90nm光刻機(jī)能生產(chǎn)什么芯片呢？
2022-06-30 09:46:2131257 隨著芯片制程工藝的更新迭代，芯片已進(jìn)入納米時(shí)代，指甲蓋大小的芯片上集成的晶體管數(shù)量高達(dá)百億。然而芯片制造最大的困難是光刻機(jī)。
2022-07-05 10:57:265743 1、IBM的2nm芯片，所有關(guān)鍵功能都是使用EUV光刻機(jī)進(jìn)行刻蝕。而7nm芯片只有在芯片生產(chǎn)的中間和后端環(huán)節(jié)使用EUV光刻機(jī)，意味著2nm工藝對EUV光刻機(jī)擁有更高的依賴性。
2022-07-05 17:26:497169 光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML的EUV光刻機(jī)。
2022-07-06 11:03:077000 大家都知道，芯片制造的核心設(shè)備之一就是光刻機(jī)了?，F(xiàn)在，全球最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML的EUV光刻機(jī)，那么euv光刻機(jī)目前幾納米呢？ 到現(xiàn)在，世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)能夠?qū)崿F(xiàn)5nm的加工。也就是荷蘭
2022-07-10 11:17:4242766 說到芯片，估計(jì)每個(gè)人都知道它是什么，但說到光刻，許多人可能不知道它是什么。光刻機(jī)是制造芯片的機(jī)器和設(shè)備。沒有光刻機(jī)的話，就無法生產(chǎn)芯片，因此每個(gè)人都知道光刻機(jī)對芯片制造業(yè)的重要性。那么euv光刻機(jī)
2022-07-10 11:42:276977 目前，光刻機(jī)主要分為EUV光刻機(jī)和DUV光刻機(jī)。DUV是深紫外線，EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù)，EUV使用的是深紫外光刻技術(shù)。EUV為先進(jìn)工藝芯片光刻的發(fā)展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127 euv光刻機(jī)原理是什么 芯片生產(chǎn)的工具就是紫外光刻機(jī)，是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備，對芯片技術(shù)有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。那么euv光刻機(jī)原理是什么呢？ EUV
2022-07-10 15:28:1015099 光刻機(jī)是當(dāng)前半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)的核心設(shè)備，其技術(shù)含量和價(jià)值含量都很高。那么euv光刻機(jī)用途是什么呢？下面我們就一起來看看吧。 光刻設(shè)備涉及系統(tǒng)集成、精密光學(xué)、精密運(yùn)動(dòng)、精密材料傳輸、高精度微環(huán)境控制
2022-07-10 16:34:403116 光刻機(jī)譽(yù)為“現(xiàn)代半導(dǎo)體行業(yè)皇冠上的明珠”，是一種高度復(fù)雜的設(shè)備。光刻機(jī)是通過紫外光作為“畫筆”，把預(yù)先設(shè)計(jì)好的芯片電路路線書寫在硅晶圓旋涂的光刻膠上，光刻工藝直接決定了芯片中晶體管的尺寸和性能，是芯片生產(chǎn)中最為關(guān)鍵的過程。
2022-10-27 09:39:024118 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/ 周凱揚(yáng) ）到了3nm這個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)之后，單靠現(xiàn)有的0.33NA EUV光刻機(jī)就很難維系下去了。 為了實(shí)現(xiàn)2nm乃至未來的埃米級工藝，將晶體管密度推向1000MTr/mm2，全面
2022-12-07 07:25:02952 光刻機(jī)可分為前道光刻機(jī)和后道光刻機(jī)。光刻機(jī)既可以用在前道工藝，也可以用在后道工藝，前道光刻機(jī)用于芯片的制造，曝光工藝極其復(fù)雜，后道光刻機(jī)主要用于封裝測試，實(shí)現(xiàn)高性能的先進(jìn)封裝，技術(shù)難度相對較小。
2023-06-09 10:49:205860 
·從接觸式到EUV，制程持續(xù)演進(jìn) ·多個(gè)先進(jìn)系統(tǒng)組合，技術(shù)壁壘極高 光刻機(jī) 光刻是芯片制造最核心環(huán)節(jié)，大陸自給率亟待提升 光刻機(jī)是芯片制造最核心環(huán)節(jié) 光刻機(jī)是芯片制造中最復(fù)雜、最昂貴的設(shè)備。芯片制造可以包括多個(gè)工藝，如初步氧
2023-06-19 10:04:008369 
光刻機(jī)是集成電路生產(chǎn)的關(guān)鍵設(shè)備之一，在整個(gè)生產(chǎn)過程中占據(jù)重要的地位。高精度的工作臺作為光刻機(jī)核心部件之一，其運(yùn)動(dòng)性能和定位精度決定了光刻工藝所能實(shí)現(xiàn)的線寬和產(chǎn)率。光刻機(jī)的工作臺是一個(gè)六自由度的運(yùn)動(dòng)
2022-03-08 09:07:46859 
光刻是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)流程中最復(fù)雜、最關(guān)鍵的工藝步驟，耗時(shí)長、成本高。半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)的難點(diǎn)和關(guān)鍵點(diǎn)在于將電路圖從掩模上轉(zhuǎn)移至硅片上，這一過程通過光刻來實(shí)現(xiàn)， 光刻的工藝水平直接決定芯片的制程水平和性能水平。
2023-08-23 10:47:531589 
雕刻電路圖案的核心制造設(shè)備是光刻機(jī)，它的精度決定了制程的精度。光刻機(jī)的運(yùn)作原理是先把設(shè)計(jì)好的芯片圖案印在掩膜上，用激光穿過掩膜和光學(xué)鏡片，將芯片圖案曝光在帶有光刻膠涂層的硅片上，涂層被激光照到之處則溶解，沒有被照到之處保持不變，掩膜上的圖案就被雕刻到芯片光刻膠涂層上。
2023-11-24 12:27:061287 
光刻機(jī)是微電子制造的關(guān)鍵設(shè)備，廣泛應(yīng)用于集成電路、平面顯示器、LED、MEMS等領(lǐng)域。在集成電路制造中，光刻機(jī)被用于制造芯片上的電路圖案。
2024-01-29 09:37:24359 
光刻機(jī)經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展，每次改進(jìn)和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機(jī)所能實(shí)現(xiàn)的最小工藝節(jié)點(diǎn)。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次從接觸接近式光刻機(jī)發(fā)展到浸沒步進(jìn)式投影光刻機(jī)和極紫外式光刻機(jī)。
2024-03-21 11:31:4143 
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