對于如今的半導體產業而言，EUV光刻機是打造下一代邏輯和DRAM工藝技術的關鍵所在，為了在未來的工藝軍備競賽中保持優勢，臺積電、三星和英特爾等廠商紛紛花重金購置EUV光刻機。 ? 然而，當這些來自
2022-07-22 07:49:00
2403 相干光通信的理論和實驗始于80年代。由于相干光通信系統被公認為具有靈敏度高的優勢，各國在相干光傳輸技術上做了大量研究工作。經過十年的研究，相干光通信進入實用階段。
2020-04-17 15:17:111796 
極紫外 (EUV) 光刻系統是當今使用的最先進的光刻系統。本文將介紹這項重要但復雜的技術。
2023-06-06 11:23:54688 
根據最新數據顯示，ASML在12月中完成了第100臺EUV光刻機的出貨。更加利好的消息是，業內預估ASML今年（2021年）的EUV光刻機產能將達到45~50臺的規模。
2021-01-03 00:28:004735 作為近乎壟斷的光刻機巨頭，ASML的EUV光刻機已經在全球頂尖的晶圓廠中獲得了使用。無論是英特爾、臺積電還是三星，EUV光刻機的購置已經是生產支出中很大的一筆，也成了7nm之下不可或缺的制造設備
2021-12-01 10:07:4110988 電子發燒友網報道（文/周凱揚）到了3nm這個工藝節點之后，單靠現有的0.33NA EUV光刻機就很難維系下去了。為了實現2nm乃至未來的埃米級工藝，將晶體管密度推向1000MTr/mm2，全面
2022-12-07 01:48:002199 、LR4和ER4三款，加上ZR4 Lite和數字相干光模塊（DCO）這兩款新增的產品，可以覆蓋400m至2000km以內的所有100G光互連應用。易飛揚完整的100G CFP2產品線一直以來，100G
2020-10-30 09:41:05
DWDM與它的前身非常相似。但是，在100G網絡中它通常用于實現更長距離的傳輸。PAM4和相干是兩個行業領先的解決方案，可提供更大的帶寬和傳輸距離。在比較100G DWDM PAM4與相干光模塊時，它
2021-03-04 10:05:34
段內速率增長了10倍：從2011年的40G增長到今天的400G，在不久的將來還會有800G的可插拔光模塊出現。圖1：相干DWDM模塊的演變相干光學技術的引入是DWDM系統開發中最重要的創新之一。相干光
2021-01-29 15:33:56
WDM環網結構，低成本彩光模塊有待研發。80km及以上傳輸距離，相干光模塊將成為主流。標準化方面，OIF 400ZR基本方案已確定（64GBaud DP-16QAM），IEEE802.3b10k已確定
2019-12-12 17:36:16
模塊的選型和數量會有較大差異，客戶提出了50G的需求，我們會積極響應客戶需求。 5G回傳：相干光模塊 回傳將采用相干光模塊，接口帶寬超100G，預計200G相干占2/3，400G相干占1/3。從前
2019-11-07 17:23:35
之間的映射位。主要區別在于線路側光電組件，波長數量，DAC和ADC的數量。800G相干光模塊相干DSP比PAM4稍微復雜一些，但不會對成本造成太大影響。對于800Gb/s的凈數據速率，相干光模塊在雙
2020-10-23 11:06:14
，購買或者開發EUV光刻機是否必要？中國應如何切實推進半導體設備產業的發展？EUV面向7nm和5nm節點所謂極紫外光刻，是一種應用于現代集成電路制造的光刻技術，它采用波長為10～14納米的極紫外光作為
2017-11-14 16:24:44
光模塊是什么？光模塊有著哪些分類呢？光模塊的作用是什么？
2021-05-18 06:53:56
300~500nmKrF：波長248.8nmArF：波長193nm衍射效應對光刻圖案的影響左圖是理想的光強分布，由于光的衍射效應，實際的光強分布如右圖所示。當光的波長與mask的特征尺寸可比時，會產生明顯的衍射效應。如上圖所示，透過mask的光相互疊加，使得不該受到光照的區域被曝光。
2014-09-26 10:35:02
數量級范圍。光刻技術成為一種精密的微細加工技術?！ 〕Ｒ?b class="flag-6" style="color: red">光刻技術是采用波長為2000～4500埃的紫外光作為圖像信息載體，以光致抗蝕劑為中間（圖像記錄）媒介實現圖形的變換、轉移和處理，最終把圖像信息
2012-01-12 10:51:59
，光源是ArF（氟化氬）準分子激光器，從45nm到10/7nm工藝都可以使用這種光刻機，但是到了7nm這個節點已經的DUV光刻的極限，所以Intel、三星和臺積電都會在7nm這個節點引入極紫外光（EUV
2020-07-07 14:22:55
把被攝物體的影像復制到底片上?！ 《鳤SML光刻機在做的光刻，我們稱之為微影制程，原理是將高能雷射光穿過光罩（reticle），將光罩上的電路圖形透過聚光鏡（projectionlens），將影像縮小
2020-09-02 17:38:07
。光刻機的曝光波長也在由紫外譜g線 (436nm)→i線(365nm)→248nm→193nm→極紫外光（EUV）→X射線，甚至采用非光學光刻（電子束曝光、離子束曝光），光刻膠產品的綜合性能也必須隨之
2018-08-23 11:56:31
，他們發現了一個可以解決120km以內的數據中心互連（DCI）的機會。在這樣的背景下，光互聯網絡論壇（OIF）于2016年啟動了一個項目，旨在標準化可互操作的相干光器件接口，其功率預算可以支持
2020-10-23 11:09:02
是光通信技術制高點。易飛揚秉承光互連設計革新者的理念，于2018年初正式投資進入相干光模塊開發，開放性地與上游供應鏈進行戰略合作，在低功耗設計、信號調制模型上進行優化創新，取得了重大成果。為順利啟動商用
2020-06-19 09:59:49
為什么在骨干網，長距傳輸上選擇了相干光通信？了解相干光通信之前所需的知識儲備QPSK，QAM等復雜調制格式具體實現的方式
2021-02-04 07:31:07
,Transceiver Module（思科官網上的叫法）。另外，如SFP光模塊，SFP Transceiver也是最常用的叫法。光模塊品牌：目前市場上主流的光模塊品牌有F-tone(北億纖通),思科，華為，H3C，HP，中興等，另外，近年來國內更是出現了大量新興品牌。
2022-04-13 11:23:45
什么是CWDM光模塊？CWDM光模塊有哪些封裝方式？CWDM光模塊應用在什么地方？
2021-05-18 06:46:07
什么是SFP光模塊？SFP光模塊由哪些器件構成？SFP光模塊有哪些分類？
2021-05-17 06:09:51
光互連、高清視頻光傳輸、5G 光網絡、相干光通信和硅光芯片集成，主要產品包括光模塊、有源光纜、MPO布線系統、光無源器件、相干光模塊和光模塊云平臺?！ 。?）華工正源 華工正源成立于2001年
2020-03-17 14:27:57
，改變空間上光分布的振幅或強度、相位、偏振態以及波長，或者把非相干光轉化成相干光。由于它的這種性質，可作為實時光學信息處理、光計算和光學神經網絡等系統中構造單元或關鍵的器件?？臻g光調制器一般按照讀出光
2021-04-14 17:45:37
單片機中步進電機與光控無法同時使用
2013-05-01 22:27:26
光模塊是光纖通信系統中重要的器件。華為光模塊是國內品牌"華為"的光模塊，通常原裝光模塊的價格都過于昂貴。在這個環境下，有一些其他的公司也在開發生產光模塊，被稱為第三方光模塊
2016-11-12 10:27:40
影響相干光學采集系統的因素有哪些？
2021-05-08 08:54:30
主要是光模塊、光無源器件、相干光通信模塊與子系統。易飛揚重點服務數據中心、5G承載網、城域波分傳輸、超高清廣播視訊等應用領域，是一家創新設計的高速光互連硬件解決方案商。
2021-08-05 15:10:49
、打造開放共贏的5G產業。作為5G參與的重要一員，易飛揚將攜200G數字相干光模塊最新產品全程參與，并于現場進行產品演示。今年是全球5G發展里程碑的一年，也是中國5G商用元年。為了能夠滿足5G高速光網
2020-01-07 10:35:51
`[中國，深圳，2021年6月4日]近日，為適應DCI市場需求，全球光互連設計革新者——易飛揚（GIGALIGHT）發布了一款經濟型Transponder&Muxponder相干光
2021-06-04 16:38:39
Transponder&Muxponder相干光傳輸子系統極簡解決方案，可支持200G CFP2 DCO、100G CFP2 DCO相干光模塊, 200G Muxponder光轉換單元、摻鉺光纖
2021-09-24 09:33:50
40km不需要相干光模塊的問題。當前易飛揚完整的200G產品線如下：有源光纜系列200G QSFP-DD AOC200G QSFP56 AOC直連銅纜系列200G QSFP56 PCC200G
2021-07-08 11:20:37
：系統支持10G/25G/40G/100G混合接入，按照25G信號要求進行色散使用，能夠滿足其它速率信號傳輸要求。 對于超長距離的DCI，最有效的傳輸技術是相干光傳輸。通過建立快速、可靠的連接，物理上獨立
2021-07-26 16:37:31
對比度從無孔時的22%增大到36%,影響光SSD效果;分析給出了滿足光SSD使用的空間濾波器的小孔尺寸?！娟P鍵詞】：譜色散勻滑;;空間濾波器;;柯林斯傳輸公式;;硬邊光闌;;透鏡陣列【DOI】：CNKI
2010-04-26 16:14:36
請問有“基于數字信號處理的相干光通信技術”電子版么？謝謝！
2021-06-22 06:26:37
器件服務。內置EDFA的數字相干光模塊有助于幫助云和電信運營商降低運營成本和投資成本，延長傳輸距離，加快高速系統的部署進度。CFP2-DCO相干光模塊結構圖傳統EDFA尺寸大、功耗高、成本高，已經無法
2020-12-15 09:47:26
據羊城晚報報道，近日中芯國際從荷蘭進口的一臺大型光刻機，順利通過深圳出口加工區場站兩道閘口進入廠區，中芯國際發表公告稱該光刻機并非此前盛傳的EUV光刻機，主要用于企業復工復產后的生產線擴容。我們知道
2021-07-29 09:36:46
便攜式LED勻光勘察光源JW7112/HP_痕跡勘查燈不僅具有普通強光手電的照明功能，也可通過增加濾光片形成多波段光源，實現一燈多用，適用于現場
2023-03-30 11:34:34
華為逆變器SUN2000-100kTL-M2智能光伏控制器技術參數：產品型號：SUN2000-100KTL-M2產品名稱：華為光伏逆變器100KW、華為智能光伏控制器、華為光伏并網100KW逆變器
2023-08-29 17:01:25
測試、測量及監測儀器的全球領導廠商---泰克公司日前在亞洲光纖通信與光電國際會議 （ACP 2013）上展出了其最新前沿相干光測試完整解決方案，其中包括寬帶OFDM光通信系統測試解決方案、400G/1Tbps多載波相干光調制方案以及40G/100G光通信一致性解決方案。
2013-12-02 14:28:54911 成功選擇相干光采集系統的關鍵
2017-01-14 14:42:25
14 相干光正交頻分復用系統偏振模色散研究_郝耀鴻
2017-01-07 16:52:062 相干光測試常見發射機及接收機的劣化
2017-01-08 14:27:4934 深入洞察相干光通信系統
2017-09-01 11:14:3312 在相干光通信中主要利用了相干調制和外差檢測技術。所謂相干調制，就是利用要傳輸的信號來改變光載波的頻率、相位和振幅，這就需要光信號有確定的頻率和相位，即應是相干光。激光就是一種相干光。
2018-02-09 15:35:3822124 
隨著三星宣布7nm EUV工藝的量產，2018年EUV光刻工藝終于商業化了，這是EUV工藝研發三十年來的一個里程碑。不過EUV工藝要想大規模量產還有很多技術挑戰，目前的光源功率以及晶圓產能輸出還沒有
2018-10-30 16:28:403376 掌握全球唯一EUV光刻機研發、生產的荷蘭ASML（阿斯麥）公司今天發布了2019年Q2季度財報，當季營收25.68億歐元，其中凈設備銷售額18.51億歐元，總計出貨了41臺光刻機，其中EUV光刻機7臺。
2019-07-23 10:47:213102 
格芯首席技術官Gary Patton表示，如果在5nm的時候沒有使用EUV光刻機，那么光刻的步驟將會超過100步，這會讓人瘋狂。所以所EUV光刻機無疑是未來5nm和3nm芯片的最重要生產工具，未來圍繞EUV光刻機的爭奪戰將會變得異常激烈。因為這是決定這些廠商未來在先進工藝市場競爭的關鍵。
2019-09-03 17:18:1812845 
相干光通信的理論和實驗始于80年代。由于相干光通信系統被公認為具有靈敏度高的優勢，各國在相干光傳輸技術上做了大量研究工作。經過十年的研究，相干光通信進入實用階段。英美日等國相繼進行了一系列相干光通信實驗。
2019-09-26 15:48:21930 
近些年來EUV光刻這個詞大家應該聽得越來越多，三星在去年發布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片，臺積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝，蘋果的A13
2020-02-29 10:58:473149 近些年來EUV光刻這個詞大家應該聽得越來越多，三星在去年發布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片，臺積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝，蘋果的A13
2020-02-29 11:42:4529308 在EUV光刻機方面，荷蘭ASML（阿斯麥）公司壟斷了目前的EUV光刻機，去年出貨26臺，創造了新紀錄。據報道，ASML公司正在研發新一代EUV光刻機，預計在2022年開始出貨。
2020-03-17 09:21:194670 與此同時， 他指出，EUV繼續為ASML的客戶提高產量，迄今為止，他們的客戶已經使用EUV光刻機曝光了超過1100萬個EUV晶圓，并交付了57個3400x EUV系統（3400平臺是EUV生產平臺）。
2020-08-14 11:20:552048 
業內領先的高端光模塊解決方案提供商蘇州旭創科技有限公司今日宣布2020年上半年成功推出的100G/200G/400G CFP2 DCO系列的相干光模塊產品將于9月9-11日在深圳光博會（CIOE）現場進行展示，旭創展位號：8B53。
2020-08-20 11:01:042154 ASML的EUV光刻機是目前全球唯一可以滿足22nm以下制程芯片生產的設備，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻機必不可缺。一臺EUV光刻機的售價為1.48億歐元，折合人民幣高達11.74億元
2020-10-19 12:02:499647 
臺積電是第一家將EUV（極紫外）光刻工藝商用到晶圓代工的企業，目前投產的工藝包括N7+、N6和N5三代。
2020-10-22 14:48:561425 援引韓媒 BusinessKorea 報道，以三星為代表的韓國企業在 EUV 光刻技術方面取得了極大進展。根據對韓國知識產權局（KIPO）過去十年（2011-2020）的 EUV 相關專利統計，在 2014 年達到 88 項的頂峰，2018 年為 55 項，2019 年為 50 項。
2020-11-16 17:26:111397 在半導體工藝進入7nm之后，EUV光刻機就成為兵家必備大殺器了，全球也只有ASML公司能生產，單價達到10億人民幣一臺。不過在EUV技術上，ASML還真不一定就是第一，專利比三星還少。
2020-11-17 09:33:371298 在半導體工藝進入7nm之后，EUV光刻機就成為兵家必備大殺器了，全球也只有ASML公司能生產，單價達到10億人民幣一臺。不過在EUV技術上，ASML還真不一定就是第一，專利比三星還少。
2020-11-17 10:25:182211 EUV光刻（即極紫外光刻）利用波長非常短的光，在硅片上形成數十億個微小結構，構成一個芯片。與老式光刻機相比，EUV設備可以生產更小、更快、更強大的芯片。
2020-12-29 16:20:301425 上學的時候估計學到過，例如光干涉的原理。 如上圖獲得相干光的方法，雙縫衍射出現明暗條紋。 相干光就是頻率＼偏振＼和傳播方向相同的光波。如果一個光源在不大于Ｔｃ的兩個時刻 發出的光，在經過不同路
2021-01-08 09:23:478490 
EUV（極紫外光）光刻機，是目前半導體產業已投入規模生產使用的最先進光刻機類型。近來，有不少消息都指出，EUV光刻機耗電量非常大，甚至它還成為困擾臺積電的一大難題。 為何EUV光刻機會這么耗電
2021-02-14 14:05:003915 目前，還有ASML有能力生產最先進的EUV光刻機，三星、臺積電都是ASML的客戶。但受《瓦森納協定》的制約，中國大陸沒有從ASML買來一臺EUV光刻機。
2021-01-21 08:56:184078 ASML公司前兩天發布了財報，全年凈銷售額140億歐元，EUV光刻機出貨31臺，帶來了45億歐元的營收，單價差不多11.4億歐元了。 雖然業績增長很亮眼，但是ASML也有隱憂，實際上EUV光刻
2021-01-22 17:55:242639 隨著半導體工藝進入10nm節點以下，EUV光刻機成為制高點，之前臺積電搶購了全球多數的EUV光刻機，率先量產7nm、5nm工藝，現在內存廠商也要入場了，SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機。
2021-02-25 09:28:551644 六幺四科技與羅德與施瓦茨（以下簡稱"RS公司"）67GHz矢量網絡分析儀 ZVA67 協同工作，推出相干光接收元器件片上測試的完整解決方案 —— ICRA-67 相干光接收元器件分析儀可實現器件
2021-09-03 10:20:161579 電子發燒友網報道（文/周凱揚）作為近乎壟斷的光刻機巨頭，ASML的EUV光刻機已經在全球頂尖的晶圓廠中獲得了使用。無論是英特爾、臺積電還是三星，EUV光刻機的購置已經是生產支出中很大的一筆，也成了
2021-12-07 14:01:1010742 今天這篇文章，我們來聊聊一個“網紅”技術——相干光通信。
2022-04-14 09:15:435616 在相干光通信中，相干檢測要求信號光與本振光的偏振方向相同，即兩者的電矢量方向必須相同，才能獲得相干接收所能提供的高靈敏度。
2022-05-07 16:39:016001 
臺積電和三星從7nm工藝節點就開始應用EUV光刻層了，并且在隨后的工藝迭代中，逐步增加半導體制造過程中的EUV光刻層數。
2022-05-13 14:43:202077 
盡管CFP和CFP2數字相干光學器件可以快速高效地工作，但與其他封裝相比，它們使用的功率更大且成本更高，這些缺點可能會影響總運營成本，這給在經濟預算內需要優質100G DWDM可插拔光模塊的企業帶來了挑戰。
2022-06-06 17:13:4810935 
HVM中的EUV光刻
?背景和歷史
?使用NXE的EUV光刻：3400B
?EUV生成原理
?EUV來源：架構
?現場EUV源
?電源展望
?總結
2022-06-13 14:45:450 中國芯的進步那是有目共睹，我國在光刻機，特別是在EUV光刻機方面，更是不斷尋求填補空白的途徑。
2022-07-05 10:38:3516742 光刻機是芯片制造的核心設備之一。目前世界上最先進的光刻機是荷蘭ASML的EUV光刻機。
2022-07-06 11:03:077000 如今世界最先進的EUV光刻機，只有asml一家公司可以制造出來。
2022-07-06 11:19:3850686 EUV光刻機是在2018年開始出現，并在2019年開始大量交付，而臺積電也是在2019年推出了7nm EUV工藝。
2022-07-07 09:48:444523 說到芯片，估計每個人都知道它是什么，但說到光刻，許多人可能不知道它是什么。光刻機是制造芯片的機器和設備。沒有光刻機的話，就無法生產芯片，因此每個人都知道光刻機對芯片制造業的重要性。那么euv光刻
2022-07-10 11:42:276977 機可以生產出納米尺寸更小、功能更強大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻機生產。 EUV光刻機有光源系統、光學鏡頭、雙工作臺系統三大核心技術。 目前，最先進的光刻機是荷蘭ASML公司的EUV光刻機。預計在光路系統的幫助下，能
2022-07-10 14:35:066173 目前，光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV是深紫外線，EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術，EUV使用的是深紫外光刻技術。EUV為先進工藝芯片光刻的發展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127 euv光刻機原理是什么 芯片生產的工具就是紫外光刻機，是大規模集成電路生產的核心設備，對芯片技術有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機生產。那么euv光刻機原理是什么呢？ EUV
2022-07-10 15:28:1015099 與此同時，在ASML看來，下一代高NA EUV光刻機為光刻膠再度帶來了挑戰，更少的隨機效應、更高的分辨率和更薄的厚度。首先傳統的正膠和負膠肯定是沒法用了，DUV光刻機上常用的化學放大光刻膠（CAR）也開始在5nm之后的分辨率和敏感度上出現瓶頸
2022-07-22 10:40:082010 光刻是半導體工藝中最關鍵的步驟之一。EUV是當今半導體行業最熱門的關鍵詞，也是光刻技術。為了更好地理解 EUV 是什么，讓我們仔細看看光刻技術。
2022-10-18 12:54:053180 該照明系統3包括視場復眼鏡31(field flyeye mirror，FFM)、光闌復眼鏡 32(diaphragm flyeye mirror，PFM)、中繼鏡組33；其中，中繼鏡組33通常可以包括兩個或者兩個以上的中繼鏡。
2022-11-21 11:09:39689 申請號為 CN202110524685.X。這能解決相干光因形成固定的干涉圖樣而無法勻光的問題，這個也是 EUV 光刻常見問題。 從介紹中可以看出，該專利提供了一種光刻裝置，通過不斷改變相干光形成的干涉圖樣，使得照明視場在曝光時間內的積累光強均勻化，從而達到勻光的目的，繼而
2022-11-21 15:10:072616 
電子發燒友網報道（文/ 周凱揚 ）到了3nm這個工藝節點之后，單靠現有的0.33NA EUV光刻機就很難維系下去了。 為了實現2nm乃至未來的埃米級工藝，將晶體管密度推向1000MTr/mm2，全面
2022-12-07 07:25:02952 過去二十年見證了193 nm以下波長光刻技術的發展。在使用 F2 準分子激光器開發基于 157 納米的光刻技術方面付出了一些努力，但主要關注點是使用 13.5 納米軟 X 射線作為光源的極紫外 (EUV) 光刻技術。
2023-02-02 11:49:592234 引言
相干光通信系統具有非常多的優點，廣泛運用在長距離光傳送網中。近年來，隨著網絡流量的爆炸式增長，數據中心對數據傳輸速度也提出了新的要求，相干光通信在數據中心短距光互連中也體現出
來了許許多多
2023-05-17 11:14:482 EUV光刻技術仍被認為是實現半導體行業持續創新的關鍵途徑。隨著技術的不斷發展和成熟，預計EUV光刻將在未來繼續推動芯片制程的進步。
2023-05-18 15:49:041792 
相干下沉是最近幾年相干光通信的一個熱門發展趨勢。相干光信號采用偏振復用的矢量信號，能在有限的帶寬內傳輸更大的數據，所以可以用在數據中心之間互連的場景中，傳輸距離80-120km，比如常說的400ZR和800ZR。
2023-06-13 10:52:58472 
EUV掩膜，也稱為EUV掩?；?b class="flag-6" style="color: red">EUV光刻掩膜，對于極紫外光刻（EUVL）這種先進光刻技術至關重要。EUV光刻是一種先進技術，用于制造具有更小特征尺寸和增強性能的下一代半導體器件。
2023-08-07 15:55:02399 EUV 光是指用于微芯片光刻的極紫外光，涉及在微芯片晶圓上涂上感光材料并小心地將其曝光。這會將圖案打印到晶圓上，用于微芯片設計過程中的后續步驟。
2023-10-30 12:22:55615 三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工藝
2023-11-23 18:13:02579 
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