光刻機是集成電路制造的關鍵核心設備，為了在更小的物理空間集成更多的電子元件，單個電路的物理尺寸越來越小，主流光刻機在硅片上投射的光刻電路分辨率達到50-90nm。
2016-12-13 02:04:11
12251 傳統(tǒng)的光刻工藝是相對目前已經(jīng)或尚未應用于集成電路產(chǎn)業(yè)的先進光刻工藝而言的，普遍認為 193nm 波長的 ArF 深紫外光刻工藝是分水嶺（見下表）。這是因為 193nm 的光刻依靠浸沒式和多重曝光技術的支撐，可以滿足從 0.13um至7nm 共9個技術節(jié)點的光刻需要。
2022-10-18 11:20:2913995 翁壽松(無錫市羅特電子有限公司，江蘇無錫214001)1 32 nm/22 nm工藝進展2006年1月英特爾推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特爾將投資90億美元在以下4座
2019-07-01 07:22:23
隨著半導體技術的發(fā)展，光刻技術傳遞圖形的尺寸限度縮小了2～3個數(shù)量級（從毫米級到亞微米級），已從常規(guī)光學技術發(fā)展到應用電子束、 X射線、微離子束、激光等新技術；使用波長已從4000埃擴展到 0.1埃
2012-01-12 10:51:59
300~500nmKrF：波長248.8nmArF：波長193nm衍射效應對光刻圖案的影響左圖是理想的光強分布，由于光的衍射效應，實際的光強分布如右圖所示。當光的波長與mask的特征尺寸可比時，會產(chǎn)生明顯的衍射效應。如上圖所示，透過mask的光相互疊加，使得不該受到光照的區(qū)域被曝光。
2014-09-26 10:35:02
一、光刻膠的選擇光刻膠包括兩種基本的類型：正性光刻和負性光刻，區(qū)別如下
2021-01-12 10:17:47
?！ 槭裁葱枰狤UV光刻？ EUV的優(yōu)勢之一是減少了芯片處理步驟，而使用EUV代替?zhèn)鹘y(tǒng)的多重曝光技術將大大減少沉積、蝕刻和測量的步驟。目前EUV技術主要運用在邏輯工藝制程中，這導致了2019年訂單
2020-07-07 14:22:55
芯片制造流程其實是多道工序將各種特性的材料打磨成形，經(jīng)循環(huán)往復百次后，在晶圓上“刻”出各種電子特性的區(qū)域，最后形成數(shù)十億個晶體管并被組合成電子元件。那光刻，整個流程中的一個重要步驟，其實并沒有
2020-09-02 17:38:07
、SU-8光刻膠在近紫外光(365nm- 400nm)范圍內光吸收度很低，且整個光刻膠層所獲得的曝光量均勻一致，可得到具有垂直側壁和高深寬比的厚膜圖形；2、SU-8光刻膠具有良好的力學性能、抗化學腐蝕性
2018-07-12 11:57:08
光刻膠也稱為光致抗蝕劑，是一種光敏材料，它受到光照后特性會發(fā)生改變。光刻膠主要用來將光刻掩膜版上的圖形轉移到晶圓片上。光刻膠有正膠和負膠之分。正膠經(jīng)過曝光后，受到光照的部分變得容易溶解，經(jīng)過顯影后被
2019-11-07 09:00:18
提高，才能符合集成工藝制程的要求 [3]。以下幾點為光刻膠制造中的關鍵技術：配方技術、超潔凈技術、超微量分析技術及應用檢測能力。 制程特性要求有：涂布均勻性、靈敏度、分辨率及制程寬容度。2 光刻膠的反應
2018-08-23 11:56:31
Futurrex,成立于1985年，位總部設在美國新澤西州，富蘭克林市。 公司業(yè)務范圍覆蓋北美、亞太以及歐洲。Futurrex在開發(fā)最高端產(chǎn)品方面已經(jīng)有很長的歷史，尤其是其光刻
2010-04-21 10:57:46
今日（5月6日）消息，IBM宣布造出了全球第一顆2nm工藝的半導體芯片。核心指標方面，IBM稱該2nm芯片的晶體管密度（MTr/mm2，每平方...
2021-07-20 06:51:04
、芯片封裝和微加工等領域。目前，直接采用 SU- 8 光刻膠來制備深寬比高的微結構與微零件已經(jīng)成為微加工領域的一項新技術。SU 8光刻膠光刻前清洗工藝：為了獲得更好的光刻效果，在進行光刻膠旋涂之前，需要
2018-07-04 14:42:34
在智能手機等眾多數(shù)碼產(chǎn)品的更新迭代中，科技的改變悄然發(fā)生。蘋果A15仿生芯片等尖端芯片正使得更多革新技術成為可能。這些芯片是如何被制造出來的，其中又有哪些關鍵步驟呢？智能手機、個人電腦、游戲機這類
2022-04-08 15:12:41
就可能在掩膜版上造成損傷,這樣在今后所有利用這塊掩膜版進行暴光的硅片上都會出現(xiàn)這個缺陷.因此,采用接觸式光刻很難得到?jīng)]有缺陷的超大規(guī)模集成電路芯片,所以接觸式光刻技術一般只適用于中小規(guī)模集成電路。
2012-01-12 10:56:23
半導體制造設備，涉及的廠商主要有ASML、KLA、應用材料、中微半導體等，他們供應的光刻機、蝕刻機等都是制造芯片的重要設備。2019年1-11月，臺積電的半導體制造設備采購金額達105億美元，同比
2020-03-09 10:13:54
，小米9pro，oppo Reno3以及vivo X30）分別采用了什么芯片？ 3協(xié)同通信的方式有哪些？ 4大數(shù)據(jù)及認知無線電（名詞解釋） 4半導體工藝的4個主要步驟： 4簡敘半導體光刻技術基本原理 4給出4個全球著名的半導體設備制造商并指出其生產(chǎn)的設備核心技術： 5衛(wèi)
2021-07-26 08:31:09
的韋亞一研究員及其團隊具有多年的學術界及工業(yè)界的光刻技術經(jīng)驗積累，并出版有多本專著，其中《計算光刻與版圖優(yōu)化》一書更是列入中國科學院大學研究生教學輔導書系列。本號獲授權將陸續(xù)介紹《集成電路先進光刻技術
2021-10-14 09:58:07
`一、照明用LED光源照亮未來 隨著市場的持續(xù)增長，LED制造業(yè)對于產(chǎn)能和成品率的要求變得越來越高。激光加工技術迅速成為LED制造業(yè)普遍的工具，甚者成為了高亮度LED晶圓加工的工業(yè)標準?！ 〖?b class="flag-6" style="color: red">光刻
2011-12-01 11:48:46
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻機作為集成電路制造中最關鍵的設備，對芯片制作工藝有著決定性的影響，被譽為“超精密制造技術皇冠上的明珠”，根據(jù)之前中芯國際的公報，目...
2021-07-29 09:36:46
在SEMICON West上另一個熱點是光刻技術能否達到15nm的經(jīng)濟制造?半導體業(yè)是有希望未來采用EUV技術。
2011-03-08 10:09:572516 擺脫光刻技術的沮喪看來遙遙無期。今天的193nm浸入式光刻技術仍然遠遠領先。業(yè)界一度認為193nm浸入式光刻會在32nm遭遇極限
2011-03-21 10:00:332507 
光刻技術是集成電路最重要的加工工藝。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻技術。光刻也是制造芯片的最關鍵技術，占芯片制造成本的35%以上。
2018-04-22 17:54:003147 在集成電路的制造過程中，有一個重要的環(huán)節(jié)——光刻，正因為有了它，我們才能在微小的芯片上實現(xiàn)功能。
2018-12-29 15:32:095670 在集成電路的制造過程中，有一個重要的環(huán)節(jié)——光刻，正因為有了它，我們才能在微小的芯片上實現(xiàn)功能。
2019-01-03 15:31:596279 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術。光刻也是制造芯片的最關鍵技術，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會發(fā)展中，光刻技術的增長，直接關系到大型計算機的運作等高科技領域。
2019-02-25 10:07:535812 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術。
2019-03-02 09:41:2911136 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術。光刻也是制造芯片的最關鍵技術，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會發(fā)展中，光刻技術的增長，直接關系到大型計算機的運作等高科技領域。
2019-03-03 10:00:314088 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。光刻是制造芯片的最關鍵技術，在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術。
2019-11-23 10:45:54158604 光刻機是芯片制造最為重要的設備之一。目前，ASML壟斷了全世界的高端光刻機。中國一直以來都想掌握光刻機技術，但是上海微電子經(jīng)過17年的努力，才造出90nm的光刻機，這已經(jīng)十分不容易了，這可是0的突破。那么為什么光刻機這么難造呢？
2020-01-29 11:07:007799 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術。光刻也是制造芯片的最關鍵技術，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會發(fā)展中，光刻技術的增長，直接關系到大型計算機的運作等高科技領域。
2019-12-21 09:58:4020182 據(jù)國外媒體報道，在芯片的制造過程中，光刻機是必不可少的設備，在芯片工藝提升到7nm EUV、5nm之后，極紫外光刻機也就至關重要。
2020-03-07 14:39:545045 光刻機是芯片制造的核心設備之一，作為目前世界上最復雜的精密設備之一，其實光刻機除了能用于生產(chǎn)芯片之外，還有用于封裝的光刻機，或者是用于LED制造領域的投影光刻機。目前，我國高端的光刻機，基本上是從荷蘭ASML進口的。
2020-03-18 11:12:0244388 對于芯片制造廠商來說，光刻機的重要性不言而喻，尤其是目前芯片制造工藝已經(jīng)提升至5nm和3nm之后，極紫外光刻機就顯得更為重要。而ASML作為全球唯一有能力制造極紫外光刻機的廠商，他的一舉一動，牽動著所有相關產(chǎn)業(yè)上下游廠商的心。
2020-04-15 09:27:561851 對于芯片制造廠商來說，光刻機的重要性不言而喻，尤其是目前芯片制造工藝已經(jīng)提升至5nm和3nm之后，極紫外光刻機就顯得更為重要。而ASML作為全球唯一有能力制造極紫外光刻機的廠商，他的一舉一動，牽動著所有相關產(chǎn)業(yè)上下游廠商的心。
2020-04-15 15:44:364093 光刻機是中國在半導體設備制造上的大短板。 生產(chǎn)芯片的光刻機又根據(jù)工藝分為High End光刻機和Medium and low end光刻機，雖然在High End光刻機上被荷蘭的阿斯麥所壟斷，但在Medium and low end光刻機方面中國的技術已經(jīng)較為成熟，且不斷在向High End光刻機突破。
2020-06-15 08:05:54999 （CCL）中。而這其中包括了極紫外線（EUV）掩模的計算光刻技術軟件和5nm 生產(chǎn)精加工芯片的技術，兩條直指了對芯片的制造的封鎖。 據(jù)了解，目前受到出口管制的新興技術總數(shù)已經(jīng)達到了37項。美國商務部在官網(wǎng)發(fā)布公告中寫道：此舉是為了支持關鍵及新
2020-10-27 10:49:102285 在集成電路的制造過程中，有一個重要的環(huán)節(jié)光刻，正因為有了它，我們才能在微小的芯片上實現(xiàn)功能。 根據(jù)維基百科的定義，光刻是半導體器件制造工藝中的一個重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫
2020-11-11 10:14:2022384 本月中旬，在日本東京舉辦了ITF論壇。 論壇上，與ASML（阿斯麥）合作研發(fā)光刻機的比利時半導體研究機構IMEC公布了3nm及以下制程的在微縮層面技術細節(jié)。 至少就目前而言，ASML對于3m、2nm
2020-11-30 15:47:402520 摘要：芯片制造用到的技術很多，光刻是芯片制造的靈魂技術，但是開始的時候，光刻并不是所有技術中最厲害的?，F(xiàn)在大眾認識到了芯片的重要性，討論芯片產(chǎn)業(yè)的卡脖子問題時，提到最多的是光刻和光刻機。那么，光刻
2020-12-04 15:45:285142 5nm光刻技術與ASML光刻機有何區(qū)別？ EUV光刻機產(chǎn)能如何？ 大飛_6g（聽友） 請問謝博士，EUV光刻機的產(chǎn)能是怎樣的？比如用最先進的光刻機，滿負荷生產(chǎn)手機芯片麒麟990，每天能產(chǎn)多少片？中芯國際有多少臺投入生產(chǎn)的光刻機？是1臺、5臺還是10臺呢？謝謝 謝志
2021-03-14 09:46:3023476 據(jù)國外媒體報道，當?shù)貢r間周四，IBM發(fā)布了全球首個2nm芯片制造技術。 在當前的半導體環(huán)境下，這件事意義確實重大，因為最近幾年領導先進工藝的是臺積電，IBM首發(fā)2nm工藝給美國公司贏回了面子。 性能
2021-05-10 14:38:142295 光刻機，是現(xiàn)代光學工業(yè)之花，是半導體行業(yè)中的核心技術。 ? ? ? ?可能有很多人都無法切身理解光刻機的重要地位，光刻機，是制造芯片的機器，要是沒有了光刻機，我們就沒有辦法造出芯片，自然也就
2021-07-07 14:31:18125772 光刻機原理怎么做芯片 光刻是集成電路中最重要的工藝，光刻機是制造芯片的核心裝備，在芯片的制作中，幾乎每個工藝的實施，都需要用到光刻技術?？梢哉f，光刻機是半導體界的一顆明珠。那么光刻機原理怎么做芯片
2021-08-07 14:54:5412869 光刻機是芯片制造的重要設備，內部結構精密復雜，它決定著芯片的制程工藝，是芯片生產(chǎn)中不可少的關鍵設備，而且光刻機的技術門檻極高，整個設備的不同部位采用了世界上最先進的技術
2021-12-30 09:46:534123 光刻機制作芯片過程非常復雜，而光刻機是制造芯片最重要的設備之一，由于先進光刻機的技術封鎖，中國芯片廠商的芯片制作工藝目前比較落后，也沒有優(yōu)秀的國產(chǎn)光刻機來掌握到最先進的光刻技術。
2021-12-30 11:23:2111145 “厚膜光刻”工藝是一種通過厚膜金屬化技術（簡稱“厚膜技術”）與光刻技術相結合，達到高精度、低成本、高效率、高靈活性，并已開始成熟商用化的新型微納量產(chǎn)制造技術。
2022-01-17 16:51:091400 
了High-NA光刻技術，High-NA指的是高數(shù)值孔徑，據(jù)了解，這種High-NA光刻技術能降低66%的尺寸，也就意味著芯片制程能夠進一步得到升級，芯片也將獲得更高的性能，2nm之后的技術都得用這種技術來實現(xiàn)。High-NA光刻技術被認為是延續(xù)摩爾定律的關鍵。 不
2022-05-22 14:40:593085 現(xiàn)在全球芯片行業(yè)都聚焦在了2nm制程上，臺積電、三星、IBM等芯片巨頭也都相繼宣布了2nm制程技術的相關消息，臺積電和三星已經(jīng)著手3nm制程的量產(chǎn)了，而在中國大陸，芯片行業(yè)還停留在研發(fā)7nm制程
2022-06-22 10:40:5135066 2nm制程的量產(chǎn)。 目前市面上最先進的是EUV光刻機，而其能夠支持制造的先進制程工藝最高為3nm，也就是說，再往后的2nm等工藝就要用更加先進的光刻機來完成。 ASML為此正在研發(fā)一種特別的EUV光刻機——High-NA EUV光刻機。這種光刻機所采用的技術能夠
2022-06-22 14:44:161183 2nm芯片是極限嗎 去年IBM公布的2nm芯片一時轟動了世界，而當時的三星和臺積電還在苦苦研發(fā)3nm技術。 到了現(xiàn)在，三星和臺積電的3nm技術終于要在下半年正式量產(chǎn)，可2nm芯片還要等很久，或許有人
2022-06-23 10:12:374233 去年IBM的2nm芯片橫空出世，并且同年傳出了中科院2nm芯片的新聞，據(jù)觀察，后續(xù)網(wǎng)上出現(xiàn)了類似“2nm芯片沒啥用”這樣的言論，那么IBM和中科院2nm芯片是什么意思呢？為什么會有人說2nm芯片沒啥
2022-06-23 10:27:2411861 IBM首發(fā)2nm芯片技術，芯片對于很多行業(yè)來說都十分重要，他們將成為世界上第一款采用2nm納米片技術的芯片，在半導體設計和工藝方面取得突破性進展，也給芯片制造業(yè)提供了一個更高的業(yè)界標桿。
2022-06-24 09:15:032730 在2022年北美技術論壇上，臺積電公布了未來現(xiàn)金制成的路線和2NM的相關信息，那么臺積電的2nm芯片用什么技術呢？又在哪里建廠生產(chǎn)2nm芯片呢？
2022-06-24 09:53:331510 的重要性，我國目前最先進的制程7nm還正在研發(fā)當中，那么2nm芯片與7nm芯片的差距有多大呢？ 拿臺積電的7nm舉例子，臺積電最初用DUV光刻機來完成7nm工藝，當時臺積電7nm工藝要比上一代16nm工藝密度高3.3倍，性能提升達到了35%以上，同樣性能下功耗減少了65%，在當時
2022-06-24 10:31:303662 早在2021年5月份美國的IBM公司就成功研制出2nm芯片的制造技術，2nm芯片的產(chǎn)生也預示著半導體行業(yè)朝著一個更高的水平發(fā)展。
2022-06-24 11:59:421728 知名IT巨頭IBM制造全球第一顆基于GAA的2nm芯片，在半導體設計上實現(xiàn)了突破。與主流7nm芯片相比，預計2nm芯片將實現(xiàn)性能提高45%或降低75%的功耗。
2022-06-27 09:25:351445 IBM突破了2nm的芯片研發(fā)技術，憑借2nm芯片的技術表現(xiàn)，將會在運算速度和應用前景得到質的飛躍，也將為摩爾定律的延續(xù)提供了新的方向。
2022-06-27 09:45:12971 業(yè)界對IBM制造出2nm芯片表現(xiàn)出極大興趣，很大程度在于2nm芯片意味著芯片性能的極大提升。
2022-06-27 10:18:471194 現(xiàn)階段全球芯片行業(yè)都聚焦在了2nm工藝制程上，臺積電、IBM等芯片巨頭也都相繼宣布了2nm制程技術的相關消息。
2022-06-27 16:55:3811543 在2021年5月份，IBM發(fā)布全球首個2nm制程芯片制造技術，全球首顆2nm芯片正式問世。近期，臺積電正式宣布用于生產(chǎn)納米片晶體管架構的2nm芯片，預計在2025年量產(chǎn)，三星電子也已經(jīng)開始大規(guī)模生產(chǎn)3nm芯片，2nm將于2025年量產(chǎn)。
2022-06-29 09:38:042826 除了需要依靠尖端的EUV光刻機之外，芯片廠商本身也需要很深的技術底蘊，臺積電對于技術的研發(fā)向來肯砸錢，無數(shù)的資金和資源涌入，也讓臺積電持續(xù)站在了巔峰，在制程工藝上的絕對領先優(yōu)勢，也保證了其源源不斷的訂單，最終也很好的確定了關于2nm芯片的方向。
2022-06-29 11:15:071451 隨著 0.55 NA EUV 光刻機量產(chǎn)提上日程，芯片廠商的“2nm 工藝戰(zhàn)”也將徹底打響。
2022-06-29 15:59:111297 IBM的2nm制程芯片采用的是什么技術？IBM 2nm制程芯片采用GAA環(huán)繞柵極晶體管技術，晶體管密度可達5nm兩倍，每平方毫米容納3.3億個晶體管，2nm芯片將計算速度要提高45%，能源效率更是提高75%，電池續(xù)航時間提升至之前的4倍。
2022-06-29 17:43:08885 就在我們在自己研制芯片得不到進展，國外的芯片被斷供的困局中，中科院傳來了一則振奮人心的消息：中科院的研究人員表示已經(jīng)突破了設計2nm芯片的瓶頸，成功地掌握了設計2nm芯片的技術，只要機器到位，就能實現(xiàn)量產(chǎn)。
2022-06-30 09:27:42238076 光刻機是制作芯片的關鍵設備，利用光刻機發(fā)出的紫外光源通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的硅片曝光，使光刻膠性質變化、達到圖形刻印在硅片上形成電子線路圖。我國目前還是采用什深紫外光的193nm制程工藝，如上海微電子裝備公司（CMEE）制程90nm工藝的光刻機，那么90nm光刻機能生產(chǎn)什么芯片呢？
2022-06-30 09:46:2131257 近日，臺積電在北美技術論壇上首次宣布，將推出下一代先進工藝制程2nm芯片，將采用GAAFET全環(huán)繞柵極晶體管技術，2nm工藝全球即將首發(fā)，臺積電公開承諾到2025年生產(chǎn)先進的2nm芯片。
2022-07-01 09:36:581660 什么叫2nm芯片 芯片這種東西大家都知道，無非是電子設備中的關鍵元器件，在之前IBM公司發(fā)布了轟動全球的2nm芯片，那么大家知道什么叫2nm芯片嗎？ 2nm芯片指的是采用了2nm制程工藝所制造
2022-07-04 10:08:3512809 IBM已經(jīng)突破了2nm的芯片研發(fā)技術，2nm芯片最小元件比NDA單鏈還要小，指甲蓋大小的芯片可以容納500億根晶體管，可以在不同的應用中提升計算速度。
2022-07-04 16:15:352113 臺積電正式公布2nm制造技術，該工藝廣泛使用EUV光刻技術，首次采用GAAFET全環(huán)繞柵極晶體管技術和背面供電技術，計劃于2025年實現(xiàn)量產(chǎn)。
2022-07-04 18:09:281281 中國芯片何時會突破2nm？目前，三星和臺積電的戰(zhàn)場已經(jīng)來到了2nm，臺積電已經(jīng)放出消息稱2nm技術預計要到2025年才能夠量產(chǎn)，將購入阿斯麥（ASML）最先進的高數(shù)值孔徑極紫外光刻機用來制造該芯片。
2022-07-05 09:42:125192 去年五月份，IBM公司領先全球制造出了首顆2nm制程工藝芯片，直到前幾天三星才開始首次量產(chǎn)3nm芯片，而IBM在去年就已經(jīng)研制出了2nm芯片，如此先進的技術自然就會有人疑惑2nm芯片一片
2022-07-05 09:16:132455 前不久，臺積電、三星電子已經(jīng)爆出公司2nm芯片新進展，紛紛的尋求下一代 EUV 光刻機，今年臺積電將實現(xiàn)3nm的量產(chǎn)，再往后就是在2025年量產(chǎn)2nm了，這也意味著現(xiàn)在2nm 技術戰(zhàn)已經(jīng)打響。
2022-07-05 10:05:352219 1、IBM的2nm芯片，所有關鍵功能都是使用EUV光刻機進行刻蝕。而7nm芯片只有在芯片生產(chǎn)的中間和后端環(huán)節(jié)使用EUV光刻機，意味著2nm工藝對EUV光刻機擁有更高的依賴性。
2022-07-05 17:26:497169 光刻機是制作芯片并不可少的重要工具，大家都知道，光刻機技術幾乎被荷蘭ASML所壟斷，那么全球最先進的光刻機是多少nm的？中國現(xiàn)在又能夠做出幾nm的芯片呢？
2022-07-06 10:07:15247354 如今芯片領域，2nm制程工藝已經(jīng)成為了一個浪潮，各大芯片廠商紛紛投入了大量資金到2nm的研發(fā)當中去，誰能搶先完成2nm芯片的量產(chǎn)，誰就能在芯片領域獲取壓倒性的優(yōu)勢，從而占據(jù)龐大的市場。 雖然IBM
2022-07-06 10:28:0718139 說到芯片，估計每個人都知道它是什么，但說到光刻，許多人可能不知道它是什么。光刻機是制造芯片的機器和設備。沒有光刻機的話，就無法生產(chǎn)芯片，因此每個人都知道光刻機對芯片制造業(yè)的重要性。那么euv光刻
2022-07-10 11:42:276977 目前，光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV是深紫外線，EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術，EUV使用的是深紫外光刻技術。EUV為先進工藝芯片光刻的發(fā)展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127 計算光刻 (Computational Lithography)技術是指利用計算機輔助技術來增強光刻工藝中圖形轉移保真度的一種方法，它是分辦率增強技術(ResolutionEnhancement
2022-10-26 15:46:222274 領域的突破成果.NVIDIA宣布推出一項將加速計算引入計算光刻技術領域的突破性成果。在當前生產(chǎn)工藝接近物理極限的情況下，這項突破使ASML、TSMC和Synopsys等半導體行業(yè)領導者能夠加快新一代芯片的設計和制造。 官網(wǎng)直播截圖 在2023GTC大會上黃仁勛表示：“芯片行業(yè)是全球幾乎所有其
2023-03-22 19:29:3110234 
為2nm及更先進芯片的生產(chǎn)提供更強大的助力。 計算光刻是芯片設計和制造領域中最大的計算工作負載，每年消耗數(shù)百億CPU小時。而NVIDIA cuLitho計算光刻庫利用GPU技術實現(xiàn)計算光刻，可以極大的降低功耗、節(jié)省時間。 目前臺積電、光刻機制造商阿斯麥，以及EDA巨頭新思科技都已經(jīng)導入
2023-03-23 18:55:377489 
數(shù)十年來，為制造工藝制作掩模一直是半導體制造中的重要環(huán)節(jié)。隨著我們轉向采用5nm、3nm甚至2nm等更先進的工藝節(jié)點，縮短計算光刻耗時可幫助半導體制造公司高效地制造芯片。作為該領域的先鋒企業(yè)，新思科
2023-03-25 16:40:01496 光刻技術簡單來講，就是將掩膜版圖形曝光至硅片的過程，是大規(guī)模集成電路的基礎。目前市場上主流技術是193nm沉浸式光刻技術，CPU所謂30nm工藝或者22nm工藝指的就是采用該技術獲得的電路尺寸。
2023-04-25 11:02:322261 
在整個芯片制造過程中，幾乎每一道工序的實施都離不開光刻技術。光刻技術也是制造芯片最關鍵的技術，占芯片制造成本的35%以上。
2023-04-26 08:57:031033 現(xiàn)代工藝技術將晶圓廠設備要求推向極限，需要實現(xiàn)突破其物理極限的高分辨率，這正是計算光刻技術發(fā)揮作用的地方。計算光刻就是為芯片生產(chǎn)制作光掩模的技術，它結合來自ASML設備和測試晶圓的關鍵數(shù)據(jù)，是一個模擬生產(chǎn)過程的算法。
2023-04-26 10:05:29918 使用尖端工藝技術生產(chǎn)芯片需要比以往更強大的計算能力。為了滿足2nm及更先進制程的需求，NVIDIA正在推出其cuLitho軟件庫
2023-04-26 10:06:52596 芯片前道制造可以劃分為七個環(huán)節(jié)，即沉積、涂膠、光刻、去膠、烘烤、刻蝕、離子注入。
2023-06-08 10:57:093765 
光刻機可分為前道光刻機和后道光刻機。光刻機既可以用在前道工藝，也可以用在后道工藝，前道光刻機用于芯片的制造，曝光工藝極其復雜，后道光刻機主要用于封裝測試，實現(xiàn)高性能的先進封裝，技術難度相對較小。
2023-06-09 10:49:205860 
當制程節(jié)點演進到5nm時，DUV和多重曝光技術的組合也難以滿足量產(chǎn)需求了，EUV光刻機就成為前道工序的必需品了，沒有它，很難制造出符合應用需求的5nm芯片，即使不用EUV能制造出一些5nm芯片，其整個生產(chǎn)線的良率也非常低，無法形成大規(guī)模的商業(yè)化生產(chǎn)。
2023-10-13 14:45:03842 
2nm芯片是什么意思 2nm芯片指的是采用了2nm制程工藝所制造出來的芯片，制程工藝的節(jié)點尺寸表示芯片上元件的最小尺寸。這意味著芯片上的晶體管和其他電子元件的尺寸可以達到2納米級別。 更小的節(jié)點尺寸
2023-10-19 16:59:161958 N2，也就是2nm，將采用GAAFET全環(huán)繞柵極晶體管技術，預計2025年實現(xiàn)量產(chǎn)。 2nm芯片是指采用了2nm制程工藝所制造出來的芯片，制程工藝的節(jié)點尺寸表示芯片上元件的最小尺寸。這意味著芯片上的晶體管和其他電子元件的尺寸可以達到2納米級別。 2nm芯片手機
2023-10-19 17:06:18799 了。 ? 芯片制造離不開光刻機，特別是在先進制程上，EUV光刻機由來自荷蘭的ASML所壟斷。同時，盡管目前市面上，EUV光刻機客戶僅有三家，但需求不斷增加的情況底下，EUV光刻機依然供不應求。 ? 針對后3nm時代的芯片制造工藝，High-NA（高數(shù)值孔徑）EUV光刻機
2022-06-29 08:32:004635
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