光刻機(jī)是集成電路制造的關(guān)鍵核心設(shè)備，為了在更小的物理空間集成更多的電子元件，單個電路的物理尺寸越來越小，主流光刻機(jī)在硅片上投射的光刻電路分辨率達(dá)到50-90nm。
2016-12-13 02:04:11
12251 本文主要對接觸式三維測量和非接觸式三維測量進(jìn)行了介紹。著重介紹了光學(xué)三維測量技術(shù)的各種實(shí)現(xiàn)方法及原理。最后對目前光學(xué)三維測量的應(yīng)用進(jìn)行了簡單介紹。
2022-07-13 10:09:283507 壓印光刻是許多新興應(yīng)用的關(guān)鍵技術(shù)，例如微光學(xué)、增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)、MEMS和光電傳感器;但它是什么以及它是如何工作的?
2022-07-25 16:15:071257 
關(guān)于紅外雨量計（光學(xué)雨量傳感器）的紅外光學(xué)測量技術(shù) 紅外雨量計是一種常用的雨量測量設(shè)備，它通過紅外光學(xué)測量技術(shù)來測量雨量。紅外光學(xué)測量技術(shù)是指利用光學(xué)原理和儀器對物體的紅外輻射進(jìn)行測量、分析和處理
2023-08-11 14:50:30804 
雙光子光刻技術(shù)能夠精確制備三維結(jié)構(gòu)，并將其精準(zhǔn)集成在光電芯片上，能夠在光纖-芯片以及芯片-芯片之間，構(gòu)建大帶寬、低損耗的光信號鏈路，實(shí)現(xiàn)光信號的高效互連，降低封裝過程的對準(zhǔn)精度，給光學(xué)芯片的封裝過程帶來了全新的機(jī)遇。
2023-11-06 14:36:30487 
隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小了2～3個數(shù)量級（從毫米級到亞微米級），已從常規(guī)光學(xué)技術(shù)發(fā)展到應(yīng)用電子束、 X射線、微離子束、激光等新技術(shù)；使用波長已從4000埃擴(kuò)展到 0.1埃
2012-01-12 10:51:59
300~500nmKrF：波長248.8nmArF：波長193nm衍射效應(yīng)對光刻圖案的影響左圖是理想的光強(qiáng)分布，由于光的衍射效應(yīng)，實(shí)際的光強(qiáng)分布如右圖所示。當(dāng)光的波長與mask的特征尺寸可比時，會產(chǎn)生明顯的衍射效應(yīng)。如上圖所示，透過mask的光相互疊加，使得不該受到光照的區(qū)域被曝光。
2014-09-26 10:35:02
。 為什么需要EUV光刻？ EUV的優(yōu)勢之一是減少了芯片處理步驟，而使用EUV代替?zhèn)鹘y(tǒng)的多重曝光技術(shù)將大大減少沉積、蝕刻和測量的步驟。目前EUV技術(shù)主要運(yùn)用在邏輯工藝制程中，這導(dǎo)致了2019年訂單
2020-07-07 14:22:55
文章編號：1003-353X(2005)06-0032-051 引言作為微電子技術(shù)核心的集成電路制造技術(shù)是電子工業(yè)的基礎(chǔ)，其發(fā)展更新的速度是其他產(chǎn)業(yè)無法企及的。在集成電路制作過程中，光刻是其關(guān)鍵工藝[1
2018-08-23 11:56:31
光學(xué)3D表面輪廓儀是基于白光干涉技術(shù)，結(jié)合精密Z向掃描模塊、3D 建模算法等快速、準(zhǔn)確測量物體表面的形狀和輪廓的檢測儀器。它利用光學(xué)投射原理，通過光學(xué)傳感器對物體表面進(jìn)行掃描，并根據(jù)反射光的信息來
2023-08-21 13:41:46
` 隨著傳感器技術(shù)、計算機(jī)應(yīng)用技術(shù)、超大規(guī)模集成電路技術(shù)和網(wǎng)絡(luò)通信技術(shù)的發(fā)展，光學(xué)測徑儀被廣泛的應(yīng)用于外徑檢測當(dāng)中，測徑儀隨著傳感器技術(shù)的愈加成熟，測量精度更高，測量更準(zhǔn)確，更適合現(xiàn)代化的生產(chǎn)工藝
2018-11-02 09:24:10
性化，可于不同倍率/不同光源下精密量測，知名度享譽(yù)世界及同業(yè)，且為美國第一大視覺量測制造廠。 2、光學(xué)影像檢測系統(tǒng)的作用 光學(xué)影像測量系統(tǒng)為現(xiàn)代制造機(jī)械的關(guān)鍵性設(shè)備，并廣泛應(yīng)用于機(jī)器視覺應(yīng)用領(lǐng)域，如
2012-08-07 22:14:19
成都力得納光科技有限公司本公司本著“誠信，創(chuàng)新”的原則，長期從事光學(xué)微結(jié)構(gòu)產(chǎn)品的研發(fā)、設(shè)計及生產(chǎn)制作 ，擁有專業(yè)的研發(fā)設(shè)計團(tuán)隊(duì)及良好的社會資源。公司承接業(yè)務(wù)范圍：光刻復(fù)制、激光直寫、微納結(jié)構(gòu)刻蝕傳遞
2016-06-23 16:14:13
光學(xué)測試技術(shù)光學(xué)測試技術(shù)
2012-11-20 16:47:57
現(xiàn)象在 1946 年由 Frank 和 Ginzburg 從理論上給予了預(yù)言[ 1] , 隨著測試技術(shù)的進(jìn)步、測量設(shè)備的更新和加速器研制的需要, 1975 年光學(xué)渡越輻射開始被用來測量和診斷電子束的束
2018-03-14 09:25:53
CCD光學(xué)測量系統(tǒng)原理
2012-07-20 22:57:56
在DDRx里面經(jīng)常會被一些縮寫誤擾，如OCD、OCT和ODT，我想有同樣困擾的大有人在，今天還是繼續(xù)上一篇的關(guān)鍵技術(shù)來介紹一下大家的這些困擾吧。片外驅(qū)動調(diào)校OCD（Off-Chip Driver
2016-08-31 11:36:41
希望使用matlab對攝像機(jī)實(shí)時獲得的圖像進(jìn)行尺寸測量，用什么模塊或者算法，跪求啊
2012-09-05 16:45:05
在PCB測量完尺寸后，留有黃色尺寸標(biāo)注，怎么讓其不顯示？
2019-05-22 02:13:51
利用CCD進(jìn)行光學(xué)測量，想知道ccd拍攝圖像的灰度值與相面上的照度和曝光時間有什么關(guān)系？知道了想灰度值、曝光時間等參數(shù)怎樣求得相面上的照度
2013-07-08 19:54:50
的關(guān)鍵。這包括使用新的材料讓沉積過程變得更為精準(zhǔn)的創(chuàng)新技術(shù)。光刻膠涂覆晶圓隨后會被涂覆光敏材料“光刻膠”（也叫“光阻”）。光刻膠也分為兩種——“正性光刻膠”和“負(fù)性光刻膠”。正性和負(fù)性光刻膠的主要
2022-04-08 15:12:41
三種常見的光刻技術(shù)方法根據(jù)暴光方法的不同,可以劃分為接觸式光刻,接近式光刻和投影式光刻三種光刻技術(shù)。 ◆投影式暴光是利用透鏡或反射鏡將掩膜版上的圖形投影到襯底上的暴光方法.在這種暴光方法中,由于掩膜
2012-01-12 10:56:23
測物體通過物鏡成像在CCD目標(biāo)表面上，而信號則由物鏡輸出，適當(dāng)?shù)靥幚鞢CD，提取測量對象的幾何信息，結(jié)合光學(xué)系統(tǒng)的變換特性，最后計算出測量尺寸。與普通的測量方法相比，使用CCD視覺檢測技術(shù)進(jìn)行測量
2021-04-10 11:38:28
什么是光學(xué)模數(shù)轉(zhuǎn)換器？光學(xué)模數(shù)轉(zhuǎn)換器的主要技術(shù)指標(biāo)光學(xué)模數(shù)轉(zhuǎn)換器的研究進(jìn)展光學(xué)模數(shù)轉(zhuǎn)換器的應(yīng)用
2021-04-20 06:52:52
什么是RF MEMS？有哪些關(guān)鍵技術(shù)與器件？微電子機(jī)械系統(tǒng)(MicroElectroMechanicalSystem)，簡稱MEMS，是以微電子技術(shù)為基礎(chǔ)而興起發(fā)展的，以硅、砷化鎵、藍(lán)寶石等為襯底
2019-08-01 06:17:43
，小米9pro，oppo Reno3以及vivo X30）分別采用了什么芯片？ 3協(xié)同通信的方式有哪些？ 4大數(shù)據(jù)及認(rèn)知無線電（名詞解釋） 4半導(dǎo)體工藝的4個主要步驟： 4簡敘半導(dǎo)體光刻技術(shù)基本原理 4給出4個全球著名的半導(dǎo)體設(shè)備制造商并指出其生產(chǎn)的設(shè)備核心技術(shù)： 5衛(wèi)
2021-07-26 08:31:09
中國科學(xué)院大學(xué)（以下簡稱國科大）微電子學(xué)院是國家首批支持建設(shè)的示范性微電子學(xué)院，國科大微電子學(xué)院開設(shè)的《集成電路先進(jìn)光刻技術(shù)與版圖設(shè)計優(yōu)化》課程是國內(nèi)少有的研究討論光刻技術(shù)的研究生課程，而開設(shè)課程
2021-10-14 09:58:07
尺寸測量儀適用于哪些零部件？
1、圖像尺寸測量儀適用于各類機(jī)械零部件。
采用機(jī)器視覺技術(shù)，結(jié)合高精度圖像分析算法，并融入一鍵閃測原理。
不管是金屬制品還是塑料制品，無論是復(fù)雜的結(jié)構(gòu)零部件還是簡單
2023-09-11 16:44:36
光電容積脈搏波描記術(shù)（Photoplethysmography，PPG）是一種用于心率監(jiān)測儀（HRM）和外周毛細(xì)血管氧飽和度（SpO2）測量的流行光學(xué)技術(shù)。它簡易方便，因?yàn)橹恍鑼ED和光電探測器（PD）連接到身體上即可。
2019-08-02 06:48:17
微型光學(xué)***模組，集感應(yīng)測量光路、微型機(jī)械構(gòu)造和數(shù)字/模擬微電子集成電路于一體，是高度微型化的機(jī)電一體化人機(jī)輸入模塊，其核心技術(shù)是光學(xué)***OFN（Optical Finger
2020-03-10 07:49:47
求一款大尺寸LCD光學(xué)量測系統(tǒng)的應(yīng)用方案
2021-06-01 07:14:32
系統(tǒng)，被測物體通過物鏡成像在CCD目標(biāo)表面上，而信號則由物鏡輸出，適當(dāng)?shù)靥幚鞢CD，提取測量對象的幾何信息，結(jié)合光學(xué)系統(tǒng)的變換特性，最后計算出測量尺寸。那么深圳CCD視覺檢測技術(shù)在測量時有哪些優(yōu)點(diǎn)？相信
2021-08-31 15:03:04
【作者】：王艷茹;李斌成;劉明強(qiáng);【來源】：《強(qiáng)激光與粒子束》2010年02期【摘要】：采用格林函數(shù)法,考慮徑向邊界條件和對流熱損失,理論上求解了有限尺寸高反射光學(xué)元件在激光作用下的熱傳導(dǎo)方程
2010-04-22 11:40:34
耳塞式光學(xué)心率測量
2021-01-21 06:56:41
我想使用 L6474 STATUS 寄存器的 OCD 標(biāo)志來檢測步進(jìn)電機(jī)受阻時機(jī)構(gòu)運(yùn)動的結(jié)束。但是我們在這樣做時遇到了一些麻煩。如果 OCD_TH 中的電流小于 TVAL 中的電流，則在運(yùn)動開始時
2022-12-07 07:54:35
期間內(nèi)外良好的光學(xué)對準(zhǔn)性。 光譜-物理獨(dú)特的腔外倍頻技術(shù)是全固體Q激光里面的最高品質(zhì)。另外激光器關(guān)鍵器件諸如泵浦二極管、光纖、shutter、輸出窗口等是可以簡單的現(xiàn)場維修更換的，這就使得光譜-物理
2011-12-01 11:48:46
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻機(jī)作為集成電路制造中最關(guān)鍵的設(shè)備，對芯片制作工藝有著決定性的影響，被譽(yù)為“超精密制造技術(shù)皇冠上的明珠”，根據(jù)之前中芯國際的公報，目...
2021-07-29 09:36:46
投影儀、影像測量儀等在效率上難以滿足用戶的測量需求。 全自動尺寸測量儀器將高精度遠(yuǎn)心光學(xué)鏡頭與智能化圖像處理技術(shù)相結(jié)合，并融入一鍵閃測原理，精度達(dá)到微米級
2022-06-14 15:26:37
中圖儀器基于3D光學(xué)成像測量非接觸、操作簡單、速度快等優(yōu)點(diǎn)，以光學(xué)測量技術(shù)創(chuàng)新為發(fā)展基礎(chǔ)，研發(fā)出了常規(guī)尺寸光學(xué)3D測量儀、微觀尺寸光學(xué)3D測量儀、大尺寸光學(xué)3D測量儀等，能提供從納米到百米的精密測量
2023-04-21 11:32:11
GK-1000光刻掩膜版測溫儀，光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)測溫儀光刻機(jī)是一種用于微納米加工的設(shè)備，主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS（微機(jī)電系統(tǒng)）等微細(xì)結(jié)構(gòu)。光刻機(jī)是一種光學(xué)投影技術(shù)，通過將光線通過
2023-07-07 11:46:07
主要介紹了集成門極換流晶閘管(IGCT)的光刻技術(shù)。IGCT器件的光刻次數(shù)多，精度要求高，如何保證光刻質(zhì)量是關(guān)鍵。根據(jù)IGCT光刻的特點(diǎn)，從光刻機(jī)的性能、光刻膠的選用以及刻
2010-06-24 16:48:43
14 用光學(xué)技術(shù)測量三維非對稱溫度場
2010-07-26 15:54:4611 提要：本文討論了光學(xué)光刻中的離軸照明技術(shù)。主要從改善光刻分辨率、增大焦深、提高空間像對比度等方面對離軸照明與傳統(tǒng)照明作了比較，并用 仿真軟件進(jìn)行了模擬分析。研
2010-11-11 15:45:020 LED光學(xué)參數(shù)的測量技術(shù)和國家光度標(biāo)準(zhǔn)
2010-12-27 17:14:47115 簡單的說用一定波長的波刻蝕材料就是光刻技術(shù),集成電路制造中利用光學(xué)- 化學(xué)反應(yīng)原理和化學(xué)、物理刻蝕方法，將電路圖形傳遞到單晶表面或介質(zhì)層上，形成有效圖形窗口或功能圖形
2011-09-05 11:25:085368 在當(dāng)今國內(nèi)工業(yè)中對尺寸的測量大多還是采用千分尺等落后的接觸式的方法，不但效率不高而且精確度不高。文中討論了線陣CCD用于尺寸測量的非常有效的非接觸檢測技術(shù)。本測量系統(tǒng)
2012-03-20 11:27:50153 對先進(jìn)光刻掩膜光衍射的精密EMF模擬已成為預(yù)知光刻模擬的必做工作。
2012-05-04 16:28:416685 
從第一個晶體管問世算起，半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展已有多半個世紀(jì)了，現(xiàn)在它仍保持著強(qiáng)勁的發(fā)展態(tài)勢，繼續(xù)遵循 Moore 定律即芯片集成度18個月翻一番，每三年器件尺寸縮小0.7倍的速度發(fā)展。大尺寸、細(xì)線
2017-09-29 16:57:405 OCD TMS570 CortexR4
2017-10-26 09:14:0317 光學(xué)光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規(guī)模集成電路器件的結(jié)構(gòu)圖形畫在涂有光刻膠的硅片上，通過光的照射，光刻膠的成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統(tǒng)能獲得
2018-04-17 16:07:4133630 光刻技術(shù)是集成電路最重要的加工工藝。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實(shí)施，都離不開光刻技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，占芯片制造成本的35%以上。
2018-04-22 17:54:003147 光學(xué)光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規(guī)模集成電路器件的結(jié)構(gòu)圖形畫在涂有光刻膠的硅片上，通過光的照射，光刻膠的成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統(tǒng)能獲得
2018-06-27 15:43:5011776 關(guān)鍵詞：光學(xué)防抖 , 模糊邏輯控制器 , 音圈馬達(dá) , 智能手機(jī) 研究機(jī)構(gòu)開發(fā)出具有最佳補(bǔ)償效果的手抖動信號估測算法，以及運(yùn)算負(fù)載低且易實(shí)作的模糊邏輯(Fuzzy Logic)控制器，可大幅提高
2018-12-14 22:23:01592 的新型光學(xué)及掩模襯底材料是該波段技術(shù)的主要困難。光科技束是很多學(xué)科的綜合，任何一門學(xué)科的突破就能對光刻技術(shù)的發(fā)展做出巨大貢獻(xiàn)。
2019-01-02 16:32:2323711 子站，同時利用激光跟蹤儀及相關(guān)坐標(biāo)變換算法，完成對各個CCD相機(jī)測量子站的全局標(biāo)定；各個測量子站利用立體空間球檢測技術(shù)，對局部關(guān)鍵尺寸進(jìn)行測量；同時構(gòu)建了基于小波分析的神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)溫度誤差補(bǔ)償模型，使空間距離補(bǔ)償后的精度能達(dá)到
2019-01-03 11:10:064 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實(shí)施，都離不開光刻的技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會發(fā)展中，光刻技術(shù)的增長，直接關(guān)系到大型計算機(jī)的運(yùn)作等高科技領(lǐng)域。
2019-02-25 10:07:535812 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實(shí)施，都離不開光刻的技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會發(fā)展中，光刻技術(shù)的增長，直接關(guān)系到大型計算機(jī)的運(yùn)作等高科技領(lǐng)域。
2019-03-03 10:00:314088 光刻是指利用光學(xué)復(fù)制的方法把圖形印制在光敏記錄材料上，然后通過刻蝕的方法將圖形轉(zhuǎn)移到晶圓片上來制作電子電路的技術(shù)。
2020-08-13 15:09:2217949 
作為光刻工藝中最重要設(shè)備之一，光刻機(jī)一次次革命性的突破，使大模集成電路制造技術(shù)飛速向前發(fā)展。了解提高光刻機(jī)性能的關(guān)鍵技術(shù)以及了解下一代光刻技術(shù)的發(fā)展情況是十分重要的。 光刻機(jī) 光刻機(jī)（Mask
2020-08-28 14:39:0411746 
（CCL）中。而這其中包括了極紫外線（EUV）掩模的計算光刻技術(shù)軟件和5nm 生產(chǎn)精加工芯片的技術(shù)，兩條直指了對芯片的制造的封鎖。 據(jù)了解，目前受到出口管制的新興技術(shù)總數(shù)已經(jīng)達(dá)到了37項(xiàng)。美國商務(wù)部在官網(wǎng)發(fā)布公告中寫道：此舉是為了支持關(guān)鍵及新
2020-10-27 10:49:102285 導(dǎo)讀：光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。光刻是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實(shí)施，都離不開光刻的技術(shù)。 光刻機(jī)的工作原理： 利用光刻
2022-12-23 13:34:547273 膠、軟烘、對準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕、檢測等數(shù)十道工序才得以最終完成。 正因如此，集數(shù)學(xué)、光學(xué)、物理、化學(xué)等眾多學(xué)科技術(shù)于一身的光刻機(jī)，被稱之為半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠，占據(jù)晶圓廠設(shè)備投資總額的約25%。 在中美關(guān)系緊
2020-11-26 16:19:192472 光刻技術(shù)的進(jìn)步使得器件的特征尺寸不斷減小，芯片的集成度和性能不斷提高。在摩爾定律的引領(lǐng)下,光學(xué)光刻技術(shù)經(jīng)歷了接觸/接近、等倍投影、縮小步進(jìn)投影、步進(jìn)掃描投影等曝光方式的變革。
2020-12-14 15:06:446628 EUV光刻機(jī)，一直是中國芯片制造無法進(jìn)一步升級的掣肘。去年9月份，時任中國科學(xué)院院長白春禮公開表態(tài)稱，將集中精力攻克光刻機(jī)難題。不到半年時間，中國科學(xué)家就在這一“卡脖子”技術(shù)取得了關(guān)鍵性突破。
2021-02-26 09:06:185287 OCD ICE 修復(fù)說明
2022-06-26 09:46:280 對更窄間隙尺寸和獨(dú)立于平臺的測量解決方案的需求，光學(xué)測量系統(tǒng)可以測量迄今為止未知的精度，以及在汽車車身生產(chǎn)的所有階段普遍使用一個相同的測量設(shè)備。”
2022-06-27 14:01:44626 機(jī)可以生產(chǎn)出納米尺寸更小、功能更強(qiáng)大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。 EUV光刻機(jī)有光源系統(tǒng)、光學(xué)鏡頭、雙工作臺系統(tǒng)三大核心技術(shù)。 目前，最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML公司的EUV光刻機(jī)。預(yù)計在光路系統(tǒng)的幫助下，能
2022-07-10 14:35:066173 根據(jù)所使用的輻射，有不同類型的光刻方法用于曝光的:光刻(光刻)、電子束光刻、x射線光刻、光刻和離子束光刻。在光學(xué)光刻技術(shù)中，有部分不透明和部分不透明的圖案掩模(光片)半透明區(qū)域被使用。紫外線輻射或氣體激光的照射以1:1的比例完成或者以4:1或10:1的比例減少。
2022-07-27 16:54:533169 
光刻是半導(dǎo)體工藝中最關(guān)鍵的步驟之一。EUV是當(dāng)今半導(dǎo)體行業(yè)最熱門的關(guān)鍵詞，也是光刻技術(shù)。為了更好地理解 EUV 是什么，讓我們仔細(xì)看看光刻技術(shù)。
2022-10-18 12:54:053180 Technology，RET)的延伸，其關(guān)鍵技術(shù)主要包括光學(xué)成像物理仿真、光學(xué)鄰近效應(yīng)校正 (Optical Proximity Correction,OPC)、光源-掩模協(xié)同優(yōu)化 (Source-Mask Optimization， SMO） 等。三種計算光刻技術(shù)的對比見表。
2022-10-26 15:46:222274 介紹了測量精度為±0 .04 mm 的線陣 CCD 尺寸自動檢測系統(tǒng)的工作原理, 著重介紹了 尺寸測量信號的提取方法, 給出了實(shí)現(xiàn)電路, 并論述了電路實(shí)現(xiàn)中的關(guān)鍵技術(shù).經(jīng)實(shí)際應(yīng)用發(fā)現(xiàn), 該電路簡單、可靠、精度高, 有實(shí)用價值.
2022-11-22 17:39:020 劉世元介紹，光刻是芯片制造中最為關(guān)鍵的一種工藝，通過光刻成像系統(tǒng)，將設(shè)計好的圖形轉(zhuǎn)移到硅片上。隨著芯片尺寸不斷縮小，硅片上的曝光圖形會產(chǎn)生畸變。
2022-11-28 09:49:56690 自動化光學(xué)測量系統(tǒng)
2022-12-05 14:45:57701 中圖儀器影像測量儀、共聚焦顯微鏡、白光干涉儀基于3D光學(xué)成像測量非接觸、操作簡單、速度快等優(yōu)點(diǎn)，能提供常規(guī)尺寸光學(xué)測量儀器、微觀尺寸光學(xué)測量儀器、大尺寸光學(xué)測量儀器等精密測量解決方案！
2023-04-20 17:11:44396 
光刻技術(shù)簡單來講，就是將掩膜版圖形曝光至硅片的過程，是大規(guī)模集成電路的基礎(chǔ)。目前市場上主流技術(shù)是193nm沉浸式光刻技術(shù)，CPU所謂30nm工藝或者22nm工藝指的就是采用該技術(shù)獲得的電路尺寸。
2023-04-25 11:02:322261 
在整個芯片制造過程中，幾乎每一道工序的實(shí)施都離不開光刻技術(shù)。光刻技術(shù)也是制造芯片最關(guān)鍵的技術(shù)，占芯片制造成本的35%以上。
2023-04-26 08:57:031033 光學(xué)計量學(xué)是當(dāng)今制造業(yè)的關(guān)鍵技術(shù)之一。它通常可以被定義為用光進(jìn)行測量的科學(xué)，被廣泛用于評估產(chǎn)品（或其某些部件或組件）的物理特性
2023-04-28 11:19:101022 
葉片是發(fā)動機(jī)關(guān)鍵零件，屬于薄壁易變形零件。如何控制其變形并高效、高質(zhì)量地加工是目前葉片制造行業(yè)研究的重要課題之一。 為了確保發(fā)動機(jī)葉片的質(zhì)量和可靠性，需要使用高精度的測量技術(shù)進(jìn)行檢測。下面將介紹
2023-05-23 10:45:02468 
中圖儀器VX系列閃測儀采用雙遠(yuǎn)心高分辨率光學(xué)鏡頭對圖像進(jìn)行捕捉，結(jié)合高精度圖像分析算法，精準(zhǔn)測量出電機(jī)沖片所有尺寸。VX系列閃測儀顛覆傳統(tǒng)測量模式，開創(chuàng)快速影像尺寸測量時代，只需一鍵，瞬間測量電機(jī)沖片所有尺寸，繁瑣的測量任務(wù)變得無比輕松。
2021-11-02 10:15:30651 
除了常見的尺寸測量儀器，近些年又出現(xiàn)了一種新型的測量儀器——閃測儀，也叫一鍵式測量儀和圖像尺寸測量儀，VX3000系列閃測儀采用雙遠(yuǎn)心高分辨率光學(xué)鏡頭，結(jié)合高精度圖像分析算法，并融入一鍵閃測原理。只需按下啟動鍵，儀器即可實(shí)現(xiàn)一鍵式快速精準(zhǔn)測量。
2021-11-08 16:55:121521 
VX3000系列圖像尺寸測量儀具有測量范圍更大、承重更高、并可擴(kuò)展高度測量等優(yōu)勢。可以滿足各類零部件輪廓尺寸快速測量需求，工件無需定位，任意擺放，一鍵完成二維平面尺寸測量，搭載光學(xué)非接觸式測頭實(shí)現(xiàn)高度尺寸、平面度等參數(shù)的精密快速測量。
2022-09-20 15:04:27770 
。照明系統(tǒng)是光刻機(jī)的重要組成部分，其主要作用是提供高均勻性照明、控制曝光劑量和實(shí)現(xiàn)離軸照明，以提高光刻分辨率和增大焦深。論文以深紫外光刻照明系統(tǒng)光學(xué)設(shè)計為研究方向，對照明系統(tǒng)關(guān)鍵單元進(jìn)行了光學(xué)設(shè)計與仿真研究。
2023-07-17 11:02:38592 
閃測儀是一種常用的測量工具，可用于測量工件的尺寸。它是一種利用圖像處理、數(shù)據(jù)分析等技術(shù)進(jìn)行尺寸測量的儀器。具有的高精度測量能力，能夠準(zhǔn)確地測量工件的長度、寬度、高度等尺寸參數(shù)。儀器具有高精度、高效率
2023-08-15 10:31:45628 
光學(xué)光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規(guī)模集成電路器件的結(jié)構(gòu)圖形畫在涂有光刻膠的硅片上，通過光的照射，光刻膠的成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統(tǒng)能獲得的分辨率直接相關(guān)，而減小照射光源的波長是提高分辨率的最有效途徑。
2023-10-24 11:43:15271 
基礎(chǔ)和重要的項(xiàng)目。目前常用的微結(jié)構(gòu)表面形貌測量方法分為接觸式和非接觸式。運(yùn)用非接觸式測量技術(shù)的3D光學(xué)檢測儀器，大多是基于光學(xué)方法（干涉顯微法、自動聚焦法、激光干涉法、光學(xué)顯微干涉法等），可對精密零部件
2023-07-06 13:24:240 電蜂優(yōu)選工程師說道測量M12線束的尺寸是確保插頭與相應(yīng)的測量設(shè)備或接口兼容的關(guān)鍵任務(wù)。尺寸測量包括測量插頭的長度、直徑、螺紋規(guī)格、引腳間距等參數(shù)。
2023-11-02 14:09:22499 
光學(xué)測量儀器結(jié)合鏡頭防撞保護(hù)技術(shù)、精密雙重隔振技術(shù)以及環(huán)境噪聲評價技術(shù)，具有高精度、自動化程度高、實(shí)時反饋和范圍廣等優(yōu)勢，可以實(shí)現(xiàn)自動化測量和高效調(diào)整，可對精密零部件的表面粗糙度、微小形貌輪廓及尺寸實(shí)現(xiàn)微納級測量
2023-11-30 09:13:110 PCB外形尺寸全檢的神器-VX9000系列光學(xué)掃描成像測量機(jī)，獲得了客戶的廣泛認(rèn)可和一致好評。VX9000系列光學(xué)掃描成像測量機(jī)以光學(xué)成像測量系統(tǒng)為基礎(chǔ)，配合高精度運(yùn)
2023-12-01 08:08:15156 
傳統(tǒng)的幾何尺寸測量儀器設(shè)備包括千分尺、角度尺、游標(biāo)卡尺等，這些儀器能夠滿足一般的幾何量測量需求。但是隨著科技的發(fā)展，越來越多高精度測量儀器被應(yīng)用于幾何量測量領(lǐng)域。從納米級光學(xué)3D表面輪廓儀通過光學(xué)
2023-12-26 17:16:39361 
光學(xué)三維測量技術(shù)是一種重要的非接觸式測量方法，廣泛應(yīng)用于工程、制造、設(shè)計等領(lǐng)域。
2024-02-22 10:40:42277 閃測儀可以快速完成尺寸測量，一鍵即可測量二維平面尺寸測量，或是搭載光學(xué)非接觸式測頭實(shí)現(xiàn)高度尺寸、平面度等參數(shù)的精密快速測量。不僅能夠大大提高測量效率，還能減少人為因素對測量結(jié)果的影響，保證測量的準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性。
2024-02-26 13:40:0197 
采集卡、圖像處理軟件等組件構(gòu)成。閃測儀就是利用先進(jìn)的光學(xué)原理和圖像處理技術(shù)，高速獲取并分析產(chǎn)品的尺寸信息。中圖閃測儀基于機(jī)器視覺的自動測量技術(shù)，采用雙遠(yuǎn)心高分辨率光
2024-03-04 13:40:010 PCB外形尺寸全檢的神器-VX9000系列光學(xué)掃描成像測量機(jī)，獲得了客戶的廣泛認(rèn)可。 VX9000系列光學(xué)掃描成像測量機(jī)以光學(xué)成像測量系統(tǒng)為基礎(chǔ)，配合高精度
2023-12-01 09:29:55
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