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電子發(fā)燒友網(wǎng)>制造/封裝>今日看點(diǎn)丨英特爾率先擁抱 High-NA EUV 光刻機(jī);消息稱華為在汽車充電方面可能會打造一個聯(lián)盟,提高充電樁利

今日看點(diǎn)丨英特爾率先擁抱 High-NA EUV 光刻機(jī);消息稱華為在汽車充電方面可能會打造一個聯(lián)盟,提高充電樁利

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2013-02-23 11:32:37

請教怎樣去設(shè)計種基于stm32的汽車智能充電

基于stm32的汽車智能充電硬件是由哪些部分組成的?基于stm32的汽車智能充電實(shí)現(xiàn)的主要功能有哪些?怎樣去設(shè)計種基于stm32的汽車智能充電
2021-07-19 09:08:51

請問直流充電和交流充電的區(qū)別是什么?

充電固定的地方差不多,它是為安裝在汽車上的充電機(jī)提供交流電源的供電設(shè)備。它只會提供電力輸出,是沒有充電功能的,這會需要去連接車載充電機(jī)為其充電,等于提供了控制電源的功能。直流充電的造價成本要比交流的要高也是有定原因的。
2018-06-05 10:41:11

魂遷光刻,夢繞芯片,中芯國際終獲ASML大型光刻機(jī) 精選資料分享

據(jù)羊城晚報報道,近日中芯國際從荷蘭進(jìn)口的臺大型光刻機(jī),順利通過深圳出口加工區(qū)場站兩道閘口進(jìn)入廠區(qū),中芯國際發(fā)表公告光刻機(jī)并非此前盛傳的EUV光刻機(jī),主要用于企業(yè)復(fù)工復(fù)產(chǎn)后的生產(chǎn)線擴(kuò)容。我們知道
2021-07-29 09:36:46

#汽車電子 #充電 IGBT充電的應(yīng)用

汽車電子IGBT充電
深圳市浮思特科技有限公司發(fā)布于 2023-10-13 15:10:50

EUV光刻機(jī)對半導(dǎo)體制程的重要性

中心還達(dá)成了新的合作協(xié)議,雙方將共同研發(fā)新一代EUV光刻機(jī)NA數(shù)值孔徑從現(xiàn)有的0.33提高到0.5,可以進(jìn)一步提升光刻工藝的微縮水平,制造出更小的晶體管。  NA數(shù)值孔徑對光刻機(jī)有什么意義?,決定
2018-11-02 10:14:19834

OPPO加入無線充電聯(lián)盟 未來手機(jī)可能會支持Qi充電

1月12日消息,據(jù)外媒Android Police報道,OPPO加入了無線充電聯(lián)盟,未來的OnePlus和OPPO手機(jī)可能會支持Qi充電
2019-01-14 10:02:522066

關(guān)于EUV光刻機(jī)的分析介紹

格芯首席技術(shù)官Gary Patton表示,如果在5nm的時候沒有使用EUV光刻機(jī),那么光刻的步驟將會超過100步,這會讓人瘋狂。所以所EUV光刻機(jī)無疑是未來5nm和3nm芯片的最重要生產(chǎn)工具,未來圍繞EUV光刻機(jī)的爭奪戰(zhàn)將會變得異常激烈。因?yàn)檫@是決定這些廠商未來在先進(jìn)工藝市場競爭的關(guān)鍵。
2019-09-03 17:18:1812845

ASML研發(fā)第二代EUV光刻機(jī)的微縮分辨率、套準(zhǔn)精度提升了70%

據(jù)韓媒報道稱,ASML正積極投資研發(fā)下一代EUV光刻機(jī),與現(xiàn)有光刻機(jī)相比,二代EUV光刻機(jī)最大的變化就是High NA透鏡,通過提升透鏡規(guī)格使得新一代光刻機(jī)的微縮分辨率、套準(zhǔn)精度兩大光刻機(jī)核心指標(biāo)提升70%,達(dá)到業(yè)界對幾何式芯片微縮的要求。
2019-08-07 11:24:395849

曝ASML新一代EUV光刻機(jī)預(yù)計2022年開始出貨 將進(jìn)一步提升光刻機(jī)的精度

EUV光刻機(jī)方面,荷蘭ASML(阿斯麥)公司壟斷了目前的EUV光刻機(jī),去年出貨26臺,創(chuàng)造了新紀(jì)錄。據(jù)報道,ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī),預(yù)計在2022年開始出貨。
2020-03-17 09:21:194670

EUV光刻機(jī)全球出貨量達(dá)57臺

與此同時, 他指出,EUV繼續(xù)為ASML的客戶提高產(chǎn)量,迄今為止,他們的客戶已經(jīng)使用EUV光刻機(jī)曝光了超過1100萬個EUV晶圓,并交付了57個3400x EUV系統(tǒng)(3400平臺是EUV生產(chǎn)平臺)。
2020-08-14 11:20:552048

EUV光刻機(jī)還能賣給中國嗎?

ASML的EUV光刻機(jī)是目前全球唯一可以滿足22nm以下制程芯片生產(chǎn)的設(shè)備,其中10nm及以下的芯片制造,EUV光刻機(jī)必不可缺。一臺EUV光刻機(jī)的售價為1.48億歐元,折合人民幣高達(dá)11.74億元
2020-10-19 12:02:499647

臺積電向ASML購買更多更先進(jìn)制程的EUV光刻機(jī)

Luc Van den hove表示,IMEC的目標(biāo)是將下一代高分辨率EUV光刻技術(shù)高NA EUV光刻技術(shù)商業(yè)化。由于此前得光刻機(jī)競爭對手早已經(jīng)陸續(xù)退出市場,目前ASML把握著全球主要的先進(jìn)光刻機(jī)產(chǎn)能,近年來,IMEC一直在與ASML研究新的EUV光刻機(jī),目前目標(biāo)是將工藝規(guī)模縮小到1nm及以下。
2020-12-30 09:23:481673

為何EUV光刻機(jī)會這么耗電呢

EUV(極紫外光)光刻機(jī),是目前半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)已投入規(guī)模生產(chǎn)使用的最先進(jìn)光刻機(jī)類型。近來,有不少消息都指出,EUV光刻機(jī)耗電量非常大,甚至它還成為困擾臺積電的一大難題。 為何EUV光刻機(jī)會這么耗電
2021-02-14 14:05:003915

為什么都搶著買價格更昂貴的EUV光刻機(jī)?

目前,還有ASML有能力生產(chǎn)最先進(jìn)的EUV光刻機(jī),三星、臺積電都是ASML的客戶。但受《瓦森納協(xié)定》的制約,中國大陸沒有從ASML買來一臺EUV光刻機(jī)
2021-01-21 08:56:184078

ASML下一代EUV光刻機(jī)延期:至少2025年

的出貨不及預(yù)期的35臺,而且他們還宣布了下一代高NAEUV光刻機(jī)要到2025-2026年之間才能規(guī)模應(yīng)用,意味著要延期了。 此前信息顯示,ASML下一代EUV光刻機(jī)最早是2022年開始出樣,大規(guī)模
2021-01-22 17:55:242639

SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機(jī)

隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點(diǎn)以下,EUV光刻機(jī)成為制高點(diǎn),之前臺積電搶購了全球多數(shù)的EUV光刻機(jī)率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝,現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場了,SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機(jī)
2021-02-25 09:28:551644

SK海力士砸4.8萬億韓元買EUV光刻機(jī)

隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點(diǎn)以下,EUV光刻機(jī)成為制高點(diǎn),之前臺積電搶購了全球多數(shù)的EUV光刻機(jī)率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝,現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場了,SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機(jī)
2021-02-25 11:39:091844

EUV光刻機(jī)何以造出5nm芯片

電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/周凱揚(yáng))作為近乎壟斷的光刻機(jī)巨頭,ASML的EUV光刻機(jī)已經(jīng)在全球頂尖的晶圓廠中獲得了使用。無論是英特爾、臺積電還是三星,EUV光刻機(jī)的購置已經(jīng)是生產(chǎn)支出中很大的一筆,也成了
2021-12-07 14:01:1010742

ASML正致力于新一代High-NA光刻機(jī)制造,每臺預(yù)計售價4億美元

High-NA光刻技術(shù),High-NA指的是高數(shù)值孔徑,據(jù)了解,這種High-NA光刻技術(shù)能降低66%的尺寸,也就意味著芯片制程能夠進(jìn)一步得到升級,芯片也將獲得更高的性能,2nm之后的技術(shù)都得用這種技術(shù)來實(shí)現(xiàn)。High-NA光刻技術(shù)被認(rèn)為是延續(xù)摩爾定律的關(guān)鍵。 不
2022-05-22 14:40:593085

臺積電將于2024年引進(jìn)ASML最新EUV光刻機(jī),主要用于相關(guān)研究

日前,在臺積電召開的會議上,有一名高管稱臺積電將于2024年引進(jìn)ASML正在研發(fā)的最新的High-NA EUV光刻機(jī)。 會議中,該高管稱:為了滿足客戶所需的相關(guān)基礎(chǔ)設(shè)施的開發(fā)等,臺積電將于2024
2022-06-17 16:33:276499

ASML的High-NA光刻機(jī)居然只賣出5臺,大多芯片廠商不為所動

2nm制程的量產(chǎn)。 目前市面上最先進(jìn)的是EUV光刻機(jī),而其能夠支持制造的先進(jìn)制程工藝最高為3nm,也就是說,再往后的2nm等工藝就要用更加先進(jìn)的光刻機(jī)來完成。 ASML為此正在研發(fā)一種特別的EUV光刻機(jī)——High-NA EUV光刻機(jī)。這種光刻機(jī)所采用的技術(shù)能夠
2022-06-22 14:44:161183

2納米即將進(jìn)入下世代的埃米(angstorm)時代布局

英特爾今年初宣布已率先向 ASML 購買業(yè)界首臺 High-NA 量產(chǎn)型 EUV 設(shè)備 EXE:5200,其為首款具備 High-NAEUV 大量生產(chǎn)系統(tǒng),每小時晶圓曝光產(chǎn)能超過 200 片,英特爾并宣布將于 2025 年開始以 High-NA EUV 進(jìn)行生產(chǎn)。
2022-06-22 15:15:101898

EUV光刻機(jī)售價超26億,Intel成為首位買家,將于2025年首次交付

3nm制程,據(jù)了解,更加先進(jìn)的制程就需要更先進(jìn)的光刻機(jī)來完成了。 光刻機(jī)廠商ASML為此正在研發(fā)新一代High NA EUV光刻機(jī),這種EUV光刻機(jī)NA數(shù)值孔徑比現(xiàn)在0.33口徑的EUV光刻機(jī)還要高,達(dá)到了0.55口徑,也就是說High NA EUV光刻機(jī)的分辨率更高,能
2022-06-28 15:07:126676

euv光刻機(jī)三大核心技術(shù) 哪些公司有euv光刻機(jī)

中國芯的進(jìn)步那是有目共睹,我國在光刻機(jī),特別是在EUV光刻機(jī)方面,更是不斷尋求填補(bǔ)空白的途徑。
2022-07-05 10:38:3516742

三星斥資買新一代光刻機(jī) 中芯光刻機(jī)最新消息

三星電子和ASML就引進(jìn)今年生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)和明年推出高數(shù)值孔徑極紫外光High-NA EUV光刻機(jī)達(dá)成采購協(xié)議。
2022-07-05 15:26:155634

euv光刻機(jī)可以干什么 光刻工藝原理

光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML的EUV光刻機(jī)
2022-07-06 11:03:077000

euv光刻機(jī)目前幾納米 中國5納米光刻機(jī)突破了嗎

大家都知道,芯片制造的核心設(shè)備之一就是光刻機(jī)了。現(xiàn)在,全球最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML的EUV光刻機(jī),那么euv光刻機(jī)目前幾納米呢? 到現(xiàn)在,世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)能夠?qū)崿F(xiàn)5nm的加工。也就是荷蘭
2022-07-10 11:17:4242766

euv光刻機(jī)是哪個國家的

說到芯片,估計每個人都知道它是什么,但說到光刻,許多人可能不知道它是什么。光刻機(jī)是制造芯片的機(jī)器和設(shè)備。沒有光刻機(jī)的話,就無法生產(chǎn)芯片,因此每個人都知道光刻機(jī)對芯片制造業(yè)的重要性。那么euv光刻機(jī)
2022-07-10 11:42:276977

euv光刻機(jī)是干什么的

可以生產(chǎn)出納米尺寸更小、功能更強(qiáng)大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。 EUV光刻機(jī)有光源系統(tǒng)、光學(xué)鏡頭、雙工作臺系統(tǒng)三大核心技術(shù)。 目前,最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML公司的EUV光刻機(jī)。預(yù)計在光路系統(tǒng)的幫助下,能
2022-07-10 14:35:066173

duv光刻機(jī)euv光刻機(jī)區(qū)別是什么

目前,光刻機(jī)主要分為EUV光刻機(jī)和DUV光刻機(jī)。DUV是深紫外線,EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù),EUV使用的是深紫外光刻技術(shù)。EUV為先進(jìn)工藝芯片光刻的發(fā)展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127

euv光刻機(jī)原理是什么

euv光刻機(jī)原理是什么 芯片生產(chǎn)的工具就是紫外光刻機(jī),是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備,對芯片技術(shù)有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。那么euv光刻機(jī)原理是什么呢? EUV
2022-07-10 15:28:1015099

ASML下一代EUV光刻機(jī)High-NA來了!

對于3nm后的節(jié)點(diǎn),ASML及其合作伙伴正在研究一種全新的EUV工具——Twinscan EXE:5000系列,具有0.55 NA(High-NA)透鏡,能夠達(dá)到8nm分辨率,可以避免3nm及以上的多圖案。
2022-08-17 15:44:041910

密度提升近3倍,高NA EUV光刻機(jī)有何玄機(jī)

投入使用高NA EUV光刻機(jī)已經(jīng)勢在必行了。 據(jù)了解,一臺高NA EUV光刻機(jī)成本就可能達(dá)到3.2億美元,這樣一個天價的光刻系統(tǒng)究竟能帶來哪些優(yōu)勢,又存在哪些挑戰(zhàn)呢? 規(guī)模和密度的平衡,我們?yōu)槭裁葱枰?b class="flag-6" style="color: red">NA光刻機(jī)? 從今年發(fā)布的不少新品來看,即便工藝沒有太大的變化,芯片
2022-12-07 07:25:02952

ASML CEO 承諾年底前交付首臺 High-NA EUV ***;蘋果與Arm簽署新的芯片技術(shù)長期協(xié)議,延續(xù)至2040年以后

熱點(diǎn)新聞 1、ASML CEO 承諾年底前交付首臺 High-NA EUV 光刻機(jī):體積和卡車相當(dāng),每臺售價 3 億美元 ASML 首席執(zhí)行官 Peter Wennink 近日在接受采訪時表示,盡管
2023-09-06 16:50:06695

生產(chǎn)2納米的利器!成本高達(dá)3億歐元,High-NA EUV***年底交付 !

ASML是歐洲最大半導(dǎo)體設(shè)備商,主導(dǎo)全球光刻機(jī)設(shè)備市場,光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造關(guān)鍵步驟,但高數(shù)值孔徑(High NAEUV,Peter Wennink指有些供應(yīng)商提高產(chǎn)能及提供適當(dāng)技術(shù)遇到困難,導(dǎo)致延誤。但即便如此,第一批產(chǎn)品仍會在年底推出。
2023-09-08 16:54:10713

IBM、美光、應(yīng)用材料、東京電子宣布合作建設(shè) High-NA EUV 研發(fā)中心

Albany NanoTech Complex 建設(shè)下一代 High-NA EUV 半導(dǎo)體研發(fā)中心。 根據(jù)聲明,負(fù)責(zé)協(xié)調(diào)該設(shè)施建設(shè)的非營利性機(jī)構(gòu) NY Creates 將利用 10 億美元州政府資金
2023-12-14 08:44:18237

英特爾搶下6種ASML HIGH NA光刻機(jī)

如果我們假設(shè)光刻機(jī)成本為 3.5 億至 4 億美元,并且 2024 年 10 個光刻機(jī)HIGH NA 銷售額將在 35億至40億美元之間。
2023-12-28 11:31:39406

英特爾:預(yù)計2027年末10A節(jié)點(diǎn)投產(chǎn),投資千億美元擴(kuò)大晶圓制造

 根據(jù)先前記載,10A將會是英特爾繼使用High-NA EUV光刻技術(shù)的首批主要節(jié)點(diǎn)之后的第二例,預(yù)計可呈現(xiàn)出超過10%的每瓦性能改善。
2024-02-28 16:00:22111

英特爾成為全球首家購買3.8億美元高數(shù)值孔徑光刻機(jī)的廠商

英特爾最近因決定從荷蘭 ASML 購買世界上第一臺高數(shù)值孔徑(High-NA)光刻機(jī)而成為新聞焦點(diǎn)。到目前為止,英特爾是全球唯一一家訂購此類光刻機(jī)的晶圓廠,據(jù)報道它們的售價約為3.8億美元
2024-03-06 14:49:01164

ASML 首臺新款 EUV 光刻機(jī) Twinscan NXE:3800E 完成安裝

ASML 官網(wǎng)尚未上線 Twinscan NXE:3800E 的信息頁面。 除了正在研發(fā)的 High-NA EUV 光刻機(jī) Twinscan EXE 系列,ASML 也為其 NXE 系列傳統(tǒng)數(shù)值孔徑
2024-03-14 08:42:349

押注2nm!英特爾26億搶單下一代 EUV光刻機(jī),臺積電三星決戰(zhàn)2025!

了。 ? 芯片制造離不開光刻機(jī),特別是在先進(jìn)制程上,EUV光刻機(jī)由來自荷蘭的ASML所壟斷。同時,盡管目前市面上,EUV光刻機(jī)客戶僅有三家,但需求不斷增加的情況底下,EUV光刻機(jī)依然供不應(yīng)求。 ? 針對后3nm時代的芯片制造工藝,High-NA(高數(shù)值孔徑)EUV光刻機(jī)
2022-06-29 08:32:004635

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