1. 豐田汽車將從下周一重啟日本汽車工廠的生產(chǎn)
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豐田汽車表示將于下周一重新啟動日本的汽車工廠,但考慮到地震帶來的影響,將另行決定1月15日之后的運(yùn)營情況。1月7日,豐田汽車表示,盡管部分供應(yīng)商因最近在日本能登半島發(fā)生的強(qiáng)烈地震而受到干擾,但將從下周一開始按計劃恢復(fù)日本本土的汽車生產(chǎn)。
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由于余震仍在持續(xù),且豐田許多供應(yīng)商和附屬公司在地震中遭受損害,豐田表示將使用庫存區(qū)域以外的零部件。同時,豐田也將評估其供應(yīng)商在1月15日之后的情況,然后再確定其持續(xù)的生產(chǎn)活動。豐田此前曾表示,由于供應(yīng)商在地震中受到損害,無法按計劃開始生產(chǎn)。豐田新任CEO(Koji Sato)本周五談到,公司正試圖了解供應(yīng)鏈情況,因?yàn)楣?yīng)商愛信和住友電氣受到了地震的破壞。
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2. 英特爾率先擁抱 High-NA EUV 光刻機(jī),臺積電持觀望態(tài)度
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芯片巨頭英特爾近日喜獲業(yè)內(nèi)首臺具有 0.55 數(shù)值孔徑(High-NA)的 ASML 極紫外(EUV)光刻機(jī),將助力其在未來幾年實(shí)現(xiàn)更先進(jìn)的芯片制程。與之形成鮮明對比的是,另一巨頭臺積電則按兵不動,似乎并不急于加入這場下一代光刻技術(shù)的競賽。業(yè)內(nèi)分析師預(yù)計,臺積電可能要到 2030 年甚至更晚才會采用這項(xiàng)技術(shù)。
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英特爾此次獲得的 High-NA EUV 光刻機(jī)將首先用于學(xué)習(xí)和掌握這項(xiàng)技術(shù),預(yù)計在未來兩三年內(nèi)用于 18A (1.8nm 工藝)之后的芯片制程節(jié)點(diǎn)。相比之下,臺積電則采取了更加謹(jǐn)慎的策略,華興資本和 SemiAnalysis 的分析師認(rèn)為,臺積電可能要到 N1.4 制程之后(預(yù)計在 2030 年后)才會采用 High-NA EUV 技術(shù)。
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3. 7.48~10.48 萬元,東風(fēng)納米 01 純電小車上市:CLTC 續(xù)航 330/430km
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東風(fēng)納米旗下首款車型 —— 納米 01正式宣布上市,指導(dǎo)價 7.48 萬元起。這款小車基于東風(fēng)旗下的「量子 3 號」純電架構(gòu)打造,長寬高分別為 4030/1810/1570mm,軸距 2660mm。
動力方面,納米 01 將會采用單電機(jī)布局,最大功率 70kW,最大扭矩 160N?m。根據(jù)版本不同,該車將會搭載不同容量的電池組,官方 CLTC 續(xù)航里程為 330km 和 430km。值得一提的是,這款純電小車采用了馬赫 E 十合一電驅(qū)動總成,能效百分比高達(dá) 91.9%。根據(jù)官方的說法,「量子 3 號」平臺還配備了固態(tài)電池和輪轂電機(jī)(這款新車暫未提供),可實(shí)現(xiàn)大轉(zhuǎn)向角度,最低能耗 11 kWh / 100km,CLTC 達(dá)成率 89%,最快支持 8 分鐘補(bǔ)能 200 km。
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4. 華為 P70 手機(jī) Deco 玻璃飾板泄露,采用 50MP 國產(chǎn)超大底 + 國產(chǎn)物理可變光圈
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據(jù)爆料華為 P70 將搭載 50MP 國產(chǎn)超大底 + 國產(chǎn)物理可變光圈,有網(wǎng)友曬出 Deco 玻璃飾板泄露圖片,可以看出與此前公布的線稿大致相同。
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此前,有博主分享一張華為 P70 超前瞻線稿,可以看出采用后置三攝,三顆鏡頭呈三角狀排列,布局上類似 P60。據(jù)外媒 GSMArena 報道,華為 P70 在攝影模組方面有一定升級,據(jù)稱新機(jī)超廣角鏡頭使用 1G6P 結(jié)構(gòu)(一層玻璃鏡片 + 六層塑料鏡片),主攝配備 1 英寸傳感器。
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5. 蘋果 M3 iPad Pro 將首次引入 OLED 屏幕,分析師稱亮度高、壽命長、機(jī)身薄
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據(jù)爆料,蘋果將于今年晚些時候推出搭載 M3 芯片的 iPad Pro,并首次采用 OLED 顯示屏技術(shù)。知名顯示器供應(yīng)鏈咨詢公司 DSCC 的 CEO 羅斯?楊(Ross Young)透露了最新相關(guān)消息,他認(rèn)為蘋果將為 M3 iPad Pro 引進(jìn)多項(xiàng)首次應(yīng)用于該系列產(chǎn)品的技術(shù),并對即將采用的 OLED 面板給予了高度評價。
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據(jù)傳,11 英寸和 12.9 英寸的 iPad Pro 機(jī)型都將配備 LTPO 背板,類似于蘋果最新款 iPhone 15 Pro 和 iPhone 15 Pro Max 所采用的技術(shù)。羅斯?楊表示,這些即將上市的設(shè)備還將是首批采用串聯(lián)堆疊技術(shù)的平板電腦。
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6. 消息稱華為在汽車充電方面可能會打造一個聯(lián)盟,提高充電樁利用率
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賽力斯與華為數(shù)字能源技術(shù)有限公司共同宣布,雙方在深圳簽署全面戰(zhàn)略合作協(xié)議。據(jù)第一財經(jīng)報道,有業(yè)內(nèi)人士稱,華為在充電方面可能會打造一個聯(lián)盟,以提高充電樁的利用率,加速走向盈利。
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華為數(shù)字能源技術(shù)有限公司總裁侯金龍發(fā)表演講表示,將推動全面高壓化、超快充,推動新能源汽車與充電基礎(chǔ)設(shè)施高質(zhì)量協(xié)同發(fā)展。侯金龍表示,華為數(shù)字能源將攜手客戶、伙伴,計劃于 2024 年率先在全國 340 多個城市和主要公路部署超過 10 萬個華為全液冷超快充充電樁,實(shí)現(xiàn)“有路的地方就有高質(zhì)量充電”。
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今日看點(diǎn)丨英特爾率先擁抱 High-NA EUV 光刻機(jī);消息稱華為在汽車充電方面可能會打造一個聯(lián)盟,提高充電樁利
- 英特爾(168286)
- 華為(246617)
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密度提升近3倍,高NA EUV光刻機(jī)有何玄機(jī)
投入使用高NA EUV光刻機(jī)已經(jīng)勢在必行了。據(jù)了解,一臺高NA EUV的光刻機(jī)成本就可能達(dá)到3.2億美元,這樣一個天價的光刻系統(tǒng)究竟能帶來哪些優(yōu)勢,又存在哪些挑戰(zhàn)呢? ? 規(guī)模和密度的平衡,我們?yōu)槭裁葱枰?NA 光刻機(jī)? ? 從今年發(fā)布的不少新品來看,即便工藝沒有太大的變化,芯
2022-12-07 01:48:002199
今日看點(diǎn)丨華為強(qiáng)烈反對,東方材料宣布終止收購鼎橋;傳ASML將推出2nm制造設(shè)備 英特爾已采購6臺
其中6臺。新一代的高數(shù)值孔徑 (High-NA) EUV光刻機(jī)可以將聚光能力從0.33提高至0.55,能夠獲得更精細(xì)的曝光圖案,用于2nm制程節(jié)點(diǎn)。未來幾年,ASML希望將這種最新設(shè)備的產(chǎn)能提高至每年
2023-12-20 11:23:51706
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充電樁市場簡析、分類及選型參考
一、充電樁市場信息
新能源汽車滲透率持續(xù)攀升,驅(qū)動充電樁行業(yè)發(fā)展:
自2020年下半年以來,中國新能源汽車市場一直保持高速增長。預(yù)計2022年中國新能源汽車銷量有望突破650萬輛以上,預(yù)計到2025
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在移動領(lǐng)域,ARM在哪些方面領(lǐng)先英特爾
現(xiàn)在移動領(lǐng)域絕大多數(shù)用的 ARM 提供的芯片授權(quán),就連 iPhone 先是直接從三星(三星的也經(jīng)過 ARM 授權(quán))那里買,后來直接用經(jīng)過 ARM 授權(quán),自己設(shè)計的 A4 處理器。另外最近 ARM CEO 表示未來英特爾只會扮演小角色。在移動領(lǐng)域,ARM 在哪些方面領(lǐng)先英特爾?
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最近在研究汽車電池充電樁,看了些資料說要應(yīng)用到加密IC,求解各路英雄。1、真有應(yīng)用加密IC請問應(yīng)用哪個模塊?2、是出于哪方面要應(yīng)用?
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英特爾將在2014年推出14納米處理器芯片
`英特爾最近披露稱,它終于首次使用14納米加工技術(shù)制造成功試驗(yàn)的芯片電路。英特爾計劃在2013年使用14納米加工技術(shù)生產(chǎn)代號為“Broadwell”的處理器。英特爾北歐及比利時、荷蘭、盧森堡經(jīng)濟(jì)聯(lián)盟
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英特爾轉(zhuǎn)型移動領(lǐng)域難言樂觀
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三星麻煩了 英特爾將為蘋果iPhone供給ARM芯片
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為什么選擇加入英特爾?
近日,加入英特爾已有3個月的明星芯片架構(gòu)師Jim Keller接受了外媒VentureBeat的采訪,在采訪中談及了自己加入英特爾的始末和讓其為之興奮的新角色——英特爾公司技術(shù)、系統(tǒng)架構(gòu)和客戶端事業(yè)部高級副總裁兼芯片工程事業(yè)部總經(jīng)理。
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交直流充電樁的區(qū)別
具備充電功能, 其只是單純提供電力輸出, 還需要連接電動汽車車載充電機(jī),方可起到為電動汽車電池充電的作用。 由于電動汽車車載充電機(jī)的功率一般都比較小,所以交流充電樁無法實(shí)現(xiàn)快速充電。2、直流充電樁直流充電樁
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2023-11-23 16:59:20
新能源汽車無線充電的原理和方式
試驗(yàn),雖然項(xiàng)目以失敗告終。一個世紀(jì)之后,無線充電的研究迎來了新的源動力,應(yīng)用范圍也非常廣泛——小到電動牙刷、遙控器、智能手機(jī),大到電動汽車、石油鉆塔。行業(yè)巨頭豐田、日產(chǎn)、沃爾沃、英特爾和三星等,都紛紛
2018-09-07 12:01:33
智能充電樁案例分析——交流充電樁
隨著電動汽車的發(fā)展,充電樁也成為當(dāng)下的一個很熱門的工業(yè)產(chǎn)品。我們初步接觸充電樁,有了點(diǎn)滴的感受。
先簡單說說容易一點(diǎn)的交流充電樁。就是通過市電(220V,50赫茲)給電動汽車提供充電的能源來源。很
2024-02-27 14:33:11
最發(fā)達(dá)的充電技術(shù)-特斯拉充電樁
價值十分可觀。此外,這個充電網(wǎng)絡(luò)將是美國乃至世界上第一個電動汽車能源供給網(wǎng)絡(luò),在今后電動汽車普及時,Supercharger將成為充電樁的首選。
2013-09-14 14:47:13
電動汽車充電樁及其生產(chǎn)要求
的制造對生產(chǎn)技術(shù)、制造工藝和生產(chǎn)控制管理都有著十分嚴(yán)格的要求。在制造生產(chǎn)充電樁的過程中,都要嚴(yán)格按照各類標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行。一臺充電樁整機(jī)的裝配,是一個較為復(fù)雜的過程,是將品種、數(shù)量繁多的電子元器件、機(jī)械安裝件
2017-04-26 08:27:13
電動汽車交流充電樁怎么設(shè)計?
要想得到快速廣泛的普及,便捷高效的電能補(bǔ)給網(wǎng)絡(luò)建設(shè)是重要的前提之一。充電系統(tǒng)為電動汽車運(yùn)行提供能量補(bǔ)給,是電動汽車的重要基礎(chǔ)支撐系統(tǒng),也是電動汽車商業(yè)化、產(chǎn)業(yè)化過程中的重要環(huán)節(jié)。交流充電樁是指固定安裝在電動汽車外,與交流電網(wǎng)連接,為電動汽車車載充電機(jī)提供交流電源的供電裝置。
2020-04-20 06:54:10
電動汽車交流充電樁有什么特點(diǎn)?
要想得到快速廣泛的普及,便捷高效的電能補(bǔ)給網(wǎng)絡(luò)建設(shè)是重要的前提之一。充電系統(tǒng)為電動汽車運(yùn)行提供能量補(bǔ)給,是電動汽車的重要基礎(chǔ)支撐系統(tǒng),也是電動汽車商業(yè)化、產(chǎn)業(yè)化過程中的重要環(huán)節(jié)。交流充電樁是指固定安裝在電動汽車外,與交流電網(wǎng)連接,為電動汽車車載充電機(jī)提供交流電源的供電裝置。
2019-08-23 06:05:21
電動車充電時的三個主要級別及充電樁的作用
電能的基礎(chǔ)設(shè)施的組成部分。在為電動車充電時有三個主要級別,在充電前了解這三個級別很重要:· 一級充電指的是我們家里的標(biāo)準(zhǔn)110VAC插座。這是為電動汽車供電的基本交流到直流轉(zhuǎn)換。但是,充電需要很長
2017-03-01 17:15:18
電源村充電樁行業(yè)頭腦風(fēng)暴會成功舉辦
如何在市場中發(fā)現(xiàn)機(jī)遇。大家在討論的不同聲音中,對新能源汽車行業(yè)的產(chǎn)品進(jìn)行更深入的思考。會上,云谷科技余總針對目前充電樁市場上存在的一些問題與大家進(jìn)行了交流:模塊帶風(fēng)扇導(dǎo)致的模塊積灰問題,為產(chǎn)品的后期
2016-02-24 15:28:24
直流充電樁的發(fā)展趨勢
一、從未來新能源汽車的要求來看充電樁的發(fā)展趨勢60~90kW的直流樁即將被市場淘汰。在伴隨著一個最新的新能源客車補(bǔ)貼方案的推出,我們可以預(yù)見到未來3-5年內(nèi),國內(nèi)主流電動汽車需要具備的性能。從調(diào)整
2018-05-31 11:04:38
磁共振無線充電終于走向商用啦
,相對于第一代的Powermat和Qi標(biāo)準(zhǔn),以磁共振充電為核心的Rezence標(biāo)準(zhǔn)開始深入人心。目前,在支持Rezence標(biāo)準(zhǔn)的A4WP聯(lián)盟中有大量成員和支持者,包括三星、英特爾、高通、Broadcom
2014-06-10 14:32:17
說說充電樁
本帖最后由 wayntian 于 2013-2-23 11:33 編輯
說說充電樁 隨著電動汽車的發(fā)展,充電樁也成為當(dāng)下的一個很熱門的工業(yè)產(chǎn)品。我們初步接觸充電樁,有了點(diǎn)滴的感受。 先簡單
2013-02-23 11:32:37
請教怎樣去設(shè)計一種基于stm32的汽車智能充電樁?
基于stm32的汽車智能充電樁硬件是由哪些部分組成的?基于stm32的汽車智能充電樁實(shí)現(xiàn)的主要功能有哪些?怎樣去設(shè)計一種基于stm32的汽車智能充電樁?
2021-07-19 09:08:51
請問直流充電樁和交流充電樁的區(qū)別是什么?
充電樁固定的地方差不多,它是為安裝在汽車上的充電機(jī)提供交流電源的供電設(shè)備。它只會提供電力輸出,是沒有充電功能的,這會需要去連接車載充電機(jī)為其充電,等于提供了控制電源的功能。直流充電樁的造價成本要比交流的要高也是有一定原因的。
2018-06-05 10:41:11
魂遷光刻,夢繞芯片,中芯國際終獲ASML大型光刻機(jī) 精選資料分享
據(jù)羊城晚報報道,近日中芯國際從荷蘭進(jìn)口的一臺大型光刻機(jī),順利通過深圳出口加工區(qū)場站兩道閘口進(jìn)入廠區(qū),中芯國際發(fā)表公告稱該光刻機(jī)并非此前盛傳的EUV光刻機(jī),主要用于企業(yè)復(fù)工復(fù)產(chǎn)后的生產(chǎn)線擴(kuò)容。我們知道
2021-07-29 09:36:46
EUV光刻機(jī)對半導(dǎo)體制程的重要性
中心還達(dá)成了新的合作協(xié)議,雙方將共同研發(fā)新一代EUV光刻機(jī),NA數(shù)值孔徑從現(xiàn)有的0.33提高到0.5,可以進(jìn)一步提升光刻工藝的微縮水平,制造出更小的晶體管。 NA數(shù)值孔徑對光刻機(jī)有什么意義?,決定
2018-11-02 10:14:19834
OPPO加入無線充電聯(lián)盟 未來手機(jī)可能會支持Qi充電
1月12日消息,據(jù)外媒Android Police報道,OPPO加入了無線充電聯(lián)盟,未來的OnePlus和OPPO手機(jī)可能會支持Qi充電。
2019-01-14 10:02:522066
關(guān)于EUV光刻機(jī)的分析介紹
格芯首席技術(shù)官Gary Patton表示,如果在5nm的時候沒有使用EUV光刻機(jī),那么光刻的步驟將會超過100步,這會讓人瘋狂。所以所EUV光刻機(jī)無疑是未來5nm和3nm芯片的最重要生產(chǎn)工具,未來圍繞EUV光刻機(jī)的爭奪戰(zhàn)將會變得異常激烈。因?yàn)檫@是決定這些廠商未來在先進(jìn)工藝市場競爭的關(guān)鍵。
2019-09-03 17:18:1812845
ASML研發(fā)第二代EUV光刻機(jī)的微縮分辨率、套準(zhǔn)精度提升了70%
據(jù)韓媒報道稱,ASML正積極投資研發(fā)下一代EUV光刻機(jī),與現(xiàn)有光刻機(jī)相比,二代EUV光刻機(jī)最大的變化就是High NA透鏡,通過提升透鏡規(guī)格使得新一代光刻機(jī)的微縮分辨率、套準(zhǔn)精度兩大光刻機(jī)核心指標(biāo)提升70%,達(dá)到業(yè)界對幾何式芯片微縮的要求。
2019-08-07 11:24:395849
曝ASML新一代EUV光刻機(jī)預(yù)計2022年開始出貨 將進(jìn)一步提升光刻機(jī)的精度
在EUV光刻機(jī)方面,荷蘭ASML(阿斯麥)公司壟斷了目前的EUV光刻機(jī),去年出貨26臺,創(chuàng)造了新紀(jì)錄。據(jù)報道,ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī),預(yù)計在2022年開始出貨。
2020-03-17 09:21:194670
EUV光刻機(jī)全球出貨量達(dá)57臺
與此同時, 他指出,EUV繼續(xù)為ASML的客戶提高產(chǎn)量,迄今為止,他們的客戶已經(jīng)使用EUV光刻機(jī)曝光了超過1100萬個EUV晶圓,并交付了57個3400x EUV系統(tǒng)(3400平臺是EUV生產(chǎn)平臺)。
2020-08-14 11:20:552048
EUV光刻機(jī)還能賣給中國嗎?
ASML的EUV光刻機(jī)是目前全球唯一可以滿足22nm以下制程芯片生產(chǎn)的設(shè)備,其中10nm及以下的芯片制造,EUV光刻機(jī)必不可缺。一臺EUV光刻機(jī)的售價為1.48億歐元,折合人民幣高達(dá)11.74億元
2020-10-19 12:02:499647
臺積電向ASML購買更多更先進(jìn)制程的EUV光刻機(jī)
Luc Van den hove表示,IMEC的目標(biāo)是將下一代高分辨率EUV光刻技術(shù)高NA EUV光刻技術(shù)商業(yè)化。由于此前得光刻機(jī)競爭對手早已經(jīng)陸續(xù)退出市場,目前ASML把握著全球主要的先進(jìn)光刻機(jī)產(chǎn)能,近年來,IMEC一直在與ASML研究新的EUV光刻機(jī),目前目標(biāo)是將工藝規(guī)模縮小到1nm及以下。
2020-12-30 09:23:481673
為何EUV光刻機(jī)會這么耗電呢
EUV(極紫外光)光刻機(jī),是目前半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)已投入規(guī)模生產(chǎn)使用的最先進(jìn)光刻機(jī)類型。近來,有不少消息都指出,EUV光刻機(jī)耗電量非常大,甚至它還成為困擾臺積電的一大難題。 為何EUV光刻機(jī)會這么耗電
2021-02-14 14:05:003915
為什么都搶著買價格更昂貴的EUV光刻機(jī)?
目前,還有ASML有能力生產(chǎn)最先進(jìn)的EUV光刻機(jī),三星、臺積電都是ASML的客戶。但受《瓦森納協(xié)定》的制約,中國大陸沒有從ASML買來一臺EUV光刻機(jī)。
2021-01-21 08:56:184078
ASML下一代EUV光刻機(jī)延期:至少2025年
的出貨不及預(yù)期的35臺,而且他們還宣布了下一代高NA的EUV光刻機(jī)要到2025-2026年之間才能規(guī)模應(yīng)用,意味著要延期了。 此前信息顯示,ASML下一代EUV光刻機(jī)最早是2022年開始出樣,大規(guī)模
2021-01-22 17:55:242639
SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機(jī)
隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點(diǎn)以下,EUV光刻機(jī)成為制高點(diǎn),之前臺積電搶購了全球多數(shù)的EUV光刻機(jī),率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝,現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場了,SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機(jī)。
2021-02-25 09:28:551644
SK海力士砸4.8萬億韓元買EUV光刻機(jī)
隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點(diǎn)以下,EUV光刻機(jī)成為制高點(diǎn),之前臺積電搶購了全球多數(shù)的EUV光刻機(jī),率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝,現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場了,SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機(jī)。
2021-02-25 11:39:091844
EUV光刻機(jī)何以造出5nm芯片
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/周凱揚(yáng))作為近乎壟斷的光刻機(jī)巨頭,ASML的EUV光刻機(jī)已經(jīng)在全球頂尖的晶圓廠中獲得了使用。無論是英特爾、臺積電還是三星,EUV光刻機(jī)的購置已經(jīng)是生產(chǎn)支出中很大的一筆,也成了
2021-12-07 14:01:1010742
ASML正致力于新一代High-NA光刻機(jī)制造,每臺預(yù)計售價4億美元
了High-NA光刻技術(shù),High-NA指的是高數(shù)值孔徑,據(jù)了解,這種High-NA光刻技術(shù)能降低66%的尺寸,也就意味著芯片制程能夠進(jìn)一步得到升級,芯片也將獲得更高的性能,2nm之后的技術(shù)都得用這種技術(shù)來實(shí)現(xiàn)。High-NA光刻技術(shù)被認(rèn)為是延續(xù)摩爾定律的關(guān)鍵。 不
2022-05-22 14:40:593085
臺積電將于2024年引進(jìn)ASML最新EUV光刻機(jī),主要用于相關(guān)研究
日前,在臺積電召開的會議上,有一名高管稱臺積電將于2024年引進(jìn)ASML正在研發(fā)的最新的High-NA EUV光刻機(jī)。 會議中,該高管稱:為了滿足客戶所需的相關(guān)基礎(chǔ)設(shè)施的開發(fā)等,臺積電將于2024
2022-06-17 16:33:276499
ASML的High-NA光刻機(jī)居然只賣出5臺,大多芯片廠商不為所動
2nm制程的量產(chǎn)。 目前市面上最先進(jìn)的是EUV光刻機(jī),而其能夠支持制造的先進(jìn)制程工藝最高為3nm,也就是說,再往后的2nm等工藝就要用更加先進(jìn)的光刻機(jī)來完成。 ASML為此正在研發(fā)一種特別的EUV光刻機(jī)——High-NA EUV光刻機(jī)。這種光刻機(jī)所采用的技術(shù)能夠
2022-06-22 14:44:161183
2納米即將進(jìn)入下世代的埃米(angstorm)時代布局
英特爾今年初宣布已率先向 ASML 購買業(yè)界首臺 High-NA 量產(chǎn)型 EUV 設(shè)備 EXE:5200,其為首款具備 High-NA 的 EUV 大量生產(chǎn)系統(tǒng),每小時晶圓曝光產(chǎn)能超過 200 片,英特爾并宣布將于 2025 年開始以 High-NA EUV 進(jìn)行生產(chǎn)。
2022-06-22 15:15:101898
新EUV光刻機(jī)售價超26億,Intel成為首位買家,將于2025年首次交付
3nm制程,據(jù)了解,更加先進(jìn)的制程就需要更先進(jìn)的光刻機(jī)來完成了。 光刻機(jī)廠商ASML為此正在研發(fā)新一代High NA EUV光刻機(jī),這種EUV光刻機(jī)的NA數(shù)值孔徑比現(xiàn)在0.33口徑的EUV光刻機(jī)還要高,達(dá)到了0.55口徑,也就是說High NA EUV光刻機(jī)的分辨率更高,能
2022-06-28 15:07:126676
euv光刻機(jī)三大核心技術(shù) 哪些公司有euv光刻機(jī)
中國芯的進(jìn)步那是有目共睹,我國在光刻機(jī),特別是在EUV光刻機(jī)方面,更是不斷尋求填補(bǔ)空白的途徑。
2022-07-05 10:38:3516742
三星斥資買新一代光刻機(jī) 中芯光刻機(jī)最新消息
三星電子和ASML就引進(jìn)今年生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)和明年推出高數(shù)值孔徑極紫外光High-NA EUV光刻機(jī)達(dá)成采購協(xié)議。
2022-07-05 15:26:155634
euv光刻機(jī)可以干什么 光刻工藝原理
光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML的EUV光刻機(jī)。
2022-07-06 11:03:077000
euv光刻機(jī)目前幾納米 中國5納米光刻機(jī)突破了嗎
大家都知道,芯片制造的核心設(shè)備之一就是光刻機(jī)了。現(xiàn)在,全球最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML的EUV光刻機(jī),那么euv光刻機(jī)目前幾納米呢? 到現(xiàn)在,世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)能夠?qū)崿F(xiàn)5nm的加工。也就是荷蘭
2022-07-10 11:17:4242766
euv光刻機(jī)是哪個國家的
說到芯片,估計每個人都知道它是什么,但說到光刻,許多人可能不知道它是什么。光刻機(jī)是制造芯片的機(jī)器和設(shè)備。沒有光刻機(jī)的話,就無法生產(chǎn)芯片,因此每個人都知道光刻機(jī)對芯片制造業(yè)的重要性。那么euv光刻機(jī)
2022-07-10 11:42:276977
euv光刻機(jī)是干什么的
可以生產(chǎn)出納米尺寸更小、功能更強(qiáng)大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。 EUV光刻機(jī)有光源系統(tǒng)、光學(xué)鏡頭、雙工作臺系統(tǒng)三大核心技術(shù)。 目前,最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML公司的EUV光刻機(jī)。預(yù)計在光路系統(tǒng)的幫助下,能
2022-07-10 14:35:066173
duv光刻機(jī)和euv光刻機(jī)區(qū)別是什么
目前,光刻機(jī)主要分為EUV光刻機(jī)和DUV光刻機(jī)。DUV是深紫外線,EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù),EUV使用的是深紫外光刻技術(shù)。EUV為先進(jìn)工藝芯片光刻的發(fā)展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127
euv光刻機(jī)原理是什么
euv光刻機(jī)原理是什么 芯片生產(chǎn)的工具就是紫外光刻機(jī),是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備,對芯片技術(shù)有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。那么euv光刻機(jī)原理是什么呢? EUV
2022-07-10 15:28:1015099
ASML下一代EUV光刻機(jī)High-NA來了!
對于3nm后的節(jié)點(diǎn),ASML及其合作伙伴正在研究一種全新的EUV工具——Twinscan EXE:5000系列,具有0.55 NA(High-NA)透鏡,能夠達(dá)到8nm分辨率,可以避免3nm及以上的多圖案。
2022-08-17 15:44:041910
密度提升近3倍,高NA EUV光刻機(jī)有何玄機(jī)
投入使用高NA EUV光刻機(jī)已經(jīng)勢在必行了。 據(jù)了解,一臺高NA EUV的光刻機(jī)成本就可能達(dá)到3.2億美元,這樣一個天價的光刻系統(tǒng)究竟能帶來哪些優(yōu)勢,又存在哪些挑戰(zhàn)呢? 規(guī)模和密度的平衡,我們?yōu)槭裁葱枰?b class="flag-6" style="color: red">NA光刻機(jī)? 從今年發(fā)布的不少新品來看,即便工藝沒有太大的變化,芯片
2022-12-07 07:25:02952
ASML CEO 承諾年底前交付首臺 High-NA EUV ***;蘋果與Arm簽署新的芯片技術(shù)長期協(xié)議,延續(xù)至2040年以后
熱點(diǎn)新聞 1、ASML CEO 承諾年底前交付首臺 High-NA EUV 光刻機(jī):體積和卡車相當(dāng),每臺售價 3 億美元 ASML 首席執(zhí)行官 Peter Wennink 近日在接受采訪時表示,盡管
2023-09-06 16:50:06695
生產(chǎn)2納米的利器!成本高達(dá)3億歐元,High-NA EUV***年底交付 !
ASML是歐洲最大半導(dǎo)體設(shè)備商,主導(dǎo)全球光刻機(jī)設(shè)備市場,光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造關(guān)鍵步驟,但高數(shù)值孔徑(High NA)EUV,Peter Wennink指有些供應(yīng)商提高產(chǎn)能及提供適當(dāng)技術(shù)遇到困難,導(dǎo)致延誤。但即便如此,第一批產(chǎn)品仍會在年底推出。
2023-09-08 16:54:10713
IBM、美光、應(yīng)用材料、東京電子宣布合作建設(shè) High-NA EUV 研發(fā)中心
Albany NanoTech Complex 建設(shè)下一代 High-NA EUV 半導(dǎo)體研發(fā)中心。 根據(jù)聲明,負(fù)責(zé)協(xié)調(diào)該設(shè)施建設(shè)的非營利性機(jī)構(gòu) NY Creates 將利用 10 億美元州政府資金
2023-12-14 08:44:18237
英特爾搶下6種ASML HIGH NA光刻機(jī)
如果我們假設(shè)光刻機(jī)成本為 3.5 億至 4 億美元,并且 2024 年 10 個光刻機(jī)的HIGH NA 銷售額將在 35億至40億美元之間。
2023-12-28 11:31:39406
英特爾:預(yù)計2027年末10A節(jié)點(diǎn)投產(chǎn),投資千億美元擴(kuò)大晶圓制造
根據(jù)先前記載,10A將會是英特爾繼使用High-NA EUV光刻技術(shù)的首批主要節(jié)點(diǎn)之后的第二例,預(yù)計可呈現(xiàn)出超過10%的每瓦性能改善。
2024-02-28 16:00:22111
英特爾成為全球首家購買3.8億美元高數(shù)值孔徑光刻機(jī)的廠商
英特爾最近因決定從荷蘭 ASML 購買世界上第一臺高數(shù)值孔徑(High-NA)光刻機(jī)而成為新聞焦點(diǎn)。到目前為止,英特爾是全球唯一一家訂購此類光刻機(jī)的晶圓廠,據(jù)報道它們的售價約為3.8億美元
2024-03-06 14:49:01164
ASML 首臺新款 EUV 光刻機(jī) Twinscan NXE:3800E 完成安裝
ASML 官網(wǎng)尚未上線 Twinscan NXE:3800E 的信息頁面。 除了正在研發(fā)的 High-NA EUV 光刻機(jī) Twinscan EXE 系列,ASML 也為其 NXE 系列傳統(tǒng)數(shù)值孔徑
2024-03-14 08:42:349
押注2nm!英特爾26億搶單下一代 EUV光刻機(jī),臺積電三星決戰(zhàn)2025!
了。 ? 芯片制造離不開光刻機(jī),特別是在先進(jìn)制程上,EUV光刻機(jī)由來自荷蘭的ASML所壟斷。同時,盡管目前市面上,EUV光刻機(jī)客戶僅有三家,但需求不斷增加的情況底下,EUV光刻機(jī)依然供不應(yīng)求。 ? 針對后3nm時代的芯片制造工藝,High-NA(高數(shù)值孔徑)EUV光刻機(jī)
2022-06-29 08:32:004635
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