1. 英特爾將獲美國35億美元芯片補貼
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美國國會助理表示,美國政府計劃對英特爾補貼35億美元,以生產軍用先進半導體,該預算編列在當地時間3月6日通過的一項快速支出法案中。
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這筆資金為期三年,用于支持所謂“安全飛地(secure enclave)”的計劃。計劃的資金來自總金額390億美元的《芯片和科學法案》。芯片法案立法的宗旨是鼓勵芯片制造商在美國生產半導體,目前已有600多家公司表明希望獲得補助。2023年11月有報道稱,英特爾正協商就“安全飛地”的計劃爭取30億至40億美元的補貼。另有報道稱,英特爾有望從芯片法案拿到超過100億美元的現金和貸款補助。
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2. 美光將首先采用佳能納米壓印光刻機,降低DRAM生產成本
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美國存儲廠商美光計劃首先采用日本佳能的納米壓印(NIL)光刻機,希望借此進一步降低生產DRAM存儲器的成本。美光日前舉辦演講,介紹納米壓印技術用于DRAM生產的細節。美光闡述了DRAM制程和浸潤式曝光解析度的問題,通過Chop層數不斷增加,必須增加更多曝光步驟,以取出密集存儲陣列周圍的虛置結構。
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由于光學系統特性,DRAM層圖案很難用光學曝光圖案,納米壓印可實現更精細的圖案,且成本是浸潤式光刻的20%,成為較佳的解決方案。但納米壓印并不能在存儲器生產所有階段取代傳統光刻,兩者并非純粹競爭關系,但至少可以降低部分技術操作成本。佳能于2023年10月推出新型FPA-1200NZ2C納米壓印光刻機,可將電路圖案直接印在晶圓上,佳能強調了該設備的低成本和低功耗,其前景成為行業爭論的話題。
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3. 傳三星與應用材料合作簡化EUV光刻技術
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消息稱三星電子正在與應用材料公司合作,希望減少極紫外(EUV)工藝步驟的數量,如果成功,將有助于降低半導體生產成本。韓國業界表示,隨著越來越多的公司采用EUV工藝,預計許多公司將開始投資減少EUV工藝步驟的技術。
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業內消息人士稱,三星正在嘗試與應用材料公司合作,以減少4nm的工藝步驟數量。這將主要通過應用材料的“Centura Sculpta”圖案化系統來實現,該系統于2023年開發,旨在減少EUV工藝步驟。Centura Sculpta是一種圖案成型系統,可幫助客戶減少光刻時間。應用材料在2023年2月表示,光刻技術正變得越來越復雜和昂貴,新技術方法可以簡化芯片生產流程,同時減少浪費和環境影響。應用材料聲稱,Centura Sculpta可以將每片晶圓的生產成本降低50美元以上。
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4. 高塔半導體回應工廠停工:仍將按計劃履行晶圓交付承諾
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近日媒體報道稱,在行業放緩的情況下,高塔半導體計劃對其美國紐波特海灘市(Newport Beach)的大部分業務進行為期三周的停工,此舉將使近700名員工休假。高塔半導體確認將于4月1日至7日關閉其大部分業務,并計劃在7月1日至7日和10月7日至13日關閉更多業務。
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對此,高塔半導體發布聲明指出,Tower Newport Beach工廠計劃在 4 月 1 日至 4 月 7 日期間進行維護,晶圓上線計劃和生產在此期間會受限制。因為這是一次計劃中的正常維護,我們仍將按計劃履行晶圓交付承諾。Tape out工作將繼續進行,不會中斷。
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5. 傳HBM良率僅為65%,存儲大廠力爭通過英偉達測試
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HBM高帶寬存儲芯片被廣泛應用于最先進的人工智能(AI)芯片,據業界消息,英偉達的質量測試對存儲廠商提出挑戰,因為相比傳統DRAM產品,HBM的良率明顯較低。
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臺積電、三星代工等公司,此前在加工單一硅晶圓時一直面臨將良率維持在最佳水平的挑戰,但當前這一問題蔓延到了HBM行業。消息稱美光、SK海力士等存儲廠商,在英偉達下一代AI GPU的資格測試中將進行競爭,似乎差距不大,而良率將是廠商們的阻礙。消息人市場稱,目前HBM存儲芯片的整體良率在65%左右,其中美光、SK海力士似乎在這場競爭中處于領先地位。據悉,美光已開始為英偉達當前最新的H200 AI GPU生產HBM3e存儲芯片,因為其已通過Team Green設定的認證階段。
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6. 消息稱特斯拉 FSD Beta 輔助駕駛功能 2025 年登陸歐洲,中國最快今年夏天開始測試
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@Florian Minderop 表示,歐盟已經在剛剛舉行的世界車輛法規協調論壇(WP.29)上通過了新規,確認特斯拉 FSD 歐洲版將于 2025 年登陸歐洲市場,這一消息還得到了 @Teslascope 的證實。
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@Teslascope 還補充道,特斯拉 FSD Beta 測試版可能會從今年 10 月開始在歐盟部分地區進行測試。此外,特斯拉 FSD Beta 中國版也在快速推進中,目前暫定的發布目標是今年夏天。實際上,今年以來已經傳出多次“特斯拉 FSD 入華”的消息,但特斯拉官方只表示“目前沒有推出的準確時間”。不過早在去年 11 月,隨著四部委聯合印發通知部署開展智能網聯汽車準入、上路通行試點工作,特斯拉 FSD 當時也被認為進入“倒計時”階段。特斯拉中國曾回應稱:“目前確實正在推進中”。
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今日看點丨美光將首先采用佳能納米壓印光刻機;傳三星與應用材料合作簡化EUV光刻技術
- 美光(50950)
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芯片制造關鍵的EUV光刻機單價為何能超1億歐元?
進入10nm工藝節點之后,EUV光刻機越來越重要,全球能產EUV光刻機的就是荷蘭ASML公司了,他們總共賣出18臺EUV光刻機,總價值超過20億歐元,折合每套系統售價超過1億歐元,可謂價值連城。
2017-01-19 18:22:593470
EUV光刻機對半導體制程的重要性
晶圓產率方面還有很大發大空間。EUV光刻機對7nm及以下的工藝節點非常重要,臺積電、三星兩大代工巨頭均已在最新產品中引入7納米EUV技術。 EUV光刻機壟斷者ASML 目前,光刻機領域的龍頭老大是荷蘭
2018-11-02 10:14:19834
ASML正在著手開發新一代極紫外(EUV)光刻機
ASML副總裁Anthony Yen表示,ASML已開始開發極紫外(EUV)光刻機,其公司認為,一旦當今的系統達到它們的極限,就將需要使用極紫外光刻機來繼續縮小硅芯片的特征尺寸。
2018-12-09 10:35:077142
光刻技術的基本原理!光刻技術的種類光學光刻
光刻技術是包含光刻機、掩模、光刻材料等一系列技術,涉及光、機、電、物理、化學、材料等多個研究方向。目前科學家正在探索更短波長的F2激光(波長為157納米)光刻技術。由于大量的光吸收,獲得用于光刻系統
2019-01-02 16:32:2323711
臺積電將包攬ASML這批EUV光刻機中的18臺
由于三星去年就小規模投產了7nm EUV,同時ASML(荷蘭阿斯麥)將EUV光刻機的年出貨量從18臺提升到今年的預計30臺,顯然促使臺積電不得不加快腳步。
2019-04-30 17:30:037913
ASML發布2019年Q2季度財報 EUV光刻機最主要的問題還是產能不足
掌握全球唯一EUV光刻機研發、生產的荷蘭ASML(阿斯麥)公司今天發布了2019年Q2季度財報,當季營收25.68億歐元,其中凈設備銷售額18.51億歐元,總計出貨了41臺光刻機,其中EUV光刻機7臺。
2019-07-18 16:02:003147
動態 | 阿斯麥發布Q2財報:EUV光刻機產能大增
掌握全球唯一EUV光刻機研發、生產的荷蘭ASML(阿斯麥)公司今天發布了2019年Q2季度財報,當季營收25.68億歐元,其中凈設備銷售額18.51億歐元,總計出貨了41臺光刻機,其中EUV光刻機7臺。
2019-07-23 10:47:213102
關于EUV光刻機的分析介紹
格芯首席技術官Gary Patton表示,如果在5nm的時候沒有使用EUV光刻機,那么光刻的步驟將會超過100步,這會讓人瘋狂。所以所EUV光刻機無疑是未來5nm和3nm芯片的最重要生產工具,未來圍繞EUV光刻機的爭奪戰將會變得異常激烈。因為這是決定這些廠商未來在先進工藝市場競爭的關鍵。
2019-09-03 17:18:1812845
ASML研發第二代EUV光刻機的微縮分辨率、套準精度提升了70%
據韓媒報道稱,ASML正積極投資研發下一代EUV光刻機,與現有光刻機相比,二代EUV光刻機最大的變化就是High NA透鏡,通過提升透鏡規格使得新一代光刻機的微縮分辨率、套準精度兩大光刻機核心指標提升70%,達到業界對幾何式芯片微縮的要求。
2019-08-07 11:24:395849
EV集團和肖特攜手證明300-MM光刻/納米壓印技術在玻璃制造中已就緒
,圣弗洛里安微機電系統(MEMS)、納米技術和半導體市場晶圓鍵合與光刻設備領先供應商EV集團(EVG)今日宣布,與特種玻璃和微晶玻璃領域的世界領先技術集團肖特攜手合作,證明300-mm(12英寸)光刻/納米壓印(NIL)技術在下一代增強現實/混合現實(AR/MR)頭戴顯示設備的波導/光
2019-08-29 22:48:032369
半導體巨頭為什么追捧EUV光刻機
近些年來EUV光刻這個詞大家應該聽得越來越多,三星在去年發布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片,臺積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝,蘋果的A13
2020-02-29 10:58:473149
EUV光刻機到底是什么?為什么這么貴?
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中芯國際表示深圳工廠進口光刻機不是EUV光刻機
據中國證券報報道,3月6日下午從中芯國際獲悉,日前中芯國際深圳工廠從荷蘭進口了一臺大型光刻機,但這是設備正常導入,用于產能擴充,并非外界所稱的EUV光刻機。
2020-03-07 10:55:144167
ASML研發新一代EUV光刻機 分辨率能提升70%左右
在EUV光刻機方面,荷蘭ASML(阿斯麥)公司壟斷了目前的EUV光刻機,去年出貨26臺,創造了新紀錄。據報道,ASML公司正在研發新一代EUV光刻機,預計在2022年開始出貨。
2020-03-17 09:13:482863
曝ASML新一代EUV光刻機預計2022年開始出貨 將進一步提升光刻機的精度
在EUV光刻機方面,荷蘭ASML(阿斯麥)公司壟斷了目前的EUV光刻機,去年出貨26臺,創造了新紀錄。據報道,ASML公司正在研發新一代EUV光刻機,預計在2022年開始出貨。
2020-03-17 09:21:194670
微光刻膠技術在全球范圍內為納米壓印光刻量身定制了光刻膠配方
納米壓印光刻技術及其應用的需求正在不斷變化。因此,此次合作的基本目標是了解市場最新需求,進而通過雙方在工藝和材料方面的優勢,合力開發出相應的解決方案,從而應對該行業不斷出現的嚴峻挑戰。
2020-06-17 14:27:424803
開發頂級光刻機的困難 頂級光刻機有多難搞?
頂級光刻機有多難搞?ASML的光刻機,光一個零件他就調整了10年!拿荷蘭最新極紫外光EUV光刻機舉例,其內部精密零件多達10萬個,比汽車零件精細數十倍!
2020-07-02 09:38:3911513
EUV光刻機全球出貨量達57臺
與此同時, 他指出,EUV繼續為ASML的客戶提高產量,迄今為止,他們的客戶已經使用EUV光刻機曝光了超過1100萬個EUV晶圓,并交付了57個3400x EUV系統(3400平臺是EUV生產平臺)。
2020-08-14 11:20:552048
王毅與荷蘭談光刻機出口問題
【重磅】王毅到訪荷蘭,期待放行ASML EUV光刻機 來源:中國半導體論壇 彭博引述知情人士消息稱,荷蘭政府極有可能不會給予ASML向中國出貨EUV光刻機的許可證。一年前的許可證到期后,在美國
2020-09-10 14:19:112577
EUV光刻機的數量有望成為三星半導體成長的關鍵
據悉,ASML是全球唯一能夠生產EUV光刻機的廠商,年產量為40余臺,臺積電方面希望獲得全數供應。EUV光刻機的價格昂貴,每臺要價約1.3億美元,由于是EUV制程必需的關鍵設備,臺積電與三星電子的競爭日益激烈。
2020-10-13 13:51:521913
1.2億美元光刻機
荷蘭阿斯麥(ASML)公司的光刻機作為世界上最貴最精密的儀器,相信大家都有耳聞,它是加工芯片的設備。其最先進的EUV(極紫外光)光刻機已經能夠制造7nm以下制程的芯片,據說一套最先進的7納米EUV
2020-10-15 09:20:054438
一文詳解光刻機技術
最近光刻機十分火,我們經常聽到別人說7納米光刻機、5納米光刻機,但其實嚴格意義上來說并不存在7納米光刻機,5納米光刻機,我為什么會這樣說呢?
2020-10-19 11:42:5120305
EUV光刻機還能賣給中國嗎?
。媒體稱,臺積電采購的EUV光刻機已經超過30臺,三星累計采購的EUV光刻機不到20臺。 圍繞芯片制造要用到的關鍵設備光刻機,一直不缺話題。 比如,一臺EUV光刻機賣多少錢?誰買走了這些EUV光刻機?大陸廠商還能買到光刻機嗎?為何三星高管最近跑去荷蘭拜訪ASML總部? 上面這
2020-10-19 12:02:499647
三星急需EUV光刻機趕產量_2022年或將再購買60部EUV設備
根據韓國媒體《BusinessKorea》的報道,日前三星電子副董事長李在镕前往荷蘭拜訪光刻機大廠ASML,其目的就是希望ASML的高層能答應提早交付三星已經同意購買的極紫外光光刻設備(EUV)。
2020-10-24 09:37:302866
目前全球只有荷蘭ASML有能力生產EUV光刻機
11月5日,世界光刻機巨頭荷蘭阿斯麥ASML亮相第三屆進博會。作為全球唯一能生產EUV(極紫外光)光刻機的企業,由于ASML目前仍不能向中國出口EUV光刻機,所以此次展示的是其DUV(深紫外光)光刻機。據悉,該產品可生產7nm及以上制程芯片。
2020-11-06 11:27:465517
ASML EUV光刻機被美國限制 中國企業出多少錢都買不回
ASML在光刻機領域幾乎是巨無霸的存在,而他們對于與中國企業合作也是非常歡迎,無奈一些關鍵細節上被美國卡死。 中國需要光刻機,尤其是支持先進制程的高端光刻機,特別是 EUV (極紫外光源)光刻機
2020-11-10 10:08:043056
ASML表示將向國內市場出售更多的DUV光刻機
而由其所研發生產的EUV光刻機更是在高端市場之中處于一家獨大的位置。臺積電作為ASML的股東很輕松就能夠獲得ASML的EUV光刻機,所以這邊導致臺積電一直以來在技術上領先于三星。當然能夠在5納米等工藝方面保持領先的地位,也是因為這個原因。
2020-12-01 12:03:152339
為何只有荷蘭ASML才能制造頂尖EUV光刻機設備?
只有荷蘭光刻機巨頭ASML能造,對此也有很多網友們感覺到非常疑惑,為何只有荷蘭ASML可以造頂尖EUV光刻機設備呢?像我國的上海微電子、日本的索尼、佳能都造不出來嗎?
2020-12-03 13:46:226379
什么是納米壓印光刻技術
產業的基礎技術。目前,納米壓印技術在國際半導體藍圖(ITRS)中被列為下一代32nm、22nm和16nm節點光刻技術的代表之一。國內外半導體設備制造商、材料商以及工藝商紛紛開始涉足這一領域,短短25年,已經取得很大進展。 ? 納米壓印技術首先通過接觸式壓印
2021-01-03 09:36:0023515
國產光刻機之路,任重而道遠
荷蘭阿斯麥公司作為掌握光刻機系統集成和整體架構的核心企業,自然成了歐美自家的小棉襖,順利趕上了歐美EUV技術研究發展的風口,投資德國卡爾蔡司,收購美國Cymer光源。集成世界各國頂尖科技的EUV
2020-12-28 09:25:5518165
臺積電向ASML購買更多更先進制程的EUV光刻機
Luc Van den hove表示,IMEC的目標是將下一代高分辨率EUV光刻技術高NA EUV光刻技術商業化。由于此前得光刻機競爭對手早已經陸續退出市場,目前ASML把握著全球主要的先進光刻機產能,近年來,IMEC一直在與ASML研究新的EUV光刻機,目前目標是將工藝規模縮小到1nm及以下。
2020-12-30 09:23:481673
佳能發售新型光刻機“FPA-3030i5a”,搶占高功能半導體市場
光刻機(圖源:日經中文網) 時隔7年,佳能更新了面向小型基板的半導體光刻機,該設備使用波長為365納米的“i線”光源,支持直徑從2英寸(約5厘米)到8英寸(約20厘米)的小型基板,生產效率較以往機型提高了約17%。 就工藝水平而言,佳能的這款新型光
2021-01-06 17:41:067868
佳能即將發售新型光刻機“FPA-3030i5a”
日本的佳能曾經是最大的光刻機制造商之一,后來逐漸衰微。但佳能并沒有放棄光刻機業務。據日經中文網報道,佳能將于2021年3月發售新型光刻機“FPA-3030i5a”,用來搶占高功能半導體市場。
2021-01-07 09:03:223005
佳能將推新光刻機,效率提升17%
日本的佳能曾經是最大的光刻機制造商之一,后來逐漸衰微。但佳能并沒有放棄光刻機業務。據日經中文網報道,佳能將于2021年3月發售新型光刻機“FPA-3030i5a”,用來搶占高功能半導體市場。
2021-01-07 11:21:093152
為何EUV光刻機會這么耗電呢
呢?OFweek君根據公開資料整理出了一些原因,供讀者參考。 與DUV(深紫外光)光刻機相比,EUV光刻機的吞吐量相對較低,每小時可曝光處理的晶圓數量約在120片-175片之間,技術改進后,速度可以提升至275片每小時。但相對而言,EUV生產效率還是更高,
2021-02-14 14:05:003915
為什么都搶著買價格更昂貴的EUV光刻機?
目前,還有ASML有能力生產最先進的EUV光刻機,三星、臺積電都是ASML的客戶。但受《瓦森納協定》的制約,中國大陸沒有從ASML買來一臺EUV光刻機。
2021-01-21 08:56:184078
ASML壟斷第五代光刻機EUV光刻機:一臺利潤近6億
%,凈利潤達到36億歐元。全球光刻機主要玩家有ASML、尼康和佳能三家,他們占到了全球市場90%。 ASML由于技術領先,一家壟斷了第五代光刻機EUV光刻機,這類光刻機用于制造7nm以下先進制程的芯片。 2020年ASML對外銷售了31臺EUV光刻機,帶來了45億歐元(折合352.52億
2021-01-22 10:38:164677
ASML下一代EUV光刻機延期:至少2025年
ASML公司前兩天發布了財報,全年凈銷售額140億歐元,EUV光刻機出貨31臺,帶來了45億歐元的營收,單價差不多11.4億歐元了。 雖然業績增長很亮眼,但是ASML也有隱憂,實際上EUV光刻機
2021-01-22 17:55:242639
SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機
隨著半導體工藝進入10nm節點以下,EUV光刻機成為制高點,之前臺積電搶購了全球多數的EUV光刻機,率先量產7nm、5nm工藝,現在內存廠商也要入場了,SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機。
2021-02-25 09:28:551644
SK海力士砸4.8萬億韓元買EUV光刻機
隨著半導體工藝進入10nm節點以下,EUV光刻機成為制高點,之前臺積電搶購了全球多數的EUV光刻機,率先量產7nm、5nm工藝,現在內存廠商也要入場了,SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機。
2021-02-25 11:39:091844
中科院5nm光刻技術與ASML光刻機有何區別?
5nm光刻技術與ASML光刻機有何區別? EUV光刻機產能如何? 大飛_6g(聽友) 請問謝博士,EUV光刻機的產能是怎樣的?比如用最先進的光刻機,滿負荷生產手機芯片麒麟990,每天能產多少片?中芯國際有多少臺投入生產的光刻機?是1臺、5臺還是10臺呢?謝謝 謝志
2021-03-14 09:46:3023476
光刻機原理介紹
光刻機,是現代光學工業之花,是半導體行業中的核心技術。 ? ? ? ?可能有很多人都無法切身理解光刻機的重要地位,光刻機,是制造芯片的機器,要是沒有了光刻機,我們就沒有辦法造出芯片,自然也就
2021-07-07 14:31:18125772
EUV光刻機何以造出5nm芯片
7nm之下不可或缺的制造設備,我國因為貿易條約被遲遲卡住不放行的也是一臺EUV光刻機。 但EUV光刻機的面世靠的不僅僅是ASML一家的努力,還有蔡司和TRUMPF(通快)兩家歐洲光學巨頭的合作才得以成功。他們的技術分別為EUV光刻機的鏡頭和光源做出了不
2021-12-07 14:01:1010742
光刻膠和光刻機的關系
光刻膠是光刻機研發的重要材料,換句話說光刻機就是利用特殊光線將集成電路映射到硅片的表面,如果想要硅片的表面不留下痕跡,就需要網硅片上涂一層光刻膠。
2022-02-05 16:11:0011281
光刻機干啥用的
光刻機是芯片制造的核心設備之一。目前有用于生產的光刻機,有用于LED制造領域的光刻機,還有用于封裝的光刻機。光刻機是采用類似照片沖印的技術,然后把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
2022-02-05 16:03:0085813
俄羅斯簽署合同欲研發頂尖X射線光刻機
在半導體的制造中,光刻機作為其中重要的組成部分,其技術非常復雜,價格也十分昂貴。 由于近期沖突,俄羅斯芯片進口遭嚴重限制,在其國內沒有光刻機的情況下,俄羅斯貿工部選擇了與俄羅斯莫斯科電子技術學院簽署
2022-04-06 10:35:337960
三星董事李在镕親自拜訪ASML,只為爭取到EUV光刻機
媒體稱三星的目的是為了搶到ASML的EUV光刻機。 目前芯片短缺的現狀大家也都清楚,再加上7nm制程以下的高端芯片只有EUV光刻機才能打造,而本來EUV光刻機就稀少,因此先進芯片發展頻頻受限,并且前段時間三星才剛剛和Intel洽談完芯片合作的事宜,因
2022-06-07 14:18:041176
臺積電將于2024年引進ASML最新EUV光刻機,主要用于相關研究
年引進ASML最先進的High-NA EUV光刻機,并且推動臺積電的創新能力。不過另一位高管補充道:臺積電并不打算在2024年將High-NA EUV光刻機投入到生產工作中去,將首先與合作伙伴進行相關的研究。 據了解,High-NA EUV光刻機的High-NA代表的是高數值孔徑,相比于現在的光刻技術,
2022-06-17 16:33:276499
新EUV光刻機售價超26億,Intel成為首位買家,將于2025年首次交付
在芯片研發的過程中,光刻機是必不可少的部分,而隨著芯片制程工藝的不斷發展,普通的光刻機已經不能滿足先進制程了,必須要用最先進的EUV光刻機才能完成7nm及其以下的先進制程,而目前臺積電和三星都在攻克
2022-06-28 15:07:126676
三星可生產euv光刻機嗎 euv光刻機每小時產能
隨著芯片制程工藝的更新迭代,芯片已進入納米時代,指甲蓋大小的芯片上集成的晶體管數量高達百億。然而芯片制造最大的困難是光刻機。
2022-07-05 10:57:265743
三星斥資買新一代光刻機 中芯光刻機最新消息
三星電子和ASML就引進今年生產的EUV光刻機和明年推出高數值孔徑極紫外光High-NA EUV光刻機達成采購協議。
2022-07-05 15:26:155634
euv光刻機出現時間 ASML研發新一代EUV光刻機
EUV光刻機是在2018年開始出現,并在2019年開始大量交付,而臺積電也是在2019年推出了7nm EUV工藝。
2022-07-07 09:48:444523
euv光刻機目前幾納米 中國5納米光刻機突破了嗎
大家都知道,芯片制造的核心設備之一就是光刻機了。現在,全球最先進的光刻機是荷蘭ASML的EUV光刻機,那么euv光刻機目前幾納米呢? 到現在,世界上最先進的光刻機能夠實現5nm的加工。也就是荷蘭
2022-07-10 11:17:4242766
euv光刻機是哪個國家的
是哪個國家的呢? euv光刻機許多國家都有,理論上來說,芯片強國的光刻機也應該很強,但是最強的光刻機制造強國,不是美國、韓國等芯片強國,而是荷蘭。 EUV光刻機有光源系統、光學鏡頭、雙工作臺系統三大核心技術。 目前,在全世
2022-07-10 11:42:276977
euv光刻機是干什么的
可以生產出納米尺寸更小、功能更強大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻機生產。 EUV光刻機有光源系統、光學鏡頭、雙工作臺系統三大核心技術。 目前,最先進的光刻機是荷蘭ASML公司的EUV光刻機。預計在光路系統的幫助下,能
2022-07-10 14:35:066173
duv光刻機和euv光刻機區別是什么
目前,光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV是深紫外線,EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術,EUV使用的是深紫外光刻技術。EUV為先進工藝芯片光刻的發展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127
euv光刻機原理是什么
euv光刻機原理是什么 芯片生產的工具就是紫外光刻機,是大規模集成電路生產的核心設備,對芯片技術有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機生產。那么euv光刻機原理是什么呢? EUV
2022-07-10 15:28:1015099
euv光刻機用途是什么
光刻機是當前半導體芯片產業的核心設備,其技術含量和價值含量都很高。那么euv光刻機用途是什么呢?下面我們就一起來看看吧。 光刻設備涉及系統集成、精密光學、精密運動、精密材料傳輸、高精度微環境控制
2022-07-10 16:34:403116
EUV光刻技術相關的材料
與此同時,在ASML看來,下一代高NA EUV光刻機為光刻膠再度帶來了挑戰,更少的隨機效應、更高的分辨率和更薄的厚度。首先傳統的正膠和負膠肯定是沒法用了,DUV光刻機上常用的化學放大光刻膠(CAR)也開始在5nm之后的分辨率和敏感度上出現瓶頸
2022-07-22 10:40:082010
Microlight3D雙光子聚合3D納米光刻機新突破
MicroFAB-3D雙光子聚合3D納米光刻機是一款超緊湊、超高分辨率交鑰匙型3D打印機。雙光子聚合3D納米光刻機基于雙光子聚合(TPP)激光直寫技術,兼容多種高分子材料,包括生物材料。MicroFAB-3D 3D納米光刻機幫助您以百納米級的分辨率生產出前所未有的復雜的微部件.
2022-08-08 13:54:185884
佳能發售半導體光刻機解決方案Lithography Plus
來源:佳能集團 通過技術與數據優勢,提升光刻機的生產效率 佳能將于2022年9月5日起發售解決方案平臺“Lithography Plus1”服務(以下簡稱“Lithography Plus”),該系
2022-09-06 17:01:491195
除ASML之外的光刻機廠商們近況如何?
廠商尼康和佳能為例,他們就仍在堅持開發并擴展自己的光刻機業務。 尼康 尼康的光刻機產品陣容比較全面,包括ArF浸沒式掃描光刻機、ArF步進掃描光刻機、KrF掃描光刻機、i線步進式光刻機和FPD面板光刻機,基本涵蓋了除EUV以外的主流光刻機
2022-11-24 07:10:033222
密度提升近3倍,高NA EUV光刻機有何玄機
電子發燒友網報道(文/ 周凱揚 )到了3nm這個工藝節點之后,單靠現有的0.33NA EUV光刻機就很難維系下去了。 為了實現2nm乃至未來的埃米級工藝,將晶體管密度推向1000MTr/mm2,全面
2022-12-07 07:25:02952
納米壓印光刻,能讓國產繞過ASML嗎?
日本最寄望于納米壓印光刻技術,并試圖靠它再次逆襲,日經新聞網也稱,對比EUV光刻工藝,使用納米壓印光刻工藝制造芯片,能夠降低將近四成制造成本和九成電量,鎧俠 (KIOXIA)、佳能和大日本印刷等公司則規劃在2025年將該技術實用化。
2023-03-22 10:20:391837
佳能推出5nm芯片制造設備,納米壓印技術重塑半導體競爭格局?
佳能近日表示,計劃年內或明年上市使用納米壓印技術的光刻設備FPA-1200NZ2C。對比已商業化的EUV光刻技術,雖然納米壓印的制造速度較傳統方式緩慢,但由于制程簡化,耗電僅為EUV的十分之一,且投資額也僅為EUV設備的四成。
2024-01-31 16:51:18551
佳能預計到2024年出貨納米壓印光刻機
Takeishi向英國《金融時報》表示,公司計劃于2024年開始出貨其納米壓印光刻機FPA-1200NZ2C,并補充說芯片可以輕松以低成本制造。2023年11月,該公司表示該設備的價格將比ASML的EUV機器便宜一位數。 佳能表示,與利用光曝光電路圖案的傳統光刻技術不同,納米壓印光刻不需要光源,利用
2024-02-01 15:42:05270
押注2nm!英特爾26億搶單下一代 EUV光刻機,臺積電三星決戰2025!
了。 ? 芯片制造離不開光刻機,特別是在先進制程上,EUV光刻機由來自荷蘭的ASML所壟斷。同時,盡管目前市面上,EUV光刻機客戶僅有三家,但需求不斷增加的情況底下,EUV光刻機依然供不應求。 ? 針對后3nm時代的芯片制造工藝,High-NA(高數值孔徑)EUV光刻機
2022-06-29 08:32:004635
繞開EUV光刻,下一代納米壓印光刻技術從存儲領域開始突圍
電子發燒友網報道(文/李寧遠)提及芯片制造技術,首先想到的自然是光刻機和光刻技術。眾所周知在芯片行業,光刻是芯片制造過程中最重要、最繁瑣、最具挑戰也最昂貴的一項工藝步驟。在光刻機的支持下,摩爾定律
2023-07-16 01:50:153009
納米壓印光刻技術應用在即,能否掀起芯片制造革命?
壓印光刻技術NIL在這條賽道上備受關注,是最有機會率先應用落地的技術路線。 ? 今年早些時候,根據英國金融時報的報道,負責監督新型光刻機開發的佳能高管武石洋明在接受采訪時稱,采用納米壓印技術的佳能光刻設備FPA-1200NZ2C目標最快在
2024-03-09 00:15:002917
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