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電子發燒友網>制造/封裝>今日看點丨英特爾提供高達50萬歐元的自愿離職補償金;武漢光谷實驗室研發量子點光刻膠

今日看點丨英特爾提供高達50萬歐元的自愿離職補償金;武漢光谷實驗室研發量子點光刻膠

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#高通 #英特爾 #Elite 高通X Elite芯片或終結蘋果、英特爾的芯片王朝

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關于英特爾神秘實驗室的分析和介紹

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光刻膠國產化刻不容緩

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一文帶你看懂光刻膠

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博聞廣見之半導體行業中的光刻膠

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2022-12-06 14:53:541378

集成電路制造用高端光刻膠研發項目存6大難點

對公司光刻膠業務的具體影響等問題。 10月12日,晶瑞股份發布關于深圳證券交易所關注函的回復公告稱,本次擬購買的光刻機設備將用于公司集成電路制造用高端光刻膠研發項目,將有助于公司將光刻膠產品序列實現到ArF光刻膠的跨越,并最終實
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容大感光科技光刻膠研發進程

多年來,光刻膠研發都被列入我國高新技術計劃、重大科技項目。今年9月28日,國家發展改革委、科技部、工業和信息化部以及財政部聯合印發的《關于擴大戰略性新興產業投資培育壯大新增長增長極的指導意見》中
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? 導 讀 日前,南大光電公告稱,由旗下控股子公司寧波南大光電材料自主研發的 ArF 光刻膠產品成功通過客戶使用認證,線制程工藝可以滿足 45nm-90nm光刻需求。 圖:南大光電公告 ? 公告稱
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晶瑞順利購得 ASML XT 1900 Gi 型光刻機一臺,可研發最高分辨率達 28nm 的高端光刻膠

晶瑞股份發布公告:經多方協商、積極運作,該公司順利購得 ASML XT 1900 Gi 型光刻機一臺。 該光刻機于 2021 年 1 月 19 日運抵蘇州并成功搬入公司高端光刻膠研發實驗室,即將組織
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1月19日晚,國內半導體材料公司晶瑞股份發表公告,宣稱購得ASML公司光刻機一臺,將用于高端光刻膠項目。
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2021年,半導體制造所需的光刻膠市場規模將同比增長11%

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2021-05-17 14:15:524208

光刻膠板塊的大漲吸引了產業注意 ,國產光刻膠再遇發展良機?

5月27日,半導體光刻膠概念股開盤即走強,截至收盤,A股光刻膠板塊漲幅達6.48%。其中晶瑞股份、廣信材料直線拉升大漲20%封漲停,容大感光大漲13.28%,揚帆新材大漲11.37%,南大光電
2021-05-28 10:34:152764

光刻膠光刻機的關系

光刻膠光刻研發的重要材料,換句話說光刻機就是利用特殊光線將集成電路映射到硅片的表面,如果想要硅片的表面不留下痕跡,就需要網硅片上涂一層光刻膠
2022-02-05 16:11:0012100

改善去除負光刻膠效果的方法報告

摘要 我們華林科納提出了一種新型的雙層光阻劑方法來減少負光阻劑浮渣。選擇正光刻膠作為底層抗蝕劑,選擇負光刻膠作為頂層抗蝕。研究了底層抗蝕劑的粘度和厚度對浮渣平均數量的影響。實驗表明,低粘度正光刻膠
2022-01-26 11:43:22803

晶片光刻膠處理系統的詳細介紹

摘要 在這項工作中,研究了新一代相流體剝離溶液在各種半導體光刻膠中的應用。這些實驗中使用的獨特的水基智能流體配方均為超大規模集成電路級,與銅兼容且無毒。實驗的第一階段是確定是否在合理的時間內與光刻膠
2022-03-03 14:20:05535

采用雙層抗蝕劑法去除負光刻膠

本文提出了一種新型的雙層光阻劑方法來減少負光阻劑浮渣。選擇正光刻膠作為底層抗蝕劑,選擇負光刻膠作為頂層抗蝕。研究了底層抗蝕劑的粘度和厚度對浮渣平均數量的影響。實驗表明,低粘度正光刻膠AZ703
2022-03-24 16:04:23855

干法刻蝕去除光刻膠的技術

灰化,簡單的理解就是用氧氣把光刻膠燃燒掉,光刻膠的基本成分是碳氫有機物,在射頻或微波作用下,氧氣電離成氧原子并與光刻膠發生化學反應,生成一氧化碳,二氧化碳和水等,再通過泵被真空抽走,完成光刻膠的去除。
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光刻膠az1500產品說明

光刻膠產品說明英文版資料分享。
2022-08-12 16:17:253

光刻膠為何要謀求國產替代

南大光電最新消息顯示,國產193nm(ArF)光刻膠研發成功,這家公司成為通過國家“02專項”驗收的ArF光刻膠項目實施主體;徐州博康宣布,該公司已開發出數十種高端光刻膠產品系列,包括
2022-08-31 09:47:141428

光刻膠的原理和正負光刻膠的主要組分是什么

光刻膠的組成:樹脂(resin/polymer),光刻膠中不同材料的粘合劑,給與光刻膠的機械與化學性質(如粘附性、膠膜厚度、熱穩定性等);感光劑,感光劑對光能發生光化學反應;溶劑(Solvent
2022-10-21 16:40:0418801

國產光刻膠市場前景 國內廠商迎來發展良機

10%-15%,對應的 PAG 用量為一般按樹脂重量的 6%-8%添加,最 終 PAG 的成本占光刻膠總成本的 10%-20%。從單價看,KrF 光刻膠用 PAG 的價格在 0.5-1.5元/kg
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「前沿技術」英特爾以硅基技術成功制造量子芯片

在2022年硅量子電子研討會上,英特爾實驗室宣布以現有硅基半導體技術成功生產自旋量子計算芯片,這為未來量產量子計算機打下基礎。英特爾表示,最新研究結果是目前業界最大的硅基自旋量子運算芯片,量產芯片
2022-11-25 17:03:371696

「前沿技術」英特爾以硅基技術成功制造量子芯片

來源:《半導體芯科技》雜志10/11期 在2022年硅量子電子研討會上,英特爾實驗室宣布以現有硅基半導體技術成功生產自旋量子計算芯片,這為未來量產量子計算機打下基礎。英特爾表示,最新研究結果是目前
2022-11-28 17:22:331032

高端光刻膠通過認證 已經用于50nm工藝

此前該公司指出,公司已建成年產5噸ArF干式光刻膠生產線、年產20噸ArF浸沒式光刻膠生產線及年產45噸的光刻膠配套高純試劑生產線,具備ArF光刻膠及配套關鍵組分材料的生產能力,目前公司送樣驗證的產品均由該自建產線產出。
2023-04-11 09:25:321069

英特爾量子芯片,重磅公布

目前,學術機構沒有像英特爾這樣的大批量制造制造設備。有了 Tunnel Falls,研究人員可以立即開始進行實驗和研究,而不是嘗試制造自己的設備。因此,更廣泛的實驗成為可能,包括更多地了解量子位和量子的基礎知識,以及開發用于使用具有多個量子位的設備的新技術。
2023-06-20 15:38:56610

半導體制造領域光刻膠的作用和意義

光刻是半導體加工中最重要的工藝之一,決定著芯片的性能。光刻占芯片制造時間的40%-50%,占其總成本的30%。光刻膠光刻環節關鍵耗材,其質量和性能與電子器件良品率、器件性能可靠性直接相關。
2023-10-26 15:10:24633

光刻膠黏度如何測量?光刻膠需要稀釋嗎?

光刻膠在未曝光之前是一種黏性流體,不同種類的光刻膠具有不同的黏度。黏度是光刻膠的一項重要指標。那么光刻膠的黏度為什么重要?黏度用什么表征?哪些光刻膠算高黏度,哪些算低黏度呢?
2023-11-13 18:14:111095

不僅需要***,更需要光刻膠

為了生產高純度、高質量的光刻膠,需要高純度的配方原料,例如光刻樹脂,溶劑PGMEA…此外,生產過程中的反應釜鍍膜和金屬析出污染監測也是至關重要的控制環節。例如,2019年,某家半導體制造公司由于光刻膠受到光阻原料的污染,導致上片12吋晶圓報廢
2023-11-27 17:15:48842

阿里達摩院裁撤量子實驗室證實!

據阿里達摩院證實,他們已經決定裁撤量子實驗室,并將實驗室及儀器設備捐贈給浙江大學。這一舉措的目的是為了促進量子科技的協同發展,并將捐贈的實驗室和設備開放給浙江大學及其他高校和科研機構使用。
2023-11-28 18:20:28932

潤股份在半導體制造材料領域穩步推進,涉足光刻膠單體、PI等業務

近期,潤股份在接受機構調研時透露,其“年產65噸半導體用光刻膠樹脂系列”項目已經順利投入運營。該項目旨在為客戶提供專業的半導體用光刻膠樹脂類材料。
2023-12-12 14:02:58599

速度影響光刻膠的哪些性質?

光刻中比較重要的一步,而旋涂速度是勻中至關重要的參數,那么我們在勻時,是如何確定勻速度呢?它影響光刻膠的哪些性質?
2023-12-15 09:35:561190

光刻膠分類與市場結構

光刻膠主要下游應用包括:顯示屏制造、印刷電路板生產、半導體制造等,其中顯示屏是光刻膠最大的下游應用,占比30%。光刻膠在半導體制造應用占比24%,是第三達應用場景。
2024-01-03 18:12:21861

瑞紅集成電路高端光刻膠總部落戶吳中

據吳中發布的最新消息,簽約項目涵蓋了瑞紅集成電路高端光刻膠總部項目,該項投資高達15億元,旨在新建半導體光刻膠及其配套試劑的生產基地。
2024-01-26 09:18:43383

如何在芯片中減少光刻膠的使用量

光刻膠不能太厚或太薄,需要按制程需求來定。比如對于需要長時間蝕刻以形成深孔的應用場景,較厚的光刻膠層能提供更長的耐蝕刻時間。
2024-03-04 10:49:16381

光刻膠光刻機的區別

光刻膠是一種涂覆在半導體器件表面的特殊液體材料,可以通過光刻機上的模板或掩模來進行曝光。
2024-03-04 17:19:182313

光谷實驗室研發短波紅外成像膠體量子芯片

近日,首個膠體量子成像芯片在光谷實驗室研發成功,其具備優異性能。該芯片已能實現短波紅外成像,面陣規模達到30,盲元率低于每十萬個像素中只有6個因素導致信號丟失,圖像波長范圍為0.4至1.7微米
2024-03-07 15:22:431297

要讓量子計算走出實驗室

轉自環球時報環球時報記者張蔚藍陳子帥原稿標題:中國科學院量子信息重點實驗室副主任郭國平:要讓量子計算走出實驗室原文鏈接:https://m.huanqiu.com/article
2024-03-06 08:21:05198

武漢光谷實驗室短波紅外芯片完成中試,年內預計銷售千萬元

一顆黃豆大小的芯片,利用新技術膠體量子紅外探測成像做成“視覺芯片”,裝到手機、檢測器上,可以“穿透”介質,看到肉眼看不到的“真相”。 光谷實驗室近日宣布,其聯合科研團隊(華中科技大學實驗室、溫州
2024-03-12 08:43:40254

光谷實驗室研發膠體量子成像芯片,有望顛覆短波紅外市場

湖北光谷實驗室近日宣布,其科研團隊研發的膠體量子成像芯片已實現短波紅外成像,面陣規模30、盲元率低于6‰、波長范圍0.4-1.7微米、暗電流密度小于50 nA/cm2、外量子效率高于60%,號稱“性能優越”。
2024-03-12 14:46:59616

關于光刻膠的關鍵參數介紹

與正光刻膠相比,電子束負光刻膠會形成相反的圖案。基于聚合物的負型光刻膠會在聚合物鏈之間產生鍵或交聯。未曝光的光刻膠在顯影過程中溶解,而曝光的光刻膠則保留下來,從而形成負像。
2024-03-20 11:36:501437

英特爾推出Hala Point全球最大仿神經形態系統,解決AI效率問題

英特爾實驗室神經形態運算總監Mike Davies指出,“當前AI模型訓練及部署成本增長迅速,行業亟需創新方法。因此,英特爾實驗室研發了Hala Point,融合深度學習效率、類人腦持續學習和優化功能。
2024-04-23 10:00:55329

一份PPT帶你看懂光刻膠分類、工藝、成分以及光刻膠市場和痛

共讀好書 前烘對正顯影的影響 前烘對負顯影的影響 需要這個原報告的朋友可轉發這篇文章獲取百份資料,內含光刻膠多份精品報告【贈2024電子資料百份】6 月 28-30 日北京“電子化學品行業分析檢測與安全管理培訓班”。 審核編輯 黃宇
2024-06-23 08:38:02244

光刻膠的保存和老化失效

我們在使用光刻膠的時候往往關注的重點是光刻膠的性能,但是有時候我們會忽略光刻膠的保存和壽命問題,其實這個問題應該在我們購買光刻膠前就應該提出并規劃好。并且,在光刻過程中如果發現有異常情況發生,我們
2024-07-08 14:57:08251

光刻膠的圖形反轉工藝

圖形反轉是比較常見的一種紫外光刻膠,它既可以當正使用又可以作為負使用。相比而言,負工藝更被人們所熟知。本文重點介紹其負工藝。 應用領域 在反轉工藝下,通過適當的工藝參數,可以獲得底切的側壁
2024-07-09 16:06:00162

光刻膠后烘技術

后烘是指(post exposure bake-PEB)是指在曝光之后的光刻膠膜的烘烤過程。由于光刻膠膜還未顯影,也就是說還未閉合,PEB也可以在高于光刻膠軟化溫度的情況下進行。前面的文章中我們在
2024-07-09 16:08:43252

光刻膠的一般特性介紹

評價一款光刻膠是否適合某種應用需要綜合看這款光刻膠的特定性能,這里給出光刻膠一般特性的介紹。 1. 靈敏度 靈敏度(sensitivity)是衡量曝光速度的指標。光刻膠的靈敏度越高,所需的曝光劑量
2024-07-10 13:43:49161

光刻膠的硬烘烤技術

根據光刻膠的應用工藝,我們可以采用適當的方法對已顯影的光刻膠結構進行處理以提高其化學或物理穩定性。通常我們可以采用烘烤步驟來實現整個光刻膠結構的熱交聯,稱為硬烘烤或者堅膜。或通過低劑量紫外線輻照
2024-07-10 13:46:59127

光刻膠涂覆工藝—旋涂

為了確保光刻工藝的可重復性、可靠性和可接受性,必須在基板表面上均勻涂覆光刻膠光刻膠通常分散在溶劑或水溶液中,是一種高粘度材料。根據工藝要求,有許多工藝可用于涂覆光刻膠。 旋涂是用光刻膠涂覆基材
2024-07-11 15:46:36201

導致光刻膠變色的原因有哪些?

存儲時間 正和圖形反轉在存儲數月后會變暗,而且隨著儲存溫度升高而加速。因為該類型光刻膠含有的光活性化合物形成偶氮染料,在 可見光譜的部分具有很強的吸收能力,對紫外靈敏度沒有任何影響。這種變色過程
2024-07-11 16:07:49204

破紀錄!芯片巨頭裁員,遣散費400元/人!

萊克斯利普(Leixlip)的員工提供自愿離職方案, 補償金額可能高達50歐元(約393元人民幣,接近400元人民幣)。 該提案規定,員工需在8月23日前申請自愿離職。根據提出的條件,服務超過兩年的員工每年可額外獲得五周工資的補償。這還不包
2024-08-14 09:17:14199

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