不同的蝕刻劑(氯化鐵和氯化銅)進行化學蝕刻。研究了選擇的蝕刻劑和加工條件對蝕刻深度和表面粗糙度的影響。實驗研究表明，氯化鐵產生的化學腐蝕速率最快，但氯化銅產生的化學腐蝕速率最快最光滑的表面質量。 關鍵詞:化學蝕刻；銅
2021-12-29 13:21:46
2088 
摘要 在印刷和蝕刻生產厚金屬膜中的精密圖案時，需要對化學蝕刻劑有基本的了解，以實現工藝優化和工藝控制。 為了蝕刻純鋁電路，研究了正磷酸、多磷酸和氯化鐵的配方。 研究的目的是確定蝕刻速率和圖案定義對正
2022-01-07 15:07:481129 
摘要 我們華林科納研究了正磷酸、聚磷酸、和鐵(III)氯化物蝕刻劑對工藝條件變化的敏感性，以確定該蝕刻劑系統在純鋁電路光刻制造中的潛在生產應用。溫度變化、正磷酸濃度、多磷酸濃度的影響。檢測了酸濃度
2022-01-07 15:40:121194 
蝕刻機理 諸如KOH-、NaOH-或TMAH-溶液的強含水堿性介質蝕刻晶體硅通孔 硅+ 2 OH- + 2 H O ?硅(OH) + H ?二氧化硅(OH) 2- + 2 H 因為不同晶面的Si原子
2022-07-11 16:07:221344 
、氫氟酸系、硫酸鹽系、硫酸系、堿性氯化銅和酸性氯化銅系。蝕刻開始時，金屬板表面被圖形保護，其余金屬面均和蝕刻液接觸，此時蝕刻垂直向深度進行。當金屬表面被蝕刻到一定深度后，裸露的兩側出現新的金屬面，這時蝕刻液
2017-02-21 17:44:26
為了在基板上形成功能性的MEMS結構，必須蝕刻先前沉積的薄膜和/或基板本身。通常，蝕刻過程分為兩類：浸入化學溶液后材料溶解的濕法蝕刻干蝕刻，其中使用反應性離子或氣相蝕刻劑濺射或溶解材料在下文中，我們將簡要討論最流行的濕法和干法蝕刻技術。
2021-01-09 10:17:20
本帖最后由 eehome 于 2013-1-5 09:58 編輯
各位大俠：有誰知道哪家有供應蝕刻鈦的藥水，請告知或提供聯系方法。謝謝！！！本人的QQ號碼是：414615292
2012-08-08 14:51:57
使用。用過的顯像液請稀釋20倍后再排放到城市下水系統中！此時的板子應該是很漂亮的了，嘿嘿。5開始蝕刻！稱出適量三氯化鐵塊，再按三氯化鐵塊：水為3:1左右的比例配置蝕刻液。注意：三氯化鐵有腐蝕性，嚴禁直接用手
2016-01-05 17:14:50
PCB堿性蝕刻常見問題原因及解決方法
2012-08-03 10:14:05
的規定或適當降低抽風量執行。 （3）按工藝要求排放出部分比重高的溶液經分析后補加氯化銨和氨的水溶液，使蝕刻液的比重調整到工藝充許的范圍。 3.問題：印制電路中金屬抗蝕鍍層被浸蝕 原因： （1
2018-09-19 16:00:15
`請問PCB蝕刻工藝質量要求有哪些？`
2020-03-03 15:31:05
PCB制作工藝中的堿性氯化銅蝕刻液1.特性1)適用于圖形電鍍金屬抗蝕層，如鍍覆金、鎳、錫鉛合金，錫鎳合金及錫的印制板的蝕刻。 2)蝕刻速率快，側蝕小，溶銅能力高，蝕刻速率容易控制。 3)蝕刻液可以
2018-02-09 09:26:59
。 ②僅在孔和圖形上覆蓋干膜，以干膜作抗蝕層。 ③在酸性蝕刻液中蝕去多余的銅，從而得到所需要的導線圖形。 (3) 特點 ①工序較圖形電鍍蝕刻法簡單，但工藝控制會困難些。日本不少企業用此工藝
2018-09-21 16:45:08
的保護膜，使用貼膜機把感光膠膜貼在覆銅板上。(3)化學蝕刻 它是利用化學方法除去板上不需要的銅箔，留下組成圖形的焊盤、印制導線及符號等。常用的蝕刻溶液有酸性氯化銅、堿性氯化銅、三氯化鐵等PCB制作
2018-08-30 10:07:20
液的化學組分不同，其蝕刻速率就不相同，蝕刻系數也不同。如普遍使用的酸性氯化銅蝕刻液的蝕刻系數通常是&；堿性氯化銅蝕刻液系數可達3.5-4。而正處在開發階段的以硝酸為主的蝕刻液可以達到幾乎沒有側
2018-09-11 15:19:38
類型，通過試驗方法確定蝕刻液的濃度，它應有較大的選擇余地，也就是指工藝范圍較寬。 2）蝕刻液的化學成分的組成：蝕刻液的化學組分不同，其蝕刻速率就不相同，蝕刻系數也不同。如普遍使用的酸性氯化銅蝕刻液
2013-10-31 10:52:34
PCB印制電路中影響蝕刻液特性的因素有哪些
2021-04-25 06:45:00
用權貼膠粘度加強，由于所用的貼膠具很好的粘性，而且膠紙又薄，故采用這種貼膠進行制板，效果較好，一般是不須再作加熱處理。 4.腐蝕一般采用三氯化鐵作腐蝕液，腐蝕速度與腐蝕液的濃度，溫度及腐蝕過程中采取
2018-11-22 17:13:19
工藝，可以參閱內層制作工藝中的蝕刻。目前，錫或鉛錫是最常用的抗蝕層,用在氨性蝕刻劑的蝕刻工藝中.氨性蝕刻劑是普遍使用的化工藥液，與錫或鉛錫不發生任何化學反應。氨性蝕刻劑主要是指氨水/氯化氨蝕刻液。此外
2018-11-26 16:58:50
，還可以根據所采用蝕刻藥水的不同，而區分出不同的藥水體系……（關于蝕刻藥水，目前行業內主要有6種：氯化鐵、酸性氯化銅、堿性氯化銅、過硫酸銨、硫酸/鉻酸、硫酸/雙氧水蝕刻液）本文之所以相對簡單，并不是
2023-02-17 11:46:54
的涂樹脂銅箔所形成的層壓板，其表面通過擦板或粗化處理后的銅箔表面、烘干、貼壓感光抗蝕干膜，接著進行曝光、顯影而顯露出要蝕刻去的銅箔。然后進行酸性蝕刻(酸性氯化銅蝕刻液或硫酸加雙氧水蝕刻液)形成可采用
2017-12-18 17:58:30
使用的化工藥液，與錫或鉛錫不發生任何化學反應。氨性蝕刻劑主要是指氨水/氯化氨蝕刻液。此外，在市場上還可以買到氨水/硫酸氨蝕刻藥液。 以硫酸鹽為基的蝕刻藥液，使用后，其中的銅可以用電解的方法分離出來
2018-09-13 15:46:18
工藝中的蝕刻。目前，錫或鉛錫是最常用的抗蝕層,用在氨性蝕刻劑的蝕刻工藝中.氨性蝕刻劑是普遍使用的化工藥液，與錫或鉛錫不發生任何化學反應。氨性蝕刻劑主要是指氨水/氯化氨蝕刻液。此外，在市場上還可以買到氨水
2018-04-05 19:27:39
鋰鐵電池是近幾年才興起的新一代干電池，其具有容量大、體積小、重量輕、大電流放電、低溫性能優異的特點。相較于堿性電池而言，鋰鐵電池不易漏液，因為電解液完全吸附在隔膜上，電池內部不存在流動性液體，不會
2018-11-27 13:21:49
關于這個酸堿性蝕刻廢液再生跟提銅設備的實用性以及優缺點有沒有人知道呢?還有就是想自己提銅，又怎么過環保局這一關呢
2014-10-15 10:15:52
射流的理論獲得了底部的各個部位的蝕刻液離子的擴散速率，并搞清楚了側壁上出現的主要原因。針對酸性氯化銅溶液，擴散速度與蝕刻反應速度是成比例關系的。所以，凹槽內底部各個部位蝕刻的速度相對中央最大速率區也是
2018-09-10 15:56:56
導線及符號等。蝕刻劑有許多種類，常用的蝕刻溶液有酸性氯化銅、堿性氯化銅、三氯化鐵等。 三氯化鐵（FeCl3）在電子學、印制電路、照相制版、金屬精飾等加工和生產中，被廣泛用作銅、銅合金、Ni-Fe合金
2023-04-20 15:25:28
軸的轉動，葉片設計如圖3 所示。潑濺蝕刻或葉片蝕刻比滋泡蝕刻要好，因為它蝕刻均勻且側蝕小，但是每一次只能蝕刻有限的幾塊板子。這種蝕刻方法通常使用氯化鐵和硫酸銘榕液作蝕刻劑。大容量的容器用在槽的底部以
2018-09-11 15:27:47
兩種，一是酸性氯化銅(CaCl2)、 蝕刻液，一種是堿性氨水蝕刻液。 Ａ．兩種化學藥液的比較，見表氨水蝕刻液& 氯化銅蝕刻液比較 兩種藥液的選擇，視影像轉移制程中，Resist是抗
2018-11-23 16:59:25
適用范圍 印制線路板制造業發達地區集中開展含銅蝕刻廢液綜合利用。 主要技術內容 一、基本原理 將印制線路板堿性蝕刻廢液與酸性氯化銅蝕刻廢液進行中和沉淀，生成的堿式氯化銅沉淀用于生產工業級硫酸銅；沉淀
2018-11-26 16:49:52
。蝕刻工藝對設備狀態的依賴性極大,故必需時刻使設備保持在良好的狀態。【解密專家+V信：icpojie】 目前﹐無論使用何種蝕刻液﹐都必須使用高壓噴淋﹐而為了獲得較整齊的側邊線條和高質量的蝕刻效果
2017-06-23 16:01:38
`鍍鎳抗氧化銅排絕緣套管工藝絕緣銅排圖片：常見截面范圍：30--3000mm2，常見厚度范圍3mm-12mm.常見寬度范圍10mm-125mm. 鍍鎳抗氧化銅排絕緣套管工藝絕緣銅排圖片：產品
2020-06-19 21:30:42
`一體化銅編織帶軟連接是一種常用的軟連接產品，除了要對其材質、制作工藝和特點有所了解之外，關于一體化銅編織帶軟連接的金屬鍍邊工藝也必須有一定的掌握，以便于更好的加以運用。 一體化銅編織帶軟連接的主要
2018-09-13 18:44:35
，還可以根據所采用蝕刻藥水的不同，而區分出不同的藥水體系……（關于蝕刻藥水，目前行業內主要有6種：氯化鐵、酸性氯化銅、堿性氯化銅、過硫酸銨、硫酸/鉻酸、硫酸/雙氧水蝕刻液）本文之所以相對簡單，并不是
2023-02-17 11:54:22
面和蝕刻液導入裝置之間，并使晶片正面朝向工作臺面，晶片背面朝向蝕刻液導入裝置。 氣體噴出凹槽用以噴出氣體，而使晶片正面與工作臺面維持一既定距離。 夾持銷用以脫放松、夾持上述晶片的邊緣，而使晶片正面
2018-03-16 11:53:10
用于各種液位的測量，如油、水、污水、酸性液體、堿性液體。采用隔爆接線盒和本安放大電路，導桿和浮球不銹鋼材料。浮球式液位變送器廣泛使用于煉油、化工、造紙、食品、及污水處理等行業。`
2013-07-10 16:24:10
是半導體制造，微機械和微流控設備中的重要過程，需要微尺度的特征來優化性能或創建層流態，這在宏觀上幾乎是不可能獲得的。由于能夠通過改變蝕刻劑濃度和蝕刻時間來輕松控制z軸蝕刻，因此常用于分層應用。缺點包括許多化學廢物，其中許多是高酸性和多步過程。
2021-01-08 10:15:01
我司是做濕法蝕刻藥水的，所以在濕法這塊有很多年的研究。所以有遇到濕法蝕刻問題歡迎提問，很愿意為大家解答。謝謝！QQ：278116740
2017-05-08 09:58:09
盆兩個，這兩個塑膠盆一大一小。大的裝的是熱水，之后在蝕刻時會做隔水加熱用，而小的是裝蝕 刻液。在蝕刻液方面請各位注意，范例中使用的是環保蝕刻液，這是由於以前的氯化鐵含有劇毒，且回 收也不易，因此
2012-12-06 09:41:20
電阻式濕度傳感器應當最適用于濕度控制領域，其代表產品氯化鋰濕度傳感器具有穩定性、耐溫性和使用壽命長多項重要的優點，氯化鋰濕敏傳感器已有了五十年以上的生產和研究的歷史，有著多種多樣的產品型式和制作方法，都應用了氯化鋰感濕液具備的各種優點尤其是穩定性最強。
2019-10-17 09:01:04
。 2·蝕刻液的種類﹕ 不同的蝕刻液,其化學組分不相同﹐蝕刻速率就不一樣﹐蝕刻系數也不一樣。 例如﹕酸性氯化銅蝕刻液的蝕刻系數通常為3﹐而堿性氯化銅蝕刻系數可達到4。 3·蝕刻速率： 蝕刻
2017-06-24 11:56:41
液可以選用堿性三氯化鐵、酸性氯化銅和氨水。蝕刻時不同銅箔厚度要使用不同的蝕刻速度，蝕刻速度還要與蝕刻液的溫度、濃度匹配，經常維護蝕刻機的噴嘴，保持壓力和噴液分布均勻，不然最后造成蝕可不均和邊緣起銅絲
2018-08-29 10:20:48
100%完成！ 注意：用過的顯像液嚴禁再次使用。用過的顯像液請稀釋20倍后再排放到城市下水系統中！ 此時的板子應該是很漂亮的了，嘿嘿。 5開始蝕刻！ 稱出適量三氯化鐵塊，再按三氯化鐵塊：水為3
2018-09-12 15:02:45
步驟。它利用化學方法去除板上不需要的銅箔，留下焊盤、印制導線及符號等。常用的蝕刻溶液有三氯化鐵、酸性氯化銅、堿性氯化銅、硫酸一過氧化氫等。 5．孔金屬化 孔金屬化是雙面板和多層板的孔與孔間、孔
2018-09-04 16:04:19
工藝中.氨性蝕刻劑是普遍使用的化工藥液，與錫或鉛錫不發生任何化學反應。氨性蝕刻劑主要是指氨水/氯化氨蝕刻液。 此外，在市場上還可以買到氨水/硫酸氨蝕刻藥液。以硫酸鹽為基的蝕刻藥液,使用后,其中的銅
2018-09-19 15:39:21
水中氯化物快速測量儀深芬儀器廠家生產的水中氯化物快速測量儀能夠快速檢測水質中氯化物的含量，水中氯化物快速測量儀具有可擴展檢測項目多、檢測速度快、檢測精度高、預制試劑一步法操作、簡單易學等特點，廣泛
2022-05-16 14:14:47
氯化聚乙烯(簡稱CPE)是由聚乙烯(一般為高密度聚乙烯、低密度聚乙烯、線型低密度聚乙烯)經氯化改性而制得的高分子合成材料，按含氯量不同，可分為塑性CPE(含氯量15%)、彈性CPE(16%-
2010-06-09 08:28:26
29 一、 三氯化鐵蝕刻液在印制電路、電子和金屬精飾等工業中廣泛采用三氯化鐵蝕刻銅、銅合金及鐵、鋅、鋁等。這是由于它的工藝穩定，操作方便，價格便宜。但是，近些年來，
2010-08-19 17:25:220 中溫氯化焙燒工藝流程
2009-03-30 20:06:371281 
什么是氯化鋅電池？
高能氯化鋅電池是簡單鋅碳電池的一個改良版，用來提供更長的使用壽命以及更穩定的電壓輸出。與普通鋅碳電池相比，氯化
2009-10-24 09:11:021646 電池材料之氯化鋅中文名稱：氯化鋅 英文名稱： Zinc Chloride CAS號：7646-85-7 分子式：ZnCl2 氯化鋅是無機鹽工業的重要產品之一，它應用
2009-11-19 10:47:431473 氯化鋰濕敏電阻器的結構及特性
氧化鋰濕敏電阻器屬電解質類濕敏元件。氯化鈕( LiCl) 是一種吸濕鹽類，將它涂在有機絕緣基體上，或用多孔性合成樹脂漫透氯化鋰
2009-11-30 09:01:572784 PCB蝕刻技術通常所指蝕刻也稱光化學蝕刻，指通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區域的保護膜去除，在蝕刻時接觸化學溶液，達到溶解腐蝕的作用。
2017-04-21 17:08:275086 本文首先介紹了蝕刻機的分類及用途，其次闡述了蝕刻機的配件清單，最后介紹了蝕刻機的技術參數及應用。
2018-04-10 14:38:324724 蝕刻液的種類：不同的蝕刻液化學組分不同，其蝕刻速率就不同，蝕刻系數也不同。例如：酸性氯化銅蝕刻液的蝕刻系數通常為3，堿性氯化銅蝕刻液的蝕刻系數可達到4。近來的研究表明，以硝酸為基礎的蝕刻系統可以做到幾乎沒有側蝕，達到蝕刻的線條側壁接近垂直。這種蝕刻系統正有待于開發。
2018-10-12 11:27:366336 按工藝要求進行檢查及調整溫度、噴淋壓力、溶液比重、PH值和氯化銨的含量等工藝參數到工藝規定值。
2018-11-05 14:24:568995 工藝中.氨性蝕刻劑是普遍使用的化工藥液，與錫或鉛錫不發生任何化學反應。氨性蝕刻劑主要是指氨水/氯化氨蝕刻液。此外，在市場上還可以買到氨水/硫酸氨蝕刻藥液。
2019-07-10 15:11:352710 
通常所指蝕刻也稱腐蝕或光化學蝕刻（photochemicaletching），指通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區域的保護膜去除，在蝕刻時接觸化學溶液，達到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。
2019-04-25 15:41:3614173 按工藝要求排放出部分比重高的溶液經分析后補加氯化銨和氨的水溶液，使蝕刻液的比重調整到工藝充許的范圍。
2019-06-10 16:31:111817 蝕刻指通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區域的保護摸去處，在蝕刻時接觸化學溶液，達到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。最早可用來制造銅版、鋅版等印刷凹凸版。蝕刻機可以分為化學蝕刻機及電解蝕刻機兩類。
2019-06-26 16:02:4820207 酸性蝕刻是指用酸性溶液蝕去非線路銅層，露出線路部分，完成最后線路成形。
2019-10-03 15:05:0013392 在PCB生產全流程中，有多道工序均會產生大量的重金屬廢水，比較典型的有酸性蝕刻廢液、堿性蝕刻廢液、微
2019-08-20 09:21:022523 側蝕問題是蝕刻參數中經常被提出來討論的一項，它被定義為側蝕寬度與蝕刻深度之比， 稱為蝕刻因子。
2019-09-02 10:17:391755 1.問題：印制電路中蝕刻速率降低
原因：
由于工藝參數控制不當引起的
解決方法：
按工藝要求進行檢查及調整溫度、噴淋壓力、溶液比重、PH值和氯化銨的含量等工藝參數到工藝規定值。
2020-01-15 15:10:533130 PCB，電路板，基板上面如何出現電路呢？這就要蝕刻來實現。所謂蝕刻，先在板子外層需保留的銅箔部分，也就是電路的圖形部分，在上面預鍍一層鉛錫抗蝕層，然后用化學方式將其余的銅箔腐蝕掉。銅有兩層，一層需要
2020-03-08 14:45:214248 ，錫鉛為抗蝕劑。 二、蝕刻反應基本原理 1．酸性氯化銅蝕刻液 ①．特性 -蝕刻速度容易控制，蝕刻液在穩定狀態下能達到高的蝕刻質量 -蝕銅量大 -蝕刻液易再生和回收 ②．主要反應原理 蝕刻過程中，Cu2+有氧化性，將板面銅氧化成Cu+：Cu+CuCl2→2CuC
2020-12-11 11:40:587463 1、 PCB蝕刻介紹 蝕刻是使用化學反應而移除多余材料的技術。PCB線路板生產加工對蝕刻質量的基本要求就是能夠將除抗蝕層下面以外的所有銅層完全去除干凈，僅此而已。在PCB制造過程中，如果要精確地
2021-04-12 13:48:0031020 
蝕刻機的基礎原理一、蝕刻的目的蝕刻的目的即是將前工序所做出有圖形的線路板上的未受保護的非導體部分銅蝕刻去，形成線路。蝕刻有內層蝕刻和外層蝕刻，內層采用酸性蝕刻，濕膜或干膜為抗蝕劑；外層采用堿性蝕刻，錫鉛為抗蝕劑
2020-12-24 12:59:384838 引言 了解形成MEMS制造所需的三維結構，需要SILICON的各向異性蝕刻，此時使用的濕式蝕刻工藝考慮的事項包括蝕刻率、長寬比、成本、環境污染等[1]。用于硅各向異性濕式蝕刻 溶液有KOH
2021-12-23 09:55:35484 
引言 氫氧化鉀(KOH)和添加劑2-丙醇(異丙醇，IPA)通常用于單晶硅片的堿性織構化，以減少其反射。氫氧化鉀和異丙醇在水中的蝕刻混合物需要明確定義氫氧化鉀和異丙醇的水平，以消除鋸損傷，并獲得完全
2022-01-04 17:13:20764 
摘要 本文對本克斯使用的鋁蝕刻劑進行調查，以長期提高蝕刻部件的質量。非常薄的鋁箔圖案在磷酸、氯化鐵和水銹溶液中精確蝕刻的鋁箔圖案符合尺寸和一致性標準。蝕刻劑的主要問題是，由蒸發和耗盡引起的成分變化
2022-01-07 16:47:46840 
摘要 我們華林科納用同步光電發射光譜法研究了無氧化物砷化鎵表面與酸性(鹽酸+2-丙醇)和堿性(氨水）溶液的相互作用。結果表明，兩種溶液主要處理表面鎵原子，分別形成弱可溶性氯化鎵和可溶性氫化鎵。因此
2022-01-24 15:07:301071 
時 1–5 M KOH 溶液的堿濃度無關 ?C。僅在堿性濃度越低，蝕刻速率越低。添加異丙醇會略微降低絕對蝕刻速率。在標準 KOH 溶液中蝕刻反應的活化能為 0.61 ± 0.03 eV 和0.62 ± 0.03 eV
2022-03-04 15:07:09845 
Gravity: 氯化氫傳感器(出廠校準) - I2C&UART是著名開源硬件商DFRobot新推出的一款檢測氯化氫濃度的傳感器，支持模擬量、I2C和UART三種輸出方式。探頭已經過出廠標定，可以快速、準確的測量環境中氯化氫的濃度。可廣泛應用于合工業、礦下及環保領域氯化氫的檢測。
2022-03-04 15:28:212677 在本文中，我們首次報道了實現硅111和100晶片的晶體蝕刻的酸性溶液。通過使用六氟硅酸(也稱為氟硅酸)和硝酸的混合物，獲得暴露出各種面外111平面的硅111的晶體蝕刻。本文描述了用于該研究的溶液的化學組成，隨后是使用電子和光學顯微鏡獲得的結果。蝕刻的機理，雖然沒有完全理解，將在下面的章節中討論。
2022-03-09 14:35:42460 
了解形成MEMS制造所需的三維結構，需要SILICON的各向異性蝕刻，此時使用的濕式蝕刻工藝考慮的事項包括蝕刻率、長寬比、成本、環境污染等[1]。用于硅各向異性濕式蝕刻。
2022-03-11 13:57:43337 
本文研究了用金剛石線鋸切和標準漿料鋸切制成的180微米厚5英寸半寬直拉單晶硅片與蝕刻時間的關系，目的是確定FAS晶片損傷蝕刻期間蝕刻速率降低的根本原因，無論是與表面結構相關，缺陷相關，由于表面存在的氧化層，還是由于有機殘差。
2022-03-16 13:08:09619 
微加工過程中有很多加工步驟。蝕刻是微制造過程中的一個重要步驟。術語蝕刻指的是在制造時從晶片表面去除層。這是一個非常重要的過程，每個晶片都要經歷許多蝕刻過程。用于保護晶片免受蝕刻劑影響的材料被稱為掩模
2022-03-16 16:31:581136 
用氟化氫-氯化氫-氯氣混合物進行各向異性酸性蝕刻是一種有效的方法 單晶硅晶片紋理化的替代方法 在晶片表面形成倒金字塔結構[1，2]形貌取決于以下成分 蝕刻混合物[3]硅在HF-HCl[1]Cl2
2022-04-12 14:10:22362 
氫氧化鉀(KOH)是一種用于各向異性濕法蝕刻技術的堿金屬氫氧化物，是用于硅晶片微加工最常用的硅蝕刻化學物質之一。各向異性蝕刻優先侵蝕襯底。也就是說，它們在某些方向上的蝕刻速度比在其他方向上的蝕刻
2022-05-09 15:09:201420 本文講述了我們華林科納研究了M111N蝕刻速率最小值的高度，以及決定它的蝕刻機制，在涉及掩模的情況下，M111N最小值的高度可以受到硅/掩模結處的成核的影響，以這種方式影響蝕刻或生長速率的結可以
2022-05-20 17:12:59853 
引言 我們華林科納討論了一種高速率各向異性蝕刻工藝，適用于等離子體一次蝕刻一個晶片。結果表明，蝕刻速率主要取決于Cl濃度，而與用于驅動放電的rf功率無關。幾種添加劑用于控制蝕刻過程。加入BCl以開始
2022-06-13 14:33:14904 
蝕刻工藝 蝕刻過程分類
2022-08-08 16:35:34736 
反應性離子蝕刻綜合了離子蝕刻和等離子蝕刻的效果：其具有一定的各向異性，而且未與自由基發生化學反應的材料會被蝕刻。首先，蝕刻速率顯著增加。通過離子轟擊，基材分子會進入激發態，從而更加易于發生反應。
2022-09-19 15:17:553390 CuACs/PCN通過兩步熱聚合過程制備，如圖1a所示。首先，將氯化銅、三聚氰胺和次磷酸鈉的混合物在氮氣氣氛下500°C煅燒；接著用熔融鹽研磨，在N2下550°C煅燒，最后用H2SO4處理。
2022-12-01 15:20:021182 PTFE管用途：可用于蝕刻搖擺機的搖擺架，PTFE也稱：可溶性聚四氟乙烯、特氟龍、Teflon 蝕刻機的簡單介紹： 1、采用傳動裝置，霧化噴淋，結構合理；加工尺寸長度不限制，速度快、精度高
2022-12-19 17:05:50408 蝕刻不是像沉積或鍵合那樣的“加”過程，而是“減”過程。另外，根據刮削方式的不同，分為兩大類，分別稱為“濕法蝕刻”和“干法蝕刻”。簡單來說，前者是熔法，后者是挖法。
2023-01-29 09:39:003850 金屬蝕刻是一種通過化學反應或物理沖擊去除金屬材料的技術。金屬蝕刻技術可分為濕蝕刻和干蝕刻。金屬蝕刻由一系列化學過程組成。不同的蝕刻劑對不同的金屬材料具有不同的腐蝕特性和強度。
2023-03-20 12:23:433172 干法蝕刻與濕法蝕刻之間的爭論是微電子制造商在項目開始時必須解決的首要問題之一。必須考慮許多因素來決定應在晶圓上使用哪種類型的蝕刻劑來制作電子芯片，是液體（濕法蝕刻）還是氣體（干法蝕刻）
2023-04-12 14:54:331005 鹽霧耐久循環試驗機中的腐蝕溶液的腐蝕溶液通常是5%濃度的氯化鈉溶液或者在氯化濃溶液中添加0.26克氯化銅作為鹽霧腐蝕溶液。此外，鹽霧耐久循環試驗機可獨立調節鹽霧的沉降和噴灑量，確保實驗溫度穩定
2022-11-11 11:40:23691 
關鍵詞：氫能源技術材料，耐高溫耐酸堿耐濕膠帶，高分子材料，高端膠粘劑引言：蝕刻(etching)是將材料使用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術。蝕刻技術可以分為濕蝕刻(wetetching)和干蝕刻
2023-03-16 10:30:163506 
刻蝕和蝕刻實質上是同一過程的不同稱呼，常常用來描述在材料表面上進行化學或物理腐蝕以去除或改變材料的特定部分的過程。在半導體制造中，這個過程常常用于雕刻芯片上的細微結構。
2023-07-28 15:16:594141 腐蝕pcb板的溶液按抗蝕層類型與生產條件而選擇：有酸性氯化銅、堿性氯化銅、三氯化鐵、硫酸與過氧化氫、過硫酸鹽等多種。下面捷多邦小編和大家介紹一下腐蝕pcb板的溶液的一些知識。 三氯化鐵的蝕刻液是銅箔
2023-10-08 09:50:22744 蝕刻液的化學成分的組成：蝕刻液的化學組分不同，其蝕刻速率就不相同，蝕刻系數也不同。如普遍使用的酸性氯化銅蝕刻液的蝕刻系數通常是&；堿性氯化銅蝕刻液系數可達3.5-4。而正處在開發階段的以硝酸為主的蝕刻液可以達到幾乎沒有側蝕問題，蝕刻后的導線側壁接近垂直。
2023-10-16 15:04:35553 英思特研究了在低溫下用乙酸去除氧化銅。乙酸去除各種氧化銅，包括氧化亞銅、氧化銅和氫氧化銅，而不會侵蝕下面的銅膜。
2023-11-06 17:59:44240 
按工藝要求排放出部分比重高的溶液經分析后補加氯化銨和氨的水溶液，使蝕刻液的比重調整到工藝充許的范圍。
2023-12-06 15:01:46287 基于GaN的高電子遷移率，晶體管，憑借其高擊穿電壓、大帶隙和高電子載流子速度，應用于高頻放大器和高壓功率開關中。就器件制造而言，GaN的相關材料，如AlGaN，憑借其物理和化學穩定性，為等離子體蝕刻
2023-12-13 09:51:24294 
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