PO之間N型半導體的形成,MOSFET特性
MOSFET全稱為金屬物半導體場效應管。
當我們在GB之間加一個正電壓以后,便會在P區和O區之間形成N型半導體,從而使得SD導通;當GB沒有電壓PO之間的N區就會消失,使得SD斷開。
那么MOSFET的關鍵點在于PO之間N型半導體的形成與消失。
PO之間N型半導體的形成
如下圖所示:
金屬中存在大量的電子載流子,而SiO2中間不存在載流子,氧化物中不存在載流子。而P型半導體中存在大量的空穴,當在電源所形成的電場作用下,使得金屬與SiO2之間聚集著大量的正離子。
由于中間有氧化物進行阻隔,電子無法穿行移動,這樣沒有載流子的移動它始終是一個平衡穩定的系統。
但是P型半導體中的空穴往下移動,OP之間的電子濃度也會上升,當GB之間達到一定的電壓以后,使得電子濃度高于空穴濃度,如右側載流子濃度圖所示,這樣就形成了N型半導體,從而把兩MOSFET兩端的N型半導體連接了起來,最終便實現MOSFET的場效應導通關斷功能。
實際應用
在實際使用的MOSFET功率器件中,其實只有三個引腳G、S、D,其中SB之間是直連的,如下圖所示。
而這樣的MOSFET是一種雙向結構,如果S腳為正壓,D腳為負壓,這樣MOSFET是一直導通的且存在兩條電流通路,分別是I1和I2,如下圖所示;而只有當S為負,D為正才會受到GS的控制。
那為什么不留出4個引腳來進行使用呢?
前面我們介紹晶體管的時候三極管的導通過程存儲著大量的載流子,如果需要快速關斷就需要短時間內清除大量的載流子,從而影響關斷速度。
而MOSFET內部是有寄生的三極管結構的,通過短路SB就能把寄生的三極管結構屏蔽掉,這樣N溝道通過的電流就能夠快速的通斷。
雖然獲得了更快的關斷速度,可是MOSFET變成了單向全控器件,所以其符號一般,反向的二極管表示反向直通,如下圖所示:
MOSFET特性
和晶體管、晶閘管一樣,MOSFET其實也是一種壓控器件,但我們一般把晶閘管和晶體管稱為流控器件,而且從原理上來看,GS電壓越高,N溝道越寬,電阻越小,電流越大。
左邊線性放大區域,隨著Vgs電壓的逐步上升Vds越大,Id越大,幾乎就是類似于歐姆定理。
而到了飽和區域Id不再隨Vds電壓的變化而變化,其主要的原因是場效應區域存在壓降,使得溝道一邊封死,最終大部分壓降都落在了PN節上,所以Id受限。
MOSFET的開通關斷速度都極快,相比前面介紹的功率器件,控制方法也是更為的簡單,其不是以PN正反偏來進行導通關斷的。
所以根據PN節的多少,來判斷功率器件的導通速度,MOSFET》二極管》晶體管》晶閘管。
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( 發表人:陳翠 )