近日，SK海力士官網發布新聞消息稱，公司已于7月初開始量產適用第四代10nm（1a）級工藝的8Gb LPDDR4 移動端DRAM產品。值得注意的是，這是SK海力士首次采用EUV技術進行DRAM量產。
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SK海力士將這一進展定義為：意義非凡。
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激進的三星和SK海力士

在談論EUV DRAM是否非凡之前，我們先了解一些關聯技術。從原理上說，光刻技術就是利用光化學反應原理和化學、物理刻蝕方法將掩模板上的圖案傳遞到晶圓的工藝技術。近半個多世紀，半導體行業的迅猛發展離不開光刻技術。
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光刻技術在推進芯片不斷走向高集成、小型化的同時，自身也在不斷提升，DUV曝光光源的波長從436nm一路精進到了193nm。光刻機分辨率=k1*λ/NA，其中k1是常數（不同的光刻機k1不同），λ是光源波長，NA是物鏡的數值孔徑。在其他參數相同的情況下，波長越短分辨率便越高，工藝越先進。DUV光刻即便搭配雙機臺模式也只能做到10nm?，F在先進工藝已經開始要量產3nm，只能依靠EUV光刻技術去實現。正如三星所言，從?193nm波長的DUV光刻到13.5nm波長的EUV光刻，這是顯著的改善。以此可以看出三星對于EUV的態度。
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在DRAM領域，三星是最先宣布EUV DRAM進展的公司。得益于半導體制造領域的技術優勢，早在去年3月份，三星便對外宣布，基于 EUV 的第一代 10nm DRAM (D1x) 已完成其客戶評估，首批交付的模塊達到了100萬塊量級。僅僅過去半年之后，三星再次放出消息稱，其位于韓國平澤的第二條生產線已開始量產業界首款采用EUV技術的 16Gb LPDDR5，帶寬高達6400Mbps。
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三星總結了采用EUV技術生產DRAM的好處。首先，可以用更小、更精細的形式繪制電路；其次，大幅節省了掩模成本和光刻處理步驟；第三，在相同的表面積中能夠存儲更多的數據；此外，芯片能耗更令人滿意。
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從時間節點和產品特性上來看，三星對于EUV DRAM的量產確實更有心得。
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如今，SK海力士已經成為全球第二家采用EUV光刻技術量產LPDDR產品的公司。SK海力士表示，在此前生產1y納米級產品過程中曾部分采用了EUV技術，事先完成了對其穩定性的驗證，此次量產確保了EUV工藝技術的穩定性，未來1a納米級 DRAM都將采用EUV工藝進行生產。
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在LPDDR4之后，SK海力士計劃從明年初開始將1a納米級工藝導入到DDR5產品中。
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保守or別有所圖的美光

統計數據顯示，目前全球DRAM的市場份額主要控制在三星、SK海力士和美光手中。參考2020年Q3的市場份額占比，三星占據41.3%，SK海力士占28.2%，美光占25%。三家合計占了全行業近95%的市場份額。
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在三星和SK海力士紛紛表示自己在EUV DRAM芯片上有新進展時，美光對EUV光刻技術卻顯得很是遲緩。
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根據外媒消息，美光計劃從2024年開始，將EUV納入DRAM開發路線圖。在兩家競爭對手都相繼宣布量產EUV DRAM之際，美光的EUV光刻機才姍姍來遲。在美光2021財年的資本支出中，有一部分費用便是從ASML買EUV設備。有消息透露，美光也在加速自己的EUV進程，正在通過多種渠道招募EUV技術人員。
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當然，美光還是有一套自己的節奏和打法。從目前的市場消息來看，美光沒有借助EUV光刻技術也實現了自己的1α制程。在該制程，美光繼續使用6F2位線設計，通過改進工藝技術，最終相較于上一代的 1z DRAM 制程，1α 技術將內存密度提升了 40%，使內存解決方案更節能、更可靠，并為需要最佳低功耗 DRAM 產品的移動平臺帶來運行速度更快的 LPDDR5。
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美光認為現階段并不是將EUV導入DRAM的好時機。美光企業副總裁、中國臺灣美光董事長徐國晉去年在三星熱火朝天宣傳EUV DRAM時明確講到，美光暫不打算跟進。
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美光這么做的原因有二。其一，美光認為DUV DRAM仍然有很大的價值可以壓榨，美光沒有采用EUV實現1α制程就是一個力證；其二，從技術成熟度和成本考慮，當前并不是導入EUV的最佳時機。
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美光的做法是“欺騙”瑞利準則。衍射限制了透鏡的分辨度，我們經常使用瑞利準則來表征顯微鏡或望遠鏡系統的分辨率極限。美光通過改變掩膜的圖案，以此讓光線呈現出更加銳利的特征。也包括利用水比空氣衍射光少，將晶圓暴露在水下，用一滴水代替了最終透鏡和晶片表面之間的常見氣隙。還有使用新材料等等。
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所有這些努力過后，美光在不借助EUV光刻機的情況下實現了自己的1α制程，產品性能仍處于第一梯隊。
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后記

目前，三大DRAM廠商可以說是分成了兩派。三星和SK海力士是激進派，爭取讓EUV光刻技術在DRAM領域更快地發揮巨大能量；美光則屬于保守派，即便沒有采用EUV光刻技術，目前在尖端DRAM產品上也保持著巨頭的水準。
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但在半導體制程一次又一次刷新nm單位前面的最小數字時，10nm也不再是DRAM工藝的極限，對于EUV技術的熟練程度很有可能成為產品競爭的決定因素，這可能就是美光先緩后急的原因吧。競爭不在當下，而在未來。