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電子發(fā)燒友網(wǎng)>便攜設(shè)備>采用CMOS工藝,射頻模塊有何改變?

采用CMOS工藝,射頻模塊有何改變?

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2021-05-28 06:28:14

手機射頻技術(shù)和射頻模塊什么關(guān)鍵元件?

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2019-08-12 06:44:47

標(biāo)準(zhǔn)CMOS工藝在高速模擬電路和數(shù)模混合電路中的應(yīng)用展望

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2018-11-26 16:45:00

清華大學(xué)教材—CMOS射頻集成電路分析與設(shè)計

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2010-04-22 11:50:00

請問這種新穎的射頻功率放大器電路是什么結(jié)構(gòu)的?

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(硅鍺)BiCMOS工藝制造RF射頻前端的時代該結(jié)束了,純CMOS工藝RF前端 IC將在未來十年內(nèi)主宰移動互聯(lián)網(wǎng)和物聯(lián)網(wǎng)時代。 業(yè)界對CMOS PA產(chǎn)品的熱情一直沒有減退。2014年6月,高通(Qualcomm)并購CMOS PA供應(yīng)商Black Sand,借以強化其RF360方案競爭力;而在2013
2017-11-09 16:35:510

淺談CMOS射頻前端解決GaAs器件產(chǎn)能和成本問題

硅是上帝送給人類的禮物。電路板中絕大多數(shù)器件都采用體硅CMOS工藝(硅 的原材料是沙子)制造,但有一個部分卻難以實現(xiàn),那就是射頻前端。目前射頻前端主要采用GaAs或SiGe工藝制造,但由于材料
2017-11-14 10:06:384

標(biāo)準(zhǔn)CMOS工藝集成肖特基二極管設(shè)計與實現(xiàn)

隨著射頻無線通信事業(yè)的發(fā)展和移動通訊技術(shù)的進步,射頻微波器件的性能與速度成為人們關(guān)注的重點,市場對其的需求也日益增多。目前,CMOS工藝是數(shù)字集成電路設(shè)計的主要工藝選擇,對于模擬與射頻集成電路來說
2017-11-23 06:29:23880

采用CMOS工藝射頻設(shè)計研究

近年來,有關(guān)將CMOS工藝射頻(RF)技術(shù)中應(yīng)用的可能性的研究大量增多。深亞微米技術(shù)允許CMOS電路的工作頻率超過1GHz,這無疑推動了集成CMOS射頻電路的發(fā)展。目前,幾個研究組已利用標(biāo)準(zhǔn)
2017-11-25 11:07:014629

采用RFSOI工藝來設(shè)計射頻開關(guān)

供應(yīng)商,漢天下計劃使用其提供的RFSOI工藝設(shè)計和制造用于射頻前端(FEM)和天線開關(guān)模塊(ASM)中的開關(guān)芯片。相比傳統(tǒng)的GaAs和SOS工藝,RFSOI可以同時提供優(yōu)良的性能和低廉的成本。 RFSOI工藝非常適合用來做射頻開關(guān)的設(shè)計,基于這種先進的工藝,我們可以將MI
2017-12-05 13:22:37557

射頻工藝和手機射頻元件的集成

低頻和高頻RF無線系統(tǒng)的集成具有很大差異。在高頻段,由于CMOS工藝能實現(xiàn)的帶寬高于雙極工藝,因而是RF電路首選工藝,通常RF-CMOS不會與數(shù)字CMOS集成在同一個芯片上。在低頻段最重要的系統(tǒng)
2017-12-07 18:45:02446

CMOS射頻前端牛逼的技術(shù) 挑戰(zhàn)傳統(tǒng)工藝

工藝的復(fù)雜性,射頻前端芯片的良率并不高,而RFaxis公司采用行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的bulk CMOS技術(shù)制造射頻前端芯片,能夠提升射頻前端芯片生產(chǎn)水平,并降低成本。
2018-04-13 12:16:004252

采用射頻CMOS工藝技術(shù)實現(xiàn)肖特基二極管的設(shè)計

對于射頻集成電路而言,產(chǎn)品的設(shè)計周期與上市時間的縮短都是依賴仿真精確預(yù)測電路性能的設(shè)計環(huán)境的功能。為了使設(shè)計環(huán)境體現(xiàn)出高效率,精確的器件模型與互聯(lián)模型是必須要具備的,在設(shè)計工具中非常重要,對于射頻與模擬技術(shù),器件模型決定了仿真的精度。
2019-06-04 08:13:003284

如何實現(xiàn)CMOS工藝集成肖特基二極管的設(shè)計

隨著射頻無線通信事業(yè)的發(fā)展和移動通訊技術(shù)的進步,射頻的性能與速度成為人們關(guān)注的重點,市場對其的需求也日益增多。目前,CMOS工藝是數(shù)字集成電路設(shè)計的主要工藝選擇,對于模擬與射頻集成電路來說,選擇
2020-09-25 10:44:002

MEMS與傳統(tǒng)CMOS刻蝕與沉積工藝的關(guān)系

CMOS器件是在硅材料上逐層制作而成的。雖然蝕刻和沉積是標(biāo)準(zhǔn)工藝,但它們主要使用光刻和等離子蝕刻在裸片上創(chuàng)建圖案。另一方面,MEMS是采用體硅加工工藝嵌入到硅中,或通過表面微加工技術(shù)在硅的頂部形成。
2020-09-01 11:21:323490

CMOS射頻集成電路原理和設(shè)計課件

CMOS射頻集成電路原理和設(shè)計課件免費下載。
2021-06-08 10:05:0450

CMOS工藝流程介紹

CMOS工藝流程介紹,帶圖片。 n阱的形成 1. 外延生長
2022-07-01 11:23:2027

MEMS 與CMOS 集成工藝技術(shù)的區(qū)別

Pre-CMOS/MEMS 是指部分或全部的 MEMS 結(jié)構(gòu)在制作 CMOS 之前完成,帶有MEMS 微結(jié)構(gòu)部分的硅片可以作為 CMOS 工藝的初始材料。
2022-10-13 14:52:435876

CMOS集成電路的雙阱工藝簡析

CMOS 集成電路的基礎(chǔ)工藝之一就是雙阱工藝,它包括兩個區(qū)域,即n-MOS和p-MOS 有源區(qū)
2022-11-14 09:34:516646

N阱CMOS工藝版圖

CMOS工藝是在PMOS和NMOS工藝基礎(chǔ)上發(fā)展起來的。
2023-07-06 14:25:011788

什么是BCD工藝?BCD工藝CMOS工藝對比

BCD(Bipolar-CMOS-DMOS)工藝技術(shù)是將雙極型晶體管、CMOS(互補金屬氧化物半導(dǎo)體)和DMOS(雙擴散金屬氧化物半導(dǎo)體)晶體管技術(shù)組合在單個芯片上的高級制造工藝。
2024-03-18 09:47:41187

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