2018年6月14-16日在北京清華舉辦的MOS-AK 北京器件模型國(guó)際會(huì)議收到了幾篇器件模型可靠性的報(bào)告,總體來(lái)說(shuō),器件模型可靠性雖然屬于模型中的小眾方向,但是對(duì)于特別環(huán)境下的電路設(shè)計(jì) ,做到Design for Reliablity非常重要,這增加了設(shè)計(jì),產(chǎn)品本身的附加價(jià)值,同時(shí)也讓擁有可靠性模型的設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì),處于細(xì)分市場(chǎng)的領(lǐng)先地位,不容易被模仿。下面簡(jiǎn)單介紹來(lái)自于Cogenda, Synopsys, Cadence, SIMIT 的報(bào)告前瞻。
1. 3D Simulations of Single-Event Effects in Power MOSFETs : Burn-out, Latch-up and Hardening by Design
功率MOSFET, LDMOS,VDMOS頻繁用于太空的載星電子系統(tǒng),而他們?nèi)菀卓赡茉獾絾瘟W訜龤В⊿EB)和單粒子鎖定(SEL) 效應(yīng)導(dǎo)致失效。
先前的研究都是基于二維模擬進(jìn)行,導(dǎo)致模擬準(zhǔn)確性有限制,由于單粒子效應(yīng)在非常密集的電子-空穴對(duì)的薄軌道上非常局部化,在縱向和所有橫向方向上都分散,因此限制在2D中的模擬嚴(yán)重低估了這個(gè)現(xiàn)象。報(bào)告主要通過(guò)3D TCAD來(lái)模擬VDMOS的SEB和LDMOS 的SEL現(xiàn)象,獲得進(jìn)一步驗(yàn)證。
這篇報(bào)告對(duì)于做這個(gè)方向的電路設(shè)計(jì)的工作者,非常好的指導(dǎo),必須在前期的設(shè)計(jì)中考慮當(dāng)前使用模型本身的局限性,通過(guò)TCAD仿真和模型的再開(kāi)發(fā),延伸,讓電路中使用的模型更貼切實(shí)際。
2. A Novel Method of Total Ionizing Dose Compact Modeling in PD SOI MOSFETs
SOI 是非常熱門的一個(gè)方向,應(yīng)用很廣泛,隨著半導(dǎo)體工藝的進(jìn)步,小尺寸SOI MOSFET開(kāi)始應(yīng)用到航空航天領(lǐng)域,使得器件在使用中面臨了深空輻射環(huán)境的挑戰(zhàn)。本篇報(bào)告對(duì)部分耗盡型PD-SOI MOSFET,提出了一種新的總電離劑量TID建模方法,開(kāi)發(fā)了一個(gè)用于TID模型提取的專用軟件TID FIT。為了驗(yàn)證新模型,進(jìn)行了射線輻照實(shí)驗(yàn),并且在測(cè)量和模擬結(jié)果之間取得很好的一致性。這篇報(bào)告給設(shè)計(jì)人員提供了很好的工具,讓電路設(shè)計(jì)獲得更準(zhǔn)確的仿真結(jié)果,提高電路性能。
3. Challenges and Solutions in Modeling and Simulation of Device Self-heating, Reliability Aging and Statistical Variability Effects
FinFET和FDSOI是先進(jìn)的工藝技術(shù)節(jié)點(diǎn)采用的新的器件創(chuàng)新來(lái)繼續(xù)保持摩爾定律。在這些器件結(jié)構(gòu)中,器件自熱效應(yīng)(SHE)和應(yīng)力引起的器件可靠性老化效應(yīng)變得更加突出,并且必須考慮到設(shè)計(jì)關(guān)斷的影響。此外,用于高壓、高功率汽車應(yīng)用的BCD工藝還需要器件老化和自熱感知的設(shè)計(jì)和驗(yàn)證,因?yàn)镮SO26262對(duì)汽車相關(guān)產(chǎn)品提出的越來(lái)越嚴(yán)格的可靠性和安全性要求,所以需要一種有效的基于仿真的失效模式影響分析(FMEA)和失效模式效應(yīng)和診斷分析(FMEDA)來(lái)確定產(chǎn)品的安全水平,并通過(guò)系統(tǒng)的方法,把器件老化,自熱和統(tǒng)計(jì)變異性的影響考慮進(jìn)去,而傳統(tǒng)的緊湊型模型已不再足夠,SPICE級(jí)電路仿真產(chǎn)品也需要定義和擴(kuò)展,用以確保越來(lái)越復(fù)雜的設(shè)計(jì)和驗(yàn)證要求。
4. A Complete Reliability Solution: Reliability Modeling, Applications, and Integration in Analog Design Environment
報(bào)告介紹完整的工業(yè)級(jí)可靠性解決方案,包括可靠性建模(AGEMOS和AGEMOS2)、可靠性蒙特卡洛分析方法和可靠性模擬設(shè)計(jì)環(huán)境(ADE)集成。AGEMOS是在擁有眾多用戶和各種各樣的反饋下,內(nèi)容非常豐富。先進(jìn)的節(jié)點(diǎn)有新的可靠性效應(yīng),如HCI飽和效應(yīng),AGEMOS2是為了解決在FinFET HCI和BTI老化中發(fā)現(xiàn)的各種問(wèn)題, 而且AGEMOS2具有準(zhǔn)確的NBTI恢復(fù)效應(yīng)模型 。 隨著器件幾何尺寸的縮小,必須考慮器件本身的變化,開(kāi)發(fā)出能夠考慮器件加工變化和可靠性老化變化的蒙特卡洛方法,并考慮加工與可靠性老化變化的相關(guān)性。可靠性蒙特卡洛可以用來(lái)驗(yàn)證設(shè)計(jì)的魯棒性和良率。可靠性模型和特征集成到Cadence模擬設(shè)計(jì)環(huán)境(ADE)中,為設(shè)計(jì)者提供了執(zhí)行各種可靠性仿真和分析的簡(jiǎn)單方法。目前,所有這些功能都得到了仿真器的支持,為設(shè)計(jì)者提供更準(zhǔn)確的接近產(chǎn)品實(shí)際結(jié)果的仿真。
隨著電子產(chǎn)品應(yīng)用的廣泛,在不同領(lǐng)域,比如汽車、醫(yī)療、工業(yè)、航天天空及國(guó)防應(yīng)用等產(chǎn)品都會(huì)遇到生命週期可靠性的問(wèn)題,因此,在這個(gè)層面,基于半導(dǎo)體廠工藝的模型開(kāi)發(fā)是重中之重,同時(shí)如何和EDA廠商合作,獲得接近產(chǎn)品實(shí)際特性的仿真結(jié)果也有很多協(xié)同工作要做。有一點(diǎn)可以確認(rèn),模型從業(yè)人員通過(guò)模型二次開(kāi)發(fā)的核心價(jià)值來(lái)獲得獨(dú)特的設(shè)計(jì)這個(gè)角度去看,相信將來(lái)會(huì)有很多基于模型擴(kuò)展基礎(chǔ)上的小而美的設(shè)計(jì)公司創(chuàng)立,因?yàn)闅W洲已經(jīng)有很多創(chuàng)新公司值得我們借鑒。
本次MOS-AK北京活動(dòng)的具體日程安排,可以點(diǎn)擊“閱讀原文”獲得。目前安排20篇演講報(bào)告,其中防輻射,高可靠性模型這塊的報(bào)告有4篇, III-V族高頻微波有7篇, 先進(jìn)節(jié)點(diǎn)有3篇,器件基礎(chǔ)原理有2 篇,電路產(chǎn)品應(yīng)用有2篇,模型,測(cè)試平臺(tái)相關(guān)的2篇。
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