精品国产人成在线_亚洲高清无码在线观看_国产在线视频国产永久2021_国产AV综合第一页一个的一区免费影院黑人_最近中文字幕MV高清在线视频

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

28nm節(jié)點(diǎn)可能是eFlash最后一個(gè)經(jīng)濟(jì)高效的節(jié)點(diǎn) 格芯欲用22FDXeMRAM技術(shù)取代

半導(dǎo)體動(dòng)態(tài) ? 來源:wv ? 作者:格芯 ? 2019-09-04 15:25 ? 次閱讀

格芯的戰(zhàn)略是為快速增長(zhǎng)市場(chǎng)中的客戶提供高度差異化、高附加值的解決方案,而踐行這一承諾的實(shí)際成果就是我們的22nmFD-SOI(22FDX)嵌入式MRAM非易失性存儲(chǔ)器(NVM)技術(shù)。多家物聯(lián)網(wǎng)大客戶已經(jīng)進(jìn)入這項(xiàng)技術(shù)的試驗(yàn)性生產(chǎn)階段。

與Everspin Technologies, Inc.合作開發(fā)的嵌入式STT-MRAM(自旋轉(zhuǎn)移力矩磁阻RAM)技術(shù)旨在滿足物聯(lián)網(wǎng)、通用微控制器、汽車、邊緣AI和其他應(yīng)用對(duì)于低功耗運(yùn)行以及快速、可靠、非易失性代碼與數(shù)據(jù)存儲(chǔ)所提出的關(guān)鍵性要求。

格芯eMRAM技術(shù)的獨(dú)特之處在于它是一種可靠的MRAM解決方案,能夠作為高容量嵌入式閃存(eFlash)的替代品。格芯eMRAM通過了嚴(yán)格的實(shí)際生產(chǎn)測(cè)試,并能夠在更加寬泛的溫度范圍中提供持久數(shù)據(jù)保留和耐久性。這一特性對(duì)于微控制器應(yīng)用和無線連接物聯(lián)網(wǎng)至關(guān)重要,因?yàn)榍度胧酱鎯?chǔ)器必須能在高溫下保留代碼和數(shù)據(jù),包括在PCB組裝時(shí)以260°C的高溫進(jìn)行回流焊。

與eFlash相比,格芯eMRAM將擦除和(重新)寫入速度提高了一個(gè)數(shù)量級(jí)(200納秒與10微秒),同時(shí)能保持相當(dāng)?shù)淖x取速度,這使其能在許多應(yīng)用中提供優(yōu)于eFlash的功率優(yōu)勢(shì)。

最初使用格芯的低功耗22FDX工藝進(jìn)行開發(fā),是在“后段制程”金屬化步驟中部署MRAM,這使得用戶可以利用FDX和格芯FinFET技術(shù)規(guī)劃可靠的衍生的產(chǎn)品路線圖。這是因?yàn)樵谟米鞔鎯?chǔ)器技術(shù)時(shí),STT-MRAM能夠支持用于調(diào)整存儲(chǔ)器位單元的工藝變化。因此,我們將會(huì)提供兩種“類型”的eMRAM:22FDX上的eMRAM-F,用于代碼/數(shù)據(jù)存儲(chǔ);作為工作存儲(chǔ)器的eMRAM-S,用于在未來增加1x節(jié)點(diǎn)的SRAM。

格芯正與多家客戶開展合作,在基于22FDX的設(shè)計(jì)中采用eMRAM運(yùn)行多項(xiàng)目晶圓(MPW),并計(jì)劃在未來三個(gè)季度安排多次生產(chǎn)流片。格芯和我們的設(shè)計(jì)合作伙伴將聯(lián)合提供定制設(shè)計(jì)服務(wù),22FDXeMRAM工藝設(shè)計(jì)套件的模塊密度范圍將覆蓋4Mb到32Mb(對(duì)于單個(gè)模塊)。單體密度為48Mb的模塊也計(jì)劃在2019年第四季度發(fā)布。

行業(yè)正處于轉(zhuǎn)型點(diǎn)

目前推動(dòng)嵌入式NVM替代技術(shù)的巨大動(dòng)力源于行業(yè)正處于轉(zhuǎn)型點(diǎn):28nm節(jié)點(diǎn)可能是eFlash最后一個(gè)經(jīng)濟(jì)高效的節(jié)點(diǎn)。在向22nm過渡中,必須找到適合全新的和快速增長(zhǎng)的低功耗應(yīng)用的替代方案。

許多新eNVM存儲(chǔ)器技術(shù)看起來可能非常先進(jìn),但還無法投入量產(chǎn)。例如,通過改變電介質(zhì)的電阻來存儲(chǔ)數(shù)據(jù)的RRAM(電阻RAM)是許多研究和開發(fā)的主題,但是它在2xnm工藝節(jié)點(diǎn)上的成熟度限制了它的普及。同樣,PCM存儲(chǔ)器的普及受限于制程低于28nm的代工廠支持的缺失。

相比之下,格芯eMRAM是一個(gè)特別引人注目且及時(shí)的解決方案。雖然這項(xiàng)技術(shù)非常復(fù)雜,并且需要大量時(shí)間和成本來開發(fā)和部署,但它能夠提供出色的性能和多樣性。除了通過基于功率高效的FDXSOI工藝與eMRAM相結(jié)合所獲得的功率優(yōu)勢(shì)之外,格芯的FDX工藝還具有業(yè)界領(lǐng)先的射頻連接功能,以及格芯提供的廣泛IP。這一切將成就獨(dú)特的高性能、高集成度、低功耗和小尺寸解決方案,進(jìn)而為客戶帶來巨大價(jià)值。

事實(shí)上,格芯在采用第三代MRAM技術(shù)生產(chǎn)22nmeMRAM產(chǎn)品的同時(shí),也生產(chǎn)Everspin的256Mb40nm和1Gb28nm獨(dú)立MRAM產(chǎn)品(作為聯(lián)合開發(fā)工作的一部分)。

除了eMRAM技術(shù),格芯還為客戶提供eFlash和系統(tǒng)級(jí)封裝閃存(SIPFlash)嵌入式存儲(chǔ)器,基于從130nm至28nm的豐富技術(shù)范圍,以滿足廣泛的應(yīng)用需求。

一個(gè)成功的戰(zhàn)略

22FDXeMRAM技術(shù)的推出切實(shí)展示了格芯在差異化領(lǐng)域和能夠幫助客戶增值的領(lǐng)域加大投資的成果。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • eFlash
    +關(guān)注

    關(guān)注

    0

    文章

    11

    瀏覽量

    13262
  • MRAM
    +關(guān)注

    關(guān)注

    1

    文章

    236

    瀏覽量

    31705
  • 格芯
    +關(guān)注

    關(guān)注

    2

    文章

    233

    瀏覽量

    25940
收藏 人收藏

    評(píng)論

    相關(guān)推薦

    國內(nèi)首款自主研發(fā)28nm顯示芯片量產(chǎn)

    近日,國內(nèi)半導(dǎo)體行業(yè)迎來重要里程碑,北京顯科技有限公司成功實(shí)現(xiàn)全球首款28納米內(nèi)嵌RRAM(阻變存儲(chǔ)器)畫質(zhì)調(diào)節(jié)芯片的量產(chǎn)。這款芯片不僅標(biāo)志著我國在顯示類芯片領(lǐng)域達(dá)到了新的半導(dǎo)體工藝高度,更是國內(nèi)首款自主研發(fā)并成功商用的28nm
    的頭像 發(fā)表于 09-11 17:17 ?2280次閱讀

    節(jié)點(diǎn)電壓法流入節(jié)點(diǎn)電流怎么判斷正負(fù)

    節(jié)點(diǎn)電壓法(Node Voltage Method)是種在電路分析中常用的方法,用于求解電路中各節(jié)點(diǎn)的電壓。在這種方法中,我們通常選擇個(gè)
    的頭像 發(fā)表于 08-06 17:24 ?1732次閱讀

    節(jié)點(diǎn)電壓法的實(shí)質(zhì)是什么

    的未知量。以下是對(duì)節(jié)點(diǎn)電壓法的介紹: 節(jié)點(diǎn)電壓法的基本概念 節(jié)點(diǎn)電壓法的基本思想是將電路中的每一個(gè)節(jié)點(diǎn)(除了參考
    的頭像 發(fā)表于 08-06 17:08 ?732次閱讀

    節(jié)點(diǎn)電壓法中電壓源怎么處理

    的基本元件。 引言 在電路分析中,節(jié)點(diǎn)電壓法是種常用的方法,它通過求解電路中的節(jié)點(diǎn)電壓來分析電路的工作狀態(tài)。節(jié)點(diǎn)電壓是指電路中任意兩個(gè)
    的頭像 發(fā)表于 07-12 09:20 ?2445次閱讀

    esp mesh litemesh節(jié)點(diǎn)外的個(gè)esp32作為sta去連接不同的節(jié)點(diǎn) ,連接的是同一個(gè)局域網(wǎng)嗎?

    esp mesh lite 我mesh節(jié)點(diǎn)外的個(gè)esp32 作為sta去連接不同的節(jié)點(diǎn) ,連接的是同
    發(fā)表于 06-28 15:26

    什么是工業(yè)控制網(wǎng)絡(luò)節(jié)點(diǎn)?常用的節(jié)點(diǎn)有哪些

    工業(yè)控制網(wǎng)絡(luò)節(jié)點(diǎn)是指在工業(yè)控制網(wǎng)絡(luò)中,用于實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)采集、處理、傳輸和控制等功能的設(shè)備。它們是工業(yè)控制系統(tǒng)中的重要組成部分,對(duì)于保證工業(yè)生產(chǎn)的穩(wěn)定性、可靠性和高效性具有重要意義。 、工業(yè)控制網(wǎng)絡(luò)
    的頭像 發(fā)表于 06-11 10:36 ?999次閱讀

    bytes at port 輸出的值直為0,串口助手可以讀取數(shù)據(jù),求問可能是什么問題?

    連接bytes at port時(shí) 輸出的值恒定為零,不用這個(gè)屬性節(jié)點(diǎn)又會(huì)報(bào)錯(cuò)超時(shí),串口助手可以讀取數(shù)據(jù),求問可能是什么問題?
    發(fā)表于 05-22 19:17

    清溢光電:已實(shí)現(xiàn)180nm節(jié)點(diǎn)掩膜版量產(chǎn) 佛山基地2025年末遷入設(shè)備

    130nm-65nm 的 PSM 和 OPC 工藝的掩膜版開發(fā)和 28nm 半導(dǎo)體芯片所需的掩膜版工藝開發(fā)規(guī)劃。 此外,高端半導(dǎo)體掩膜版生產(chǎn)基地建設(shè)項(xiàng)目主要設(shè)備已下單,設(shè)備交期總體較之前預(yù)計(jì)縮短,未受到海外限制政策限制的影響,目前佛山生產(chǎn)基地項(xiàng)目已進(jìn)入廠房建設(shè)階段
    的頭像 發(fā)表于 05-17 16:16 ?376次閱讀

    聯(lián)電預(yù)期Q2受益于22/28nm需求,毛利率仍為30%,預(yù)計(jì)全年維持上半年水平

    據(jù)消息,晶圓代工廠聯(lián)電于4月24日舉行了法說會(huì),公司總經(jīng)理王石透露,第二季度22/28nm需求有望提高,預(yù)計(jì)出貨量將增長(zhǎng)1-3%,而平均銷售價(jià)格(ASP)將保持不變;
    的頭像 發(fā)表于 04-25 10:04 ?327次閱讀

    節(jié)點(diǎn)電壓法怎么列方程 節(jié)點(diǎn)電壓法流入為正還是負(fù)

    節(jié)點(diǎn)電壓法(Node Voltage Method)是種用于解析電路中各節(jié)點(diǎn)電壓的分析方法,也是電路分析中的項(xiàng)重要技術(shù)。本文將詳細(xì)介紹
    的頭像 發(fā)表于 01-30 11:20 ?5730次閱讀

    半導(dǎo)體掩膜版生產(chǎn)項(xiàng)目奠基啟動(dòng),2025年預(yù)計(jì)實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)

    根據(jù)蘇州工業(yè)園區(qū)融媒體中心報(bào)道,江蘇路半導(dǎo)體科技有限公司,由業(yè)界頂級(jí)企業(yè)與金融巨頭聯(lián)合創(chuàng)立,主要研發(fā)和生產(chǎn)低至28nm,高端至45nm甚至更高節(jié)點(diǎn)的掩膜版,產(chǎn)品研發(fā)與生產(chǎn)規(guī)模居于行業(yè)
    的頭像 發(fā)表于 01-24 14:33 ?1334次閱讀

    江蘇路半導(dǎo)體建設(shè)130nm-28nm制程半導(dǎo)體掩膜版

    鑒于掩膜版制作技術(shù)難度大,故我國在 130nm 及其以下制程節(jié)點(diǎn)對(duì)國外進(jìn)口的依賴程度較深。據(jù)蘇州工業(yè)園區(qū)網(wǎng)通辦公布的信息,江蘇路半導(dǎo)體科
    的頭像 發(fā)表于 01-19 14:09 ?1251次閱讀

    臺(tái)積電第家日本工廠即將開張:預(yù)生產(chǎn)28nm工藝芯片

    這座晶圓廠于2022年4月開始新建,大樓主結(jié)構(gòu)已完工,且辦公室部分區(qū)域也在今年8月啟用。將生產(chǎn)N28 28nm級(jí)工藝芯片,這是日本目前最先進(jìn)的半導(dǎo)體工藝。22ULP工藝也會(huì)在這里生產(chǎn),但注意它不是
    的頭像 發(fā)表于 01-03 15:53 ?1046次閱讀

    以Hub為中心節(jié)點(diǎn)的網(wǎng)絡(luò)技術(shù)探析

    在計(jì)算機(jī)網(wǎng)絡(luò)中,Hub是個(gè)重要的組成部分,它作為中心節(jié)點(diǎn),連接著各個(gè)站點(diǎn),實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)的傳輸和通信。本文將對(duì)以Hub為中心節(jié)點(diǎn)的網(wǎng)絡(luò)進(jìn)行深入的技術(shù)
    的頭像 發(fā)表于 12-07 16:42 ?724次閱讀

    22nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)的FinFET制造工藝流程

    引入不同的氣態(tài)化學(xué)物質(zhì)進(jìn)行的,這些化學(xué)物質(zhì)通過與基材反應(yīng)來改變表面。IC最小特征的形成被稱為前端制造工藝(FEOL),本文將集中簡(jiǎn)要介紹這部分,將按照如下圖所示的 22 nm 技術(shù)節(jié)點(diǎn)
    的頭像 發(fā)表于 12-06 18:17 ?4863次閱讀
    <b class='flag-5'>22nm</b><b class='flag-5'>技術(shù)</b><b class='flag-5'>節(jié)點(diǎn)</b>的FinFET制造工藝流程