精品国产人成在线_亚洲高清无码在线观看_国产在线视频国产永久2021_国产AV综合第一页一个的一区免费影院黑人_最近中文字幕MV高清在线视频

0
  • 聊天消息
  • 系統消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術視頻
  • 寫文章/發帖/加入社區
會員中心
創作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領取20積分哦,立即完善>

3天內不再提示

三星EUV光刻膠需求找不到替代,進軍代工行業老大有難度

汽車玩家 ? 來源:集微網 ? 作者:Jimmy ? 2019-11-29 15:42 ? 次閱讀

據businessKorea報道,自去年7月日本開始限制對韓國的出口以來,三星仍沒有找到為EUV技術提供足夠光刻膠的替代供應商。到2030年成為全球代工行業老大的目標恐遇阻。

據韓國科學技術研究院11月27日公布的數據顯示,韓國企業93.2%的光刻膠需求依賴于日本供應商,EUV光刻膠對日本的依賴程度幾乎相同。

日本限制EUV光刻膠的出口,韓國公司迅速做出反應,增加了比利時產材料的進口。據韓國海關(KCS)稱,從比利時進口的光刻膠在今年第三季度達到了459萬美元,是上一季度(約25萬美元)的20倍。其中大多數是EUV的光刻膠。

三星開始大規模生產基于7納米EUV工藝的移動應用處理器Exynos 9825,但產量只占其總產量的一小部分。真正的問題將在幾年后出現,那時EUV制程工藝將成為主流。自今年4月以來,三星一直在向全球芯片設計公司推廣其5納米EUV工藝,并計劃明年在其華城市的工廠開一條獨家EUV生產線。

市場研究公司也預測了EUV工藝的推進。根據IC Insights的報告,到2023年,10nm以下的半導體產量將從今年的105萬張/月增加到627萬張/月。同期,10納米以下半導體工藝的比例將從5%增長到25%。業內人士預測,在未來幾年內,EUV技術將占到大部分7納米以下的工藝。

EUV技術的不斷推進將導致EUV中光刻膠使用的增加。據韓國芯片制造商預測,EUV光刻膠的本土化無法在幾年內實現,因此他們計劃脫離日本,尋求多樣化供應商。然而,由于他們與日本供應商對EUV光刻膠進行了優化,如果脫離日本,收益率或直接下降。

這種情況將有利于臺積電。臺積電推出EUV工藝的時間比三星晚,但臺積電最近從EUV光刻機龍頭企業ASML手中購置了EUV光刻設備,此外,臺積電對光刻膠供應沒有任何顧慮。

無晶圓廠產業顯示出相互矛盾的觀點。盡管一些fables公司覺得有必要阻止臺積電的統治地位,但也有一些公司認為有必要阻礙三星在代工業的腳步,因為三星是一家集成設備制造商IDM。然而,如今有越來越多的fables企業開始向臺積電下訂單。

根據市場研究公司TrendForce的數據,臺積電第三季在晶圓代工市場的占有率為50.5%,較年初上升2.4%,而三星同期則下滑0.6個百分點,至18.5%。臺積電今年股價大漲40%,并計劃在年內增加投資至150億美元,以擴大與競爭對手的差距。

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。 舉報投訴
  • 三星電子
    +關注

    關注

    34

    文章

    15856

    瀏覽量

    180934
  • EUV
    EUV
    +關注

    關注

    8

    文章

    604

    瀏覽量

    85971
收藏 人收藏

    評論

    相關推薦

    三星減少NAND生產光刻膠使用量

    近日,據相關報道,三星電子在3D NAND閃存生產領域取得了重要技術突破,成功大幅減少了光刻工藝中光刻膠的使用量。 據悉,三星已經制定了未來NAND閃存的生產路線圖,并計劃在這一生產過
    的頭像 發表于 11-27 11:00 ?118次閱讀

    HyperLith軟件 EUV光刻交流

    ,然后是一層抗反射材料 沉積一層光刻膠 預烘烤光刻膠 對準基板/光刻膠和掩模版,并使用紫外線輻射和 4x-5x 成像曝光光刻膠。通過步進和掃描來重復 曝光后烘烤 在
    發表于 11-24 22:06

    一文解讀光刻膠的原理、應用及市場前景展望

    光刻技術是現代微電子和納米技術的研發中的關鍵一環,而光刻膠,又是光刻技術中的關鍵組成部分。隨著技術的發展,對微小、精密的結構的需求日益增強,光刻膠
    的頭像 發表于 11-11 10:08 ?308次閱讀
    一文解讀<b class='flag-5'>光刻膠</b>的原理、應用及市場前景展望

    一文看懂光刻膠的堅膜工藝及物理特性和常見光刻膠

    共讀好書關于常用光刻膠型號也可以查看這篇文章:收藏!常用光刻膠型號資料大全,幾乎包含所有芯片用光刻膠歡迎掃碼添加小編微信掃碼加入知識星球,領取公眾號資料
    的頭像 發表于 11-01 11:08 ?285次閱讀

    光刻膠的使用過程與原理

    本文介紹了光刻膠的使用過程與原理。
    的頭像 發表于 10-31 15:59 ?219次閱讀

    如何成功的烘烤微流控SU-8光刻膠?

    在微流控PDMS芯片加工的過程中,需要使用烘臺或者烤設備對SU-8光刻膠或PDMS聚合物進行烘烤。SU-8光刻膠的烘烤通常需要進行2-3次。本文簡要介紹SU-8
    的頭像 發表于 08-27 15:54 ?211次閱讀

    導致光刻膠變色的原因有哪些?

    存儲時間 正和圖形反轉在存儲數月后會變暗,而且隨著儲存溫度升高而加速。因為該類型光刻膠含有的光活性化合物形成偶氮染料,在 可見光譜的部分具有很強的吸收能力,對紫外靈敏度沒有任何影響。這種變色過程
    的頭像 發表于 07-11 16:07 ?471次閱讀

    光刻膠的硬烘烤技術

    根據光刻膠的應用工藝,我們可以采用適當的方法對已顯影的光刻膠結構進行處理以提高其化學或物理穩定性。通常我們可以采用烘烤步驟來實現整個光刻膠結構的熱交聯,稱為硬烘烤或者堅膜?;蛲ㄟ^低劑量紫外線輻照
    的頭像 發表于 07-10 13:46 ?717次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的硬烘烤技術

    光刻膠后烘技術

    后烘是指(post exposure bake-PEB)是指在曝光之后的光刻膠膜的烘烤過程。由于光刻膠膜還未顯影,也就是說還未閉合,PEB也可以在高于光刻膠軟化溫度的情況下進行。前面的文章中我們在
    的頭像 發表于 07-09 16:08 ?1196次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>后烘技術

    光刻膠的保存和老化失效

    我們在使用光刻膠的時候往往關注的重點是光刻膠的性能,但是有時候我們會忽略光刻膠的保存和壽命問題,其實這個問題應該在我們購買光刻膠前就應該提出并規劃好。并且,在
    的頭像 發表于 07-08 14:57 ?804次閱讀

    關于光刻膠的關鍵參數介紹

    與正光刻膠相比,電子束負光刻膠會形成相反的圖案?;诰酆衔锏呢撔?b class='flag-5'>光刻膠會在聚合物鏈之間產生鍵或交聯。未曝光的光刻膠在顯影過程中溶解,而曝光的光刻膠
    的頭像 發表于 03-20 11:36 ?2390次閱讀
    關于<b class='flag-5'>光刻膠</b>的關鍵參數介紹

    光刻膠光刻機的區別

    光刻膠是一種涂覆在半導體器件表面的特殊液體材料,可以通過光刻機上的模板或掩模來進行曝光。
    的頭像 發表于 03-04 17:19 ?4486次閱讀

    如何在芯片中減少光刻膠的使用量

    光刻膠不能太厚或太薄,需要按制程需求來定。比如對于需要長時間蝕刻以形成深孔的應用場景,較厚的光刻膠層能提供更長的耐蝕刻時間。
    的頭像 發表于 03-04 10:49 ?610次閱讀
    如何在芯片中減少<b class='flag-5'>光刻膠</b>的使用量

    光刻膠分類與市場結構

    光刻膠主要下游應用包括:顯示屏制造、印刷電路板生產、半導體制造等,其中顯示屏是光刻膠最大的下游應用,占比30%。光刻膠在半導體制造應用占比24%,是第達應用場景。
    發表于 01-03 18:12 ?1212次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>分類與市場結構

    速度影響光刻膠的哪些性質?

    光刻中比較重要的一步,而旋涂速度是勻中至關重要的參數,那么我們在勻時,是如何確定勻速度呢?它影響
    的頭像 發表于 12-15 09:35 ?1867次閱讀
    勻<b class='flag-5'>膠</b>速度影響<b class='flag-5'>光刻膠</b>的哪些性質?