今天,#國產光刻機今年要下線#上了熱搜,那么,國產光刻機今年真的能下線進入實際生產環節嗎?是28nm還是14nm,還是最新的7nm?我們來看看詳情。
28nm沉浸式光刻機今年交付
光刻機被譽為工藝皇冠上的明珠,可以說是IT科技行業最高端的制造設備。此次,上海微電子公司28nm沉浸式光刻機于今年交付,將打破國外封鎖,填補國內市場的空白,加速芯片國產化。
光刻機市場簡析
光刻機作為世界上最精密的生產設備,其重要性是不容置疑的。縱觀全球,目前僅有四家公司能夠生產出光刻機,而在這四家公司中,荷蘭的 ASML是光刻機領域絕對的龍頭企業,其推出的 DUV和 EUV光刻機幾乎占據了全球大部分的市場份額。
但是,荷蘭ASML這些熱銷的光刻機,在早前無論是哪一種,中國想獲得都十分困難。
而荷蘭的ASML方面,由于其光刻機在制造過程中所用的關鍵技術,幾乎都與美國技術有關。因此就算想向中國出口光刻機,也還是身不由己。
目前,雖然在一般情況下,ASML向中國出口DUV光刻機并不需要許可證,但是我們最急需的最高端的EUV光刻機, ASML必須獲得許可證才能實現出貨。
ASML方面,雖然還曾明確表示,將加快其在國內市場的布局,并對全球客戶一視同仁,但到目前為止,EUV光刻機仍未能獲準出口到中國。
不過,日前國內傳來兩則好消息,一是上海微電子方面表示,今年將推出首臺28納米沉浸式光刻機,二是國產28納米光刻機的線下投產,可以加快芯片國產化的速度。
顯然,這兩則都同時告訴我們“中國制造”的光刻機來了!雖然即將交付的28納米光刻機與荷蘭的 ASML光刻機相比仍有一段距離,但現在這種28納米光刻機已能滿足我們的最低要求。
此外有了28納米光刻機,要想生產7納米等先進工藝的芯片也并不是不可能。因為臺積電和中芯國際都先后通過多次曝光技術,實現了7納米制程芯片的量產。
另外,不得不提的是,國內光刻機實現了真正的中國制造,將有望告別荷蘭 ASML,最終擺脫美國技術的限制。
畢竟ASML始終不能夠實現完全自由出貨,而且就算是DUV光刻機也只是在一般情況下不需要許可,一旦出現特殊情況,ASML還是必須要拿到許可證才能夠向國內出售。
再加上,美國方面,曾不止一次地修改規則,對中國實施芯片斷供,已讓國內廠商對他國失去信任。
而國產的28納米光刻機完全屬于中國制造,不僅出貨將不會受到限制,國內的所有廠商都能購買使用,而且光刻機是我們中國制造,使用時我們也會更放心。
如今,即將下線的28納米光刻機,以及已實現量產和領先的國產蝕刻機等設備,終于具備了組建純國產芯片生產線的能力,同時也有可能量產出能夠滿足國內大部分廠商需求的芯片。
來自網友@品聊科技
對國外光刻機市場的影響
網友@數碼IT閑聊八卦表示:
國產產業鏈足夠威脅國外了(制裁警告),三五年,真的等得起,7nmEUV也夠用,而且臺積電2nm基本是極限了,不進步,肯定被追上。
當然搞出來,距離投產商業化還有最后一段路。這時候,中芯的價值就出來了。
國家給我們交出了一個全產業鏈布局的答案。紫光集團,京東方,中芯,上微。以及統籌各高校研究所。02專項與大基金作為資金支持。
這事才搞了多久?其實想想真的可怕的。
恒捷供應鏈市場經理表示:上海微電子(SMEE)采用國產及非美技術和零部件研發的,可實現28nm芯片工藝制程的,第二代深紫外(DUV)#國產光刻機今年要下線了#,計劃Q4實現量產交付。該光刻機為100%繞開美國技術和設備而生,讓我們適當緩解打壓抬起頭,至少可推動光刻機豪強阿斯麥ASML部分光刻機的降價,或逐漸準售尖端的極紫外(EUV)光刻機。
今年進博會上阿斯麥推介了更先進的深紫外(DUV)光刻機,最高能支持7nm工藝制程的芯片生產。中科院去年宣布進軍光刻機,相信在量子芯片、光子芯片、第三代半導體等領域中國可以實現彎道超車的。中國是全球最大的半導體應用市場,也就是最好的芯片試煉場,假以時日,我們的半導體產業鏈會像當前的電子產業鏈一樣完整和齊全。
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28nm制程及市場和板塊分析
28nm制程是大約是8年前的工藝,但是已經可以解決燃眉之急。
制程落后一點沒關系,先實現零的突破,然后就是比學趕幫超的過程。
曾經,我們在高鐵上也是落后的,現在呢?
那些殺不死我們的,終將使我們變得更強大。
對于A股市場而言,半導體芯片板塊,小于28nm的芯片企業10年免稅紅利及國家科技基金投資的相關標的,會受到關注。
來自網友@丁臻宇
結語
從上面可以看到,28nm光刻機2021下線是沒問題的,但是正式進入生產環節估計要2022年了,從最近特朗普美國政府對中國的制裁與封鎖來看,應該不是短期的,也不是特朗普個人為之。無論國產核心科技落后多少,但是我們在應用與核心技術之間不斷的平衡與進步,只要28nm真正用于生產和量產,核心技術解決以后,那么無論是制造還是設計、研發、應用等整個產業鏈,7nm, 5nm,2nm也就不遠了。
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