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蘋果推出了今年新款的iPad并著手進行新一代A15系列處理器的開發

lhl545545 ? 來源:比特網 ? 作者:賈桂鵬 ? 2020-10-27 16:41 ? 次閱讀

最近,蘋果推出了今年新款的iPhone和iPad,采用了自家設計的A14系列處理器,而即將發布的Aem架構MacBook則將會采用A14X處理器,蘋果A14以及A14X均采用臺積電5nm制程工藝。

近日有消息稱,蘋果已經在著手進行新一代A15系列處理器的開發,將會采用臺積電5nm加強版(N5P)制程工藝,預計在2021年第三季度投片。

目前,臺積電EUV微影技術已經進入量產階段,目前制程包含7+nm、6nm、5nm。據了解,臺積電?7?+?nm采用EUV光罩層最多達四層,AMD新一代Zen?3架構處理器預計會采用該制程量產。6nm也已在第四季進入量產,EUV?光罩層數較7?+?nm增加一層,其中包括聯發科、NVIDIA、Intel廠商都將采用6nm制程生產新一代產品

而臺積電的5nm制程,主要將會量產蘋果A14、A14X處理器,隨后AMD、高通、NVIDIA、Intel博通等都將會在2021年開始導入5nm制程工藝量產新一代芯片。據悉,臺積電5nm制程EUV光罩層數量最多為14層。

在2021年,臺積電將會量產5nm加強版制程,2022年將推出根據5nm優化后的4nm制程,有設備行業者預測,臺積電N5P以及4nmEUV光罩層數量相較5nm還會有所增加。

此外,臺積電還宣布3nm的研發進度符合預期,而且會是另一個重大的制程節點,預計3nm邏輯密度方面將會有70%的提升,這意味著,在同一功耗下,3nm相較于其前代產品將會有15%的運算效能提升,在相同運算效能下將會減少30%功耗。而且,3nm制程的EUV光罩層數將很可能首次超過20層,達到24層。
責任編輯:pj

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