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常規DDR3的布局需要滿足哪些要求?

電子設計 ? 來源:一博科技 ? 作者: 肖勇超 ? 2021-04-09 09:56 ? 次閱讀

對于DDR3的布局我們首先需要確認芯片是否支持FLY-BY走線拓撲結構,來確定我們是使用T拓撲結構還是FLY-BY拓撲結構。。

常規我們DDR3的布局滿足以下基本設計要求即可:

1.考慮BGA可維修性:BGA周邊器件5MM禁布,最小3MM。

2.DFM 可靠性:按照相關的工藝要求,布局時器件與器件間滿足DFM的間距要求;且考慮元件擺放的美觀性。

3.絕對等長是否滿足要求,相對長度是否容易實現:布局時需要確認長度限制,及時序要求,留有足夠的繞等長空間。

4.濾波電容、上拉電阻的位置等:濾波電容靠近各個PIN放置,儲能電容均勻放置在芯片周邊(在電源平面路徑上);上拉電阻按要求放置(布線長度小于500mil)。

注意:如有提供DEMO板或是芯片手冊,請按照DEMO板或是芯片手冊的要求來做。

1.濾波電容的布局要求

電源設計是PCB設計的核心部分,電源是否穩定,紋波是否達到要求,都關系到CPU系統是否能正常工作。濾波電容的布局是電源的重要部分,遵循以下原則:

CPU端和DDR3顆粒端,每個引腳對應一個濾波電容,濾波電容盡可能靠近引腳放置。

線短而粗,回路盡量短;CPU和顆粒周邊均勻擺放一些儲能電容,DDR3顆粒每片至少有一個儲能電容。

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圖1:VDD電容的布局(DDR顆粒單面放)

10-02.jpg

如圖2所示:VDD電容的布局(DDR顆粒正反貼)

DDR 正反貼的情況,電容離BGA 1MM,就近打孔;如可以跟PIN就近連接就連接在一起。

2.VREF電路布局

在DDR3中,VREF分成兩部分:

一個是為命令與地址信號服務的VREFCA;另一個是為數據總線服務的VREFDQ。

在布局時,VREFCA、VREFDQ的濾波電容及分壓電阻要分別靠近芯片的電源引腳,如圖3所示。

10-03.jpg

圖3:VREF電路布局

3.匹配電阻的布局

為了提高信號質量,地址、控制信號一般要求在源端或終端增加匹配電阻;數據可以通過調節ODT 來實現,所以一般建議不用加電阻。

布局時要注意電阻的擺放,到電阻端的走線長度對信號質量有影響。

布局原則如下:

對于源端匹配電阻靠近CPU(驅動)放,而對于并聯端接則靠近負載端(FLy-BY靠近最后一個DDR3顆粒的位置放置而T拓撲結構是靠近最大T點放置)

下圖是源端匹配電阻布局示意圖;

10-04.jpg

圖4:源端匹配電阻

10-05.jpg

圖4:并聯端接

而對于終端VTT上拉電阻要放置在相應網絡的末端,即靠近最后一個DDR3顆粒的位置放置(T拓撲結構是靠近最大T點放置);注意VTT上拉電阻到DDR3顆粒的走線越短越好;走線長度小于500mil;每個VTT上拉電阻對應放置一個VTT的濾波電容(最多兩個電阻共用一個電容);VTT電源一般直接在元件面同層鋪銅來完成連接,所以放置濾波電容時需要兼顧兩方面,一方面要保證有一定的電源通道,另一方面濾波電容不能離上拉電阻太遠,以免影響濾波效果。

10-06.jpg

圖5:VTT濾波電容

DDR3的布局基本沒有什么難點,只是要注意諸多細節之處,相信大家都已經學會。

編輯:hfy

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