ASML完成制造1nm芯片EUV光刻機
論壇上，與ASML（阿斯麥）合作研發光刻機的比利時半導體研究機構IMEC公布了3nm及以下制程的在微縮層面技術細節。
至少就目前而言，ASML對于3m、2nm、1.5nm、1nm甚至Sub 1nm都做了清晰的路線規劃，且1nm時代的光刻機體積將增大不少。
據稱在當前臺積電、三星的7nm、5nm制造中已經引入了NA=0.33的EUV曝光設備，2nm之后需要更高分辨率的曝光設備，也就是NA=0.55。好在ASML已經完成了0.55NA曝光設備的基本設計（即NXE：5000系列），預計在2022年實現商業化。
至于上文提到的尺寸為何大幅增加就是光學器件增大所致，潔凈室指標也達到天花板。
阿斯麥目前在售的兩款極紫外光刻機分別是TWINSCAN NXE:3400B和TWINSCAN NXE:3400C，3600D計劃明年年中出貨，生產效率將提升18%。
責任編輯：PSY
聲明：本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人，不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用，如有內容侵權或者其他違規問題，請聯系本站處理。
舉報投訴
-
芯片
+關注
關注
453文章
50406瀏覽量
421815 -
制造
+關注
關注
2文章
503瀏覽量
23970 -
ASML
+關注
關注
7文章
718瀏覽量
41179 -
EUV光刻機
+關注
關注
2文章
128瀏覽量
15095
發布評論請先 登錄
相關推薦
光刻機巨頭ASML業績暴雷，芯片迎來新一輪“寒流”？
電子發燒友網報道（文/黃山明）作為芯片制造過程中的核心設備，光刻機決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻
HyperLith軟件 EUV光刻交流
nm光刻機中的光學系統稱為反折射系統。該術語意味著它同時使用透鏡（折射）和反射鏡（反射）元件來引導和調節來自激光器的光。
極紫外光刻
正在開發的EUV
發表于 11-24 22:06
今日看點丨 2011億元!比亞迪單季營收首次超過特斯拉；三星將于2025年初引進High NA EUV光刻機
1. 三星將于2025 年初引進High NA EUV 光刻機，加快開發1nm 芯片 ? 據報道，三星電子正準備在2025年初引入其首款Hi
發表于 10-31 10:56
?782次閱讀
ASML擬于2030年推出Hyper-NA EUV光刻機，將芯片密度限制再縮小
ASML再度宣布新光刻機計劃。據報道，ASML預計2030年推出的Hyper-NA極紫外光機（EUV），將縮小最高電晶體密度
俄羅斯首臺光刻機問世
的一部分，目前正在對其進行測試，該設備可確保生產350nm的芯片。什帕克還指出，到2026年將獲得130nm的國產光刻機，下一步將是開發90nm
后門！ASML可遠程鎖光刻機！
與ASML進行光刻機問題溝通時，負責人做出了保證，他們有能力遠程鎖控芯片制造設備。 這就意味著ASML傳承了歐美企業留有“后門”的習慣，而伴
荷蘭阿斯麥稱可遠程癱瘓臺積電光刻機
disable）臺積電相應機器，而且還可以包括最先進的極紫外光刻機（EUV）。 這就意味著阿斯麥（ASML）留了后門，隨時有能力去遠程癱瘓制造芯片
臺積電A16制程采用EUV光刻機，2026年下半年量產
據臺灣業內人士透露，臺積電并未為A16制程配備高數值孔徑（High-NA）EUV光刻機，而選擇利用現有的EUV光刻機進行生產。相較之下，英特爾和三星則計劃在此階段使用最新的High-N
臺積電未確定是否采購阿斯麥高數值孔徑極紫外光刻機
盡管High NA EUV光刻機有望使芯片設計尺寸縮減達三分之二，但芯片制造商需要權衡利弊，考慮其高昂的成本及
ASML發貨第二臺High NA EUV光刻機，已成功印刷10nm線寬圖案
ASML公司近日宣布發貨了第二臺High NA EUV光刻機，并且已成功印刷出10納米線寬圖案，這一重大突破標志著半導體制造領域的技術革新向前邁進了一大步。
英特爾突破技術壁壘：首臺商用High NA EUV光刻機成功組裝
英特爾的研發團隊正致力于對這臺先進的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻機進行細致的校準工作，以確保其能夠順利融入未來的生產線。
阿斯麥(ASML)公司首臺高數值孔徑EUV光刻機實現突破性成果
)光刻機，并已經成功印刷出首批圖案。這一重要成就，不僅標志著ASML公司技術創新的新高度，也為全球半導體制造行業的發展帶來了新的契機。目前，全球僅有兩臺高數值孔徑EUV
ASML 首臺新款 EUV 光刻機 Twinscan NXE:3800E 完成安裝
3 月 13 日消息，光刻機制造商 ASML 宣布其首臺新款 EUV 光刻機 Twinscan NXE:3800E 已完成安裝，新機型將帶來
與ASML達成歷史性協議，三星將在2nm芯片制造取得優勢
現時，ASML是全球唯一的EUV光刻機制造商，這臺設備主要應用于生產7nm及以下制程芯片。目前，ASML
工商網監
評論