12月16日消息,16日下午,商務部副部長、國際貿(mào)易談判副代表俞建華與荷蘭外交部外貿(mào)與發(fā)展合作大臣卡格以視頻形式共同主持召開中荷經(jīng)貿(mào)混委會第17次會議,就共同關心的中荷、中歐經(jīng)貿(mào)合作議題深入交換意見。
俞建華表示,當前中國正在加快構建以國內(nèi)大循環(huán)為主體、國內(nèi)國際雙循環(huán)相互促進的新發(fā)展格局,這將給中荷、中歐合作帶來新機遇。面對新冠肺炎疫情沖擊,中荷經(jīng)貿(mào)合作展現(xiàn)出強大韌性,歡迎荷蘭企業(yè)擴大對華貿(mào)易投資。中荷雙方應繼續(xù)堅持多邊主義,積極推進全球貿(mào)易投資自由化便利化。中方愿在服務貿(mào)易、電子商務等領域擴大合作,同時希望荷方在華為5G、EUV***等問題上秉持公平立場。中方將與荷方密切合作,落實好兩國領導人共識,推動雙邊經(jīng)貿(mào)合作再上一個新臺階。
卡格表示,感謝中方在疫情期間為荷方在華醫(yī)療物資采購提供的大力支持。荷方重視中國大市場,愿與中方一道加強多邊領域合作,希望擴大服務貿(mào)易和電子商務領域務實合作,同時探討應對氣變、可持續(xù)發(fā)展等領域的合作機遇。
雙方一致同意,支持兩國企業(yè)籌建企業(yè)家委員會機制,并在明年初舉辦首屆中荷線上企業(yè)經(jīng)貿(mào)交流會。
責任編輯:YYX
聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內(nèi)容侵權或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。
舉報投訴
相關推薦
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/黃山明)作為芯片制造過程中的核心設備,光刻機決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機已經(jīng)成為高端芯片(7nm及以下)芯片量產(chǎn)的關鍵,但目前EUV
發(fā)表于 10-17 00:13
?2670次閱讀
nm光刻機中的光學系統(tǒng)稱為反折射系統(tǒng)。該術語意味著它同時使用透鏡(折射)和反射鏡(反射)元件來引導和調(diào)節(jié)來自激光器的光。
極紫外光刻
正在開發(fā)的EUV光刻,以滿足特征尺寸低于22 n
發(fā)表于 11-24 22:06
時,摩爾定律開始面臨挑戰(zhàn)。一些光刻機巨頭選擇了保守策略,寄希望于F2準分子光源157nm波長的干式光刻技術。2002年,浸潤式光刻的構想被提出,即利用水作為介質(zhì),通過光在液體中的折射特
發(fā)表于 11-24 11:04
?160次閱讀
? 本文介紹了光刻機在芯片制造中的角色和地位,并介紹了光刻機的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機:芯片制造的關鍵角色 ? ? 光刻機在芯片制造中占據(jù)著至關重要的地位,被譽為芯片制
發(fā)表于 11-24 09:16
?242次閱讀
近日,日本沖繩科學技術大學院大學(OIST)發(fā)布了一項重大研究報告,宣布該校成功研發(fā)出一種突破性的極紫外(EUV)光刻技術。這一創(chuàng)新技術超越了當前半導體制造業(yè)的標準界限,其設計的光刻設備能夠采用更小巧的
發(fā)表于 08-03 12:45
?867次閱讀
據(jù)外媒報道,目前,俄羅斯首臺光刻機已經(jīng)制造完成并正在進行測試。 俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長瓦西里-什帕克(Vasily Shpak)表示,已組裝并制造了第一臺國產(chǎn)光刻機,作為澤廖諾格勒技術生產(chǎn)線
發(fā)表于 05-28 15:47
?722次閱讀
在全球四大先進制程代工巨頭(包括臺積電、三星電子、英特爾以及Rapidus)中,只有英特爾明確表示將使用High NA EUV光刻機進行大規(guī)模生產(chǎn)。
發(fā)表于 05-27 14:37
?600次閱讀
disable)臺積電相應機器,而且還可以包括最先進的極紫外光刻機(EUV)。 這就意味著阿斯麥(ASML)留了后門,隨時有能力去遠程癱瘓制造芯片的光刻機。 要知道我國大陸市場已經(jīng)連續(xù)三個季度成為阿斯麥(ASML)最大市場,而
發(fā)表于 05-22 11:29
?5731次閱讀
據(jù)臺灣業(yè)內(nèi)人士透露,臺積電并未為A16制程配備高數(shù)值孔徑(High-NA)EUV光刻機,而選擇利用現(xiàn)有的EUV光刻機進行生產(chǎn)。相較之下,英特爾和三星則計劃在此階段使用最新的High-N
發(fā)表于 05-17 17:21
?912次閱讀
ASML公司近日宣布發(fā)貨了第二臺High NA EUV光刻機,并且已成功印刷出10納米線寬圖案,這一重大突破標志著半導體制造領域的技術革新向前邁進了一大步。
發(fā)表于 04-29 10:44
?770次閱讀
英特爾的研發(fā)團隊正致力于對這臺先進的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻機進行細致的校準工作,以確保其能夠順利融入未來的生產(chǎn)線。
發(fā)表于 04-22 15:52
?872次閱讀
光刻機經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展,每次改進和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機所能實現(xiàn)的最小工藝節(jié)點。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和
發(fā)表于 03-21 11:31
?5872次閱讀
EUV 光刻機持續(xù)更新升級,未來目標在 2025 年推出 NXE:4000F 機型。 上兩代 NXE 系列機型 3400C 和 3600D 分別適合 7~5、5~3 納米節(jié)點生產(chǎn),德
發(fā)表于 03-14 08:42
?517次閱讀
光刻膠是一種涂覆在半導體器件表面的特殊液體材料,可以通過光刻機上的模板或掩模來進行曝光。
發(fā)表于 03-04 17:19
?4469次閱讀
光刻機是微電子制造的關鍵設備,廣泛應用于集成電路、平面顯示器、LED、MEMS等領域。在集成電路制造中,光刻機被用于制造芯片上的電路圖案。
發(fā)表于 01-29 09:37
?2664次閱讀
評論