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晶圓與硅:產業鏈信息量這么大,您真的都懂么

電子設計 ? 來源:電子設計 ? 作者:電子設計 ? 2020-12-24 15:21 ? 次閱讀

SMM9月3日訊:前段時間荷蘭ASML光刻機進口成為大眾焦點,但是芯片是人類智慧的高度結晶,其制作過程中除了光刻還有許多其它復雜步驟。晶圓是制造半導體芯片的基本材料,半導體集成電路最主要的原料是硅,因此對應的就是硅晶圓。金屬硅便屬于晶圓的上游產品。

高純度的多晶硅經過單晶硅再研磨、拋光、切片后,形成硅晶圓片。目前國內晶圓生產線以8英寸和12英寸為主。在硅晶片上可加工制作成各種電路元件結構,而成為有特定電性功能之IC產品。目前對12寸晶圓需求最強的是存儲芯片(NAND和DRAM),8寸晶圓更多的是用于汽車電子等領域。

晶圓產業鏈


產業鏈上游——金屬硅

金屬硅(Silicon)又稱結晶硅或工業硅,是由石英和焦炭在電熱爐內冶煉成的產品,主成分硅元素的含量在98%左右(近年來,含Si量99.99%的也包含在金屬硅內),另含有少量鐵、鋁、鈣等。

其主要用途是作為晶圓原材料,半導體硅用于制作半導體器件的高純度金屬硅。是以多晶、單晶形態應用。此前蘋果公司宣布自主研發ARM電腦處理器的計劃,并將其直接命名為AppleSilicon。金屬硅還有非鐵基合金的添加劑的作用,是鋁合金中的良好組元,絕大多數鑄造鋁合金都含有硅。


晶圓制造過程

晶圓的原始材料是硅,而地殼表面有用之不竭的二氧化硅。二氧化硅礦石經由電弧爐提煉,鹽酸 氯化,并經蒸餾后,制成了高純度的多晶硅,其純度高達99.999999999%。晶圓的主要加工方式為片加工和批加工,即同時加工1片或多片晶圓。隨著半導體特征尺寸越來越小,加工及測量設備越來越先進,使得晶圓加工出現了新的數據特點。同時,特征尺寸的減小,使得晶圓加工時,空氣中的顆粒數對晶圓加工后質量及可靠性的影響增大,而隨著潔凈的提高,顆粒數也出現了新的數據特點。

脫氧提純沙子、石英經過脫氧提純以后的得到含硅量25%的Si02二氧化硅。氧化硅經由電弧爐提煉,鹽酸 氯化,并蒸餾后,得到純度高達99%以上的晶體硅。

制造晶棒晶體硅經過高溫成型,采用旋轉拉伸的方法做成圓形的晶棒。

晶片分片將晶棒橫向切成厚度基本一致的晶圓片,Wafer。

Wafer拋光,進行晶圓外觀的打磨拋光。

Wafer鍍膜 通過高溫,或者其他方式,使晶圓上產生一層Si02二氧化硅。Si02二氧化硅為絕緣材料,但有雜質和特殊處理的Si02二氧化硅有一定的導電性。這里Si02二氧化硅的作用是為了光的傳導,這是為了后面光刻。

上光刻膠 光刻膠和以前照相的膠片一個道理。Wafer上光刻膠,要求薄而平整。

光刻(極紫光刻EVO)將設計好的晶圓電路掩模,放置于光刻的紫外線下,下面再放置Wafer。在光刻的瞬間,在Wafer被光刻的部分的光刻膠融化,被刻上了電路圖。去除光刻膠,光刻膠上的圖案要與掩模上的圖案一致。再次光刻。一個晶圓的電路要經過多次光刻。隨著極紫光刻新技術出現,晶圓的光刻變得更精確,也更有效率了,甚至可以一次完成全部光刻了。

離子注射 在真空的環境下經過離子注射,將光刻的晶圓電路里注入導電材料。一般在一次光刻后就離子注射。

電鍍 在晶圓上電鍍一層硫酸銅。銅離子會從正極走向負極。

拋光 打磨拋光Wafer表面,整個Wafer就已經制造成功了。

晶圓切片 將Wafer切成,單個晶圓Die。

測試 主要分三類:功能測試、性能測試、抗老化測試。具體有如:接觸測試、功耗測試、輸入漏電測試、輸出電平測試、動態參數測試、模擬信號參數測試等等。有壞的晶圓就報廢,此為黑片;有一些測試沒過,但不影響使用的分為白片,可以流出;而全部通過測試的為正片。測算完畢下一步包裝入盒發往封測,Die(裸片)經過封測,就成了我們電子數碼產品上的芯片。

常見的200mmCMOS芯片的晶圓制造過程


晶圓規格

目前全球芯片市場上,使用最主流的晶圓有三種規格:6寸、8寸、12寸。現在市場上12寸的晶圓是主流,將近7成的產能都是12寸晶圓。晶圓的尺寸越大,制造的難度也就越高,當然這些大晶圓切割出來的芯片也就越多?,F在市場上12寸的晶圓是主流,將近7成的產能都是12寸晶圓。

不同種類的芯片一般來說使用的晶圓規格是不一樣的,晶圓的規格趨勢總體上是往越來越大的方向發展的。

功率半導體——6寸和8寸晶圓

MCU等處理器——8寸晶圓

邏輯芯片和存儲芯片——12寸晶圓

從使用領域的角度來看,目前對12寸晶圓需求最強的是存儲芯片(NAND和DRAM),8寸晶圓更多的是用于汽車電子等領域。

另外,不同規格的晶圓的工藝往往也是有差別的。在工藝的類型劃分,可以將wafer劃分為3種:拋光片、外延片和以SOI硅片。

一般而言,8寸以下的集成電路產線用拋光片,45nm及以下線寬的12寸晶圓用外延片,SOI是一種新型工藝。拋光片是應用最為廣泛的工藝,因為其它的工藝都是在拋光片的基礎上進行二次開發的,拋光片可以用于制作存儲芯片、功率器件以及外延片的襯底材料。

外延片是在拋光片的基礎上生長了一層單晶硅,一般用于通用處理器芯片、二極管以及IGBT功率器件的制造。

SOI主要用于射頻前端芯片、功率器件和汽車電子等領域。


晶圓產能

自2000年以來,半導體產業靠著增加晶圓投片量來提高芯片出貨量,利用制程微縮讓每片晶圓切割出更多芯片的貢獻并不多。從2000~2019年,每片晶圓切割出的良品芯片的年平均成長率僅0.9%,但通過增加晶圓投片來增加的良品芯片的年平均成長率達6.5%??傮w來看,2000~2019年全球每年新增加的芯片數量,有86%來自晶圓投片量增加,只有14%是來自制程微縮讓每片晶圓切割出更多芯片。因此晶圓產能意味著潛在的銷售量,是影響制造廠商營收的一大因素。

從供需結構分析,供給端2019Q4硅片全球產能,200mm已經回落至500萬片/月,同2016年周期啟動時同一水準,300mm接近600萬片/月,落于景氣高點水位之下,考慮到需求端芯片存在1高性能計算芯片/指紋識別die面積增大;2新應用(5G/車聯網/云計算)等所需硅含量提升,供需緊平衡已經出現。


產業鏈——晶圓及下游

目前市場上的晶圓市場基本被大約15家晶圓廠壟斷了95%的份額,主要原因就是晶圓的制造難度很大,而客戶對純度和尺寸的要求又非常高,國產晶圓廠面臨著的是逆境突圍的局勢。上游芯片制造封測支撐行業,主要是半導體設備和材料提供商;中游半導體制造產業分為集成電路設計、制造、封測三個部分。IC設計廠商有華為、高通、AMD、英偉達。下游半導體終端應用領域有汽車電子、工業電子、通信消費電子、PC等領域。

硅晶圓廠是生產單晶硅片的,是芯片代工廠的上游,硅晶圓片是最常用的半導體材料,是芯片生產過程中成本占比最高的材料。

據中信證券數據顯示,從硅晶圓供給廠商格局:日廠把控,寡頭格局穩定。日本廠商占據硅晶圓50%以上市場份額。前五大廠商占據全球90%以上份額。其中,日本信越化學占比27%、日本SUMCO占比26%,兩家日本廠商份額合計53%,超過一半,中國臺灣環球晶圓于2016年12月晶圓產業低谷期間收購美國SunEdison半導體,由第六晉升第三名,占比17%,德國Siltronic占比13%,韓國SKSiltron(原LGSiltron,2017年被SK集團收購)占比9%,與前四大廠商不同,SKSiltron僅供應韓國客戶。

中國目前具備硅晶圓生產能力的企業主要包括浙江金瑞泓、北京有研總院、上海新昇。國內有中環股份,還有上海新陽參股的公司生產。

此外還有法國Soitec、中國臺灣臺勝科、合晶、嘉晶等企業,份額相對較小。各大廠商供應晶圓類別與尺寸上有所不同,總體來看前三大廠商產品較為多樣。前三大廠商能夠供應Si退火片、SOI晶片,其中僅日本信越能夠供應12英寸SOI晶片。德國Siltronic、韓國SKSiltron不提供SOI晶片,SKSiltron不供應Si退火片。而Si拋光片與Si外延片各家尺寸基本沒有差別。

中國硅片市場增速領先全球。隨著中國晶圓廠投產高峰的來臨,中國大陸半導體硅片市場步入了快速發展階段。2016年至2018年,中國大陸半導體硅片銷售額從5億美元上升至10億美元,年均復合增長率高達40.8%,遠高于同期全球市場。

終端應用

智能手機,PC

智能手機核心芯片涉及先進制程及化合物半導體材料,CPU為了滿足高性能計算、續航散熱這些需求,對芯片制程需求越來越高,手機和電腦都是最先采用先進制程的領域。從性能上看,據techcenturion評測,目前手機CPU芯片性能最好的是蘋果的A13,采用的是臺積電的7nm工藝。

通信基站

通信基站對國外芯片依賴程度極高,且以美國芯片企業為主。目前基站系統主要由基帶處理單元(BBU)及射頻拉遠單元(RRU)兩部分組成,通常一臺BBU對應多臺RRU設備。主要難點體現在RRU芯片器件涉及大功率射頻場景,通常采用砷 化鎵或氮化鎵材料。

汽車電子

汽車電子對于半導體器件需求以MCU、NORFlash、IGBT等為主。傳統汽車內部主要以MCU需求較高,包括動力控制、安全控制、發動機控制、底盤控制、車載電器等多方面。新能源汽車還包括電子控制單元ECU、功率控制單元PCU、電動汽車整車控制單元VCU、混合動力汽車整車控制器HCU、電池管理系統BMS以及逆變器核心部件IGBT元件。

AI與礦機芯片 5G、IoT

AI芯片與礦機芯片屬于高性能計算,對于先進制程要求較高。在AI及區塊鏈場景下,傳統CPU算力不足,新架構芯片成為發展趨勢。當前主要有延續傳統架構的GPU、FPGA、ASIC(TPU、NPU等)芯片路徑,以及徹底顛覆傳統計算架構,采用模擬人腦神經元結構來提升計算能力的芯片路徑。云端領域GPU生態領先,而終端場景專用化是未來趨勢。

5G輻射領域可進一步細分為電信基站設備,智能手機/平板電腦,聯網車輛,聯網設備,寬帶接入網關設備等。據GrandViewResearch預測,到2019年,智能手機/平板電腦細分市場估計將達到6.2707億美元。游戲、超高清視頻及視頻通話推動5G智能手機需求。此外,在部署5G電信網絡基礎設施方面的持續投資也增加了對5G芯片組組件的總體需求。全球5G芯片組市場估計將從2020年到2025年的復合年增長率為69.7%。

作者:SMM在線問答


審核編輯:符乾江
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