精品国产人成在线_亚洲高清无码在线观看_国产在线视频国产永久2021_国产AV综合第一页一个的一区免费影院黑人_最近中文字幕MV高清在线视频

0
  • 聊天消息
  • 系統消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術視頻
  • 寫文章/發帖/加入社區
會員中心
創作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領取20積分哦,立即完善>

3天內不再提示

晶瑞順利購得 ASML XT 1900 Gi 型光刻機一臺,可研發最高分辨率達 28nm 的高端光刻膠

工程師鄧生 ? 來源:IT之家 ? 作者:問舟 ? 2021-01-20 16:34 ? 次閱讀

晶瑞股份發布公告:經多方協商、積極運作,該公司順利購得 ASML XT 1900 Gi 型光刻機一臺。

該光刻機于 2021 年 1 月 19 日運抵蘇州并成功搬入公司高端光刻膠研發實驗室,即將組織調試。此外,這款 ASML XT 1900 Gi 型 ArF 浸入式光刻機可用于研發最高分辨率達 28nm 的高端光刻膠。

IT之家了解到,晶瑞股份于 2020 年 9 月 28 日晚發布公告稱,將開展集成電路制造用高端光刻膠研發項目,擬通過 Singtest Technology PTE. LTD. 進口韓國 SK Hynix 的 ASML 光刻機設備,總價款為 1102.5 萬美元(折合 7508 萬人民幣)。

ASML XT 1900 Gi 型光刻機并非先進工藝光刻機,但也實屬不易,在這關鍵時刻也算意義重大。

以下為官方原文:

責任編輯:PSY

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。 舉報投訴
  • 光刻機
    +關注

    關注

    31

    文章

    1147

    瀏覽量

    47255
  • ASML
    +關注

    關注

    7

    文章

    718

    瀏覽量

    41179
  • 晶瑞
    +關注

    關注

    0

    文章

    10

    瀏覽量

    7012
收藏 人收藏

    評論

    相關推薦

    HyperLith軟件 EUV光刻交流

    ,然后是層抗反射材料 沉積光刻膠 預烘烤光刻膠 對準基板/光刻膠和掩模版,并使用紫外線輻射和 4x-5x 成像曝光
    發表于 11-24 22:06

    用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術介紹

    ? 本文介紹了用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術。 芯片制造:光刻技術的演進 過去半個多世紀,摩爾定律直推動著半導體技術的發展,但當
    的頭像 發表于 11-24 11:04 ?140次閱讀
    用來提高<b class='flag-5'>光刻機</b><b class='flag-5'>分辨率</b>的浸潤式<b class='flag-5'>光刻</b>技術介紹

    光刻膠的主要技術參數

    分辨率(resolution)。區別硅片表面相鄰圖形特征的能力。般用關鍵尺寸(CD,Critical Dimension)來衡量分辨率。形成的關鍵尺寸越小,光刻膠
    的頭像 發表于 11-15 10:10 ?318次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的主要技術參數

    文解讀光刻膠的原理、應用及市場前景展望

    光刻技術是現代微電子和納米技術的研發中的關鍵環,而光刻膠,又是光刻技術中的關鍵組成部分。隨著技術的發展,對微小、精密的結構的需求日益增強,
    的頭像 發表于 11-11 10:08 ?288次閱讀
    <b class='flag-5'>一</b>文解讀<b class='flag-5'>光刻膠</b>的原理、應用及市場前景展望

    文看懂光刻膠的堅膜工藝及物理特性和常見光刻膠

    原文標題:文看懂光刻膠的堅膜工藝及物理特性和常見光刻膠
    的頭像 發表于 11-01 11:08 ?246次閱讀

    如何成功的烘烤微流控SU-8光刻膠

    在微流控PDMS芯片加工的過程中,需要使用烘或者烤設備對SU-8光刻膠或PDMS聚合物進行烘烤。SU-8光刻膠的烘烤通常需要進行2-3
    的頭像 發表于 08-27 15:54 ?194次閱讀

    光刻膠的保存和老化失效

    通常要考慮光刻膠是否過期失效了。接下來我們將介紹一下光刻膠保存和老化失效的基礎知識。 光刻膠的保存 光刻膠對光敏感,在光照或高溫條件下其性能會發生變化。
    的頭像 發表于 07-08 14:57 ?784次閱讀

    俄羅斯首臺光刻機問世

    部分,目前正在對其進行測試,該設備確保生產350nm的芯片。什帕克還指出,到2026年將獲得130nm的國產光刻機,下
    的頭像 發表于 05-28 15:47 ?719次閱讀

    關于光刻膠的關鍵參數介紹

    與正光刻膠相比,電子束負光刻膠會形成相反的圖案?;诰酆衔锏呢?b class='flag-5'>型光刻膠會在聚合物鏈之間產生鍵或交聯。未曝光的光刻膠在顯影過程中溶解,而曝光的
    的頭像 發表于 03-20 11:36 ?2373次閱讀
    關于<b class='flag-5'>光刻膠</b>的關鍵參數介紹

    淺談不同階段光刻機工作方式

    在曝光過程中,掩模版與涂覆有光刻膠的硅片直接接觸。接觸式光刻機的縮放比為1:1,分辨率可達到4-5微米。由于掩模和光刻膠膜層反復接觸和分離,隨著曝光次數的增加,會引起掩模版和
    發表于 03-08 10:42 ?1178次閱讀
    淺談不同階段<b class='flag-5'>光刻機</b>工作方式

    光刻膠光刻機的區別

    光刻膠種涂覆在半導體器件表面的特殊液體材料,可以通過光刻機上的模板或掩模來進行曝光。
    的頭像 發表于 03-04 17:19 ?4461次閱讀

    紅集成電路高端光刻膠總部落戶吳中

    據吳中發布的最新消息,簽約項目涵蓋了紅集成電路高端光刻膠總部項目,該項投資高達15億元,旨在新建半導體光刻膠及其配套試劑的生產基地。
    的頭像 發表于 01-26 09:18 ?504次閱讀

    光刻膠分類與市場結構

    光刻膠主要下游應用包括:顯示屏制造、印刷電路板生產、半導體制造等,其中顯示屏是光刻膠最大的下游應用,占比30%。光刻膠在半導體制造應用占比24%,是第三應用場景。
    發表于 01-03 18:12 ?1199次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>分類與市場結構

    速度影響光刻膠的哪些性質?

    光刻中比較重要的步,而旋涂速度是勻中至關重要的參數,那么我們在勻時,是如何確定勻
    的頭像 發表于 12-15 09:35 ?1834次閱讀
    勻<b class='flag-5'>膠</b>速度影響<b class='flag-5'>光刻膠</b>的哪些性質?

    光刻膠國內市場及國產化詳解

    KrF光刻膠是指利用248nm KrF光源進行光刻光刻膠。248nmKrF光刻技術已廣 泛應用于0.13μm工藝的生產中,主要應用于150
    發表于 11-29 10:28 ?652次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>國內市場及國產化<b class='flag-5'>率</b>詳解