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使用C2000 MCU應對GaN開關挑戰

德州儀器 ? 來源:德州儀器 ? 作者:德州儀器 ? 2021-05-13 15:39 ? 次閱讀

與碳化硅 (SiC)FET 和硅基FET 相比,氮化鎵 (GaN) 場效應晶體管 (FET) 可顯著降低開關損耗和提高功率密度。這些特性對于數字電源轉換器等高開關頻率應用大有裨益,可幫助減小磁性元件的尺寸。

電力電子行業的設計人員需要采用新的技術和方法來提高GaN 系統的性能,在利用GaN 技術開發現代電源轉換系統時,C2000 實時微控制器 (MCU) 可幫助應對各種設計挑戰。

C2000 實時MCU 的優點

C2000 MCU 等數字控制器具有出色的適用性,適合各種復雜的拓撲和控制算法,例如零電壓開關、零電流開關或采用混合磁滯控制的電感器-電感器-電容器 (LLC) 諧振直流/直流電源。

C2000 MCU 可提供以下優勢:

· 復雜的時間關鍵型計算處理。C2000 MCU 擁有高級指令集,可顯著減少復雜數學計算所需的周期數。計算時間減少后,可以在不增加MCU 工作頻率的情況下提高控制環路頻率。

· 精確控制。C2000 MCU 中的高分辨率脈寬調制器 (PWM) 可提供 150ps的分辨率,而且內置的模擬比較器和可配置邏輯塊 (CLB) 有助于安全處理出現的各種錯誤情況。

· 軟件和外設可擴展性。隨著系統要求的變化,C2000 平臺支持向上或向下擴展實時MCU 功能,同時保持軟件投入,從而減少軟件投入加快產品上市速度。例如, TMS320F280029C 等低成本C2000 MCU 可在小型服務器電源中實現實時處理和控制;而TMS320F28379D 是高頻率多相系統中的常用器件。但TMS320F28379D 保持了和TMS320F280029代碼的兼容性。

使用C2000 MCU 應對GaN 開關挑戰

如前所述,實現更高的開關頻率可減小開關轉換器中磁性元件的尺寸,但同時這會帶來許多控制方面的挑戰。例如,在圖騰柱功率因數校正 (Totem-pole PFC) 拓撲中,減小電感器的尺寸不僅會導致零交叉點處的電流尖峰增加,還會增加死區引起的第三象限損耗,這些影響綜合起來會增加總諧波失真 (THD) 并降低效率。

為解決上述問題,C2000 實時MCU 通過功能豐富的PWM 啟用軟啟動算法,從而消除電流尖峰并改善THD。C2000 MCU還擁有擴展的指令集、浮點運算單元 (FPU) 和三角函數加速器 (TMU),進而顯著降低PWM導通時間等參數的計算時間。計算時間減少還可提高控制環路頻率,再結合PWM的 150ps分辨率,可幫助降低第三象限損耗。

使用TI GaN 技術連接C2000 MCU

如圖1所示,C2000 MCU、數字隔離器件和GaN FET 都是器件連接中必不可少的一部分。

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圖 1:連接C2000 MCU、數字隔離器和600V GaN FET

增強型數字隔離器可幫助抑制瞬態噪聲并保護C2000 MCU。C2000 MCU 無需外部邏輯器件,利用其高分辨率 PWM、可配置邏輯塊和增強型捕捉模塊實現GaN FET 的安全性、溫度和錯誤報告等所有功能,從而提供精確的控制輸出。600V GaN FET 中的集成驅動器可減少由感應振鈴導致的系統設計問題。綜合使用這些器件便無需增加額外的外部元件,因而可降低總體成本。

結束語

TI C2000 實時MCU 和GaN FET 協調工作,可為現代數字電源系統提供靈活而簡單的解決方案,同時也提供了先進的功能來實現高功率密度且高效的數字電源系統。我們的參考設計都經過全面測試并附有完善的文檔說明,可幫助加速高效且高功率密度的數字電源系統的開發進程。

原文標題:利用C2000? 實時MCU 提高GaN 數字電源設計實用性, TI 來幫您!

文章出處:【微信公眾號:德州儀器】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

責任編輯:haq

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原文標題:利用C2000? 實時MCU 提高GaN 數字電源設計實用性, TI 來幫您!

文章出處:【微信號:tisemi,微信公眾號:德州儀器】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

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