精品国产人成在线_亚洲高清无码在线观看_国产在线视频国产永久2021_国产AV综合第一页一个的一区免费影院黑人_最近中文字幕MV高清在线视频

0
  • 聊天消息
  • 系統消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術視頻
  • 寫文章/發帖/加入社區
會員中心
創作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領取20積分哦,立即完善>

3天內不再提示

不同清洗工藝對納米粒子表面化學的影響(上)

華林科納半導體設備制造 ? 來源:華林科納半導體設備制造 ? 作者:華林科納半導體設 ? 2022-05-10 15:56 ? 次閱讀

介紹

納米材料在從能源到醫藥和食品的眾多應用中有著巨大的潛力。因此,這一革命性的科學技術領域正被廣泛研究,作為滿足未來社會需求的可能手段。在這種情況下,金屬,半導體,氧化物,聚合的,和碳基的納米粒子因其獨特而迷人的性質而備受關注。在不同的金屬納米粒子中,金納米粒子(AuNPs)可能是研究最多的,因為它們具有特殊的光學電子性質,它們合成的相對簡單性表面。

盡管早已知道硫醇對貴金屬的高親和力導致在平面表面上形成堅固且可重復的自組裝單層(ML ),35納米顆粒分散體中穩定劑和/或表面活性劑的存在可能會阻礙Au–S鍵的形成,從而限制反應產率,并因此限制功能化過程的可靠性和再現性。例如,最近的研究表明,檸檬酸穩定的AuNPs的功能化不會導致硫醇完全取代檸檬酸分子。剩余的檸檬酸鹽可以改變納米粒子的表面化學性質,并影響它們在生物環境。

因此,有必要關心-sis工藝,以及廣泛的可能表面通過硫醇基化學可實現的修飾。盡管這些特性使得AuNPs在各種工業和技術領域的應用非常有趣它們的成功應用,特別是在要求苛刻的領域,如生物醫學和生物傳感需要基于穩健、可靠和可再現的功能化方案的穩定和良好的表面功能24結合系統的納米粒子表征。

poYBAGJ6GoqAUIgYAACYlZACnIY053.png

結果和討論

在合成過程中,通常通過加入過量的檸檬酸鈉來穩定AuNPs,并且檸檬酸鈉通過改變反應中所涉及的物質的反應性而起到多重作用,如(1)還原劑,(2)靜電穩定劑,和(3)pH介質。50盡管過量的檸檬酸鹽具有最小化顆粒聚集的積極效果,但它也部分阻礙了AuNPs的表面功能化。為了克服這種副作用,通常希望在特定功能化之前或之后,嘗試通過對緩沖液/水進行透析或通過離心來除去檸檬酸鹽。

52在不同的純化方法中,離心和透析是最受歡迎的,這可能是由于它們相對簡單的實施和低廉的儀器價格。53在這項工作中,比較了透析和離心步驟作為從膠體金納米粒子中去除過量檸檬酸鹽的清洗步驟,并且殘余檸檬酸鹽的量與溶液中金納米粒子的穩定性相關。此外,通過使用疏水硫醇化分子,研究了剩余檸檬酸根對AuNPs官能化產率的影響。以秒為單位。III A 和III B,分別列出了離心和透析的結果,而與納米粒子功能化相關的數據以秒表示。

審核編輯:符乾江

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。 舉報投訴
  • 納米技術
    +關注

    關注

    2

    文章

    201

    瀏覽量

    25799
  • 化學
    +關注

    關注

    1

    文章

    83

    瀏覽量

    19402
  • 納米生物
    +關注

    關注

    0

    文章

    5

    瀏覽量

    6102
收藏 人收藏

    評論

    相關推薦

    安泰功率放大器在磁性納米粒子血管精細成像方法中的應用

    納米粒子成像技術(Magneticparticleimaging,MPI)是一種基于示蹤劑的成像技術,該技術檢測磁納米粒子(Magneticnanoparticles,MNPs)對動態磁場的非線性
    的頭像 發表于 11-11 11:24 ?138次閱讀
    安泰功率放大器在磁性<b class='flag-5'>納米粒子</b>血管精細成像方法中的應用

    GaAs晶圓的清洗表面處理工藝

    GaAs晶圓作為常用的一類晶圓,在半導體功率芯片和光電子芯片都有廣泛應用。而如何處理好該類晶圓的清洗和進一步的鈍化工作是生產工藝過程中需要關注的點。
    的頭像 發表于 10-30 10:46 ?244次閱讀
    GaAs晶圓的<b class='flag-5'>清洗</b>和<b class='flag-5'>表面</b>處理<b class='flag-5'>工藝</b>

    超全整理!沉金工藝在PCB表面處理中的應用

    沉金工藝運用化學氧化還原反應,實現較厚金層沉積,屬化學鎳金沉積技術。該工藝賦予印刷線路板表面鍍層高度的顏色穩定性、光澤度及平整性,確保優秀
    發表于 10-08 16:54

    利用HDPlas等離子功能化工藝,可增強CGM動態血糖儀微型傳感器性能

    工藝促進納米材料的有效分散,并允許改變表面化學以改善物理和電性能。 通過HDPlas工藝獲得了石墨烯油墨增強的導電性,10Ω/sq,對應厚度25.4μm,促進了更快的電荷傳輸和更高的靈
    發表于 09-10 15:45

    Haydale血糖和甘油三酯電化學監測導電油墨

    Haydale高精度石墨烯導電油墨采用獨特的HDPlas?專利工藝,顯著提升血糖、甘油三酯等生物指標的檢測準確性。通過優化納米材料的分散性與表面化學特性,這種創新油墨在醫療體外檢測中展現出穩定的性能,助力快速、可靠的臨床診斷,推
    的頭像 發表于 08-02 09:17 ?246次閱讀
    Haydale血糖和甘油三酯電<b class='flag-5'>化學</b>監測導電油墨

    用光子連接懸浮在真空中的納米粒子,并控制它們之間的相互作用

    文本介紹了用光子連接懸浮在真空中的納米粒子,并控制它們之間的相互作用的實驗。這展示了一種在宏觀尺度上實現量子糾纏和量子信息傳輸的可能性。
    的頭像 發表于 03-20 11:47 ?487次閱讀

    Zeta電位納米粒度儀的原理介紹

    Zeta電位納米粒度儀是一種用于測量納米材料電位和粒度分布的重要儀器。其原理基于電泳或電滲原理,通過測量納米顆粒在電場作用下的移動行為,來獲得其電位和粒度信息。
    的頭像 發表于 03-06 10:51 ?1665次閱讀

    超聲波清洗機的4大清洗特點與清洗原理

    一、超聲波清洗機的4大清洗特點 1. 高效性:超聲波清洗機利用高頻振動產生的微小氣泡在物體表面進行沖擊和剝離,從而實現對物體表面的高效
    的頭像 發表于 03-04 09:45 ?1218次閱讀
    超聲波<b class='flag-5'>清洗</b>機的4大<b class='flag-5'>清洗</b>特點與<b class='flag-5'>清洗</b>原理

    更快、更高效的納米粒子成像系統

    研究人員開發了一種新的納米粒子成像系統。該系統由一種高精度、短波紅外成像技術組成,能夠捕捉微毫秒范圍內稀土摻雜納米粒子的光致發光壽命。 這一發現以“使用全光學條紋成像的稀土摻雜納米顆粒的短波紅外光
    的頭像 發表于 03-04 06:38 ?342次閱讀

    pcb表面處理 什么是化學鍍鎳

    化學鍍鎳-化學鍍鈀浸金是一種在金屬表面形成鎳、鈀、金等金屬層的工藝方法。廣泛應用于電子、航空、汽車等領域。本文將對化學鍍鎳-
    的頭像 發表于 01-17 11:23 ?1074次閱讀
    pcb<b class='flag-5'>表面</b>處理 什么是<b class='flag-5'>化學</b>鍍鎳

    osp表面處理工藝介紹

    OSP(有機可焊性防腐劑)或抗銹劑通常采用輸送帶工藝,在裸露的銅形成一層非常薄的保護層,以防止銅表面氧化或硫化。這層膜必須具備抗氧化、抗熱震和防潮的特性,以保護銅表面在正常環境條件下
    的頭像 發表于 01-17 11:13 ?6132次閱讀
    osp<b class='flag-5'>表面</b>處理<b class='flag-5'>工藝</b>介紹

    半導體清洗工藝介紹

    根據清洗介質的不同,目前半導體清洗技術主要分為濕法清洗和干法清洗兩種工藝路線
    的頭像 發表于 01-12 23:14 ?2818次閱讀
    半導體<b class='flag-5'>清洗</b><b class='flag-5'>工藝</b>介紹

    使用ICP-MS/MS進行光伏硅片表面Ti納米顆粒表征的實驗過程

    /半導體制造工藝的不同環節中,這可能會帶來更多新材料成分的納米顆粒潛在污染,亟需對硅片表面納米顆粒進行尺寸和數量的表征。
    的頭像 發表于 01-11 11:29 ?1694次閱讀
    使用ICP-MS/MS進行光伏硅片<b class='flag-5'>表面</b>Ti<b class='flag-5'>納米</b>顆粒表征的實驗過程

    表面處理工藝選得好,高速信號衰減沒煩惱!

    ,是一種丙烯酸低聚物。可以說是一種最最常見表面處理工藝了! 優點包括穩定性高,成本低,應用廣泛! 沉錫板 和沉銀工藝類似,是一種通過化學置換反應沉積的金屬面,直接施加在電路板的基礎金
    發表于 12-12 13:35

    在濕臺工藝中使用RCA清洗技術

    半導體制造業依賴復雜而精確的工藝來制造我們需要的電子元件。其中一個過程是晶圓清洗,這個是去除硅晶圓表面不需要的顆粒或殘留物的過程,否則可能會損害產品質量或可靠性。RCA清洗技術能有效去
    的頭像 發表于 12-07 13:19 ?694次閱讀