2nm芯片什么時(shí)候量產(chǎn)?
臺(tái)積電3nm制程工藝將于2022年內(nèi)量產(chǎn),而臺(tái)積電首次采用納米片晶體管架構(gòu)的2nm制程工藝,將于2025年量產(chǎn),了解到,2nm工藝將比其前身提供純性能提升。
臺(tái)積電在2025年推出N2工藝技術(shù)后,仍將繼續(xù)使用其N(xiāo)3節(jié)點(diǎn)生產(chǎn)半導(dǎo)體,N2工藝在相同頻率和復(fù)雜度下將功耗降低25%至30%。
臺(tái)積電N3節(jié)點(diǎn)和N2節(jié)點(diǎn)將在未來(lái)幾年用于制造先進(jìn)的CPU、GPU和SoC,N3節(jié)點(diǎn)有望在今年下半年開(kāi)始大批量制造。
綜合整理自金融界、半導(dǎo)體行業(yè)觀察
審核編輯:湯梓紅
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