據韓國媒體報道稱,三星電子和ASML就引進今年生產的EUV光刻機和明年推出高數值孔徑極紫外光High-NA EUV光刻機達成采購協議。
High-NA EUV光刻機精密度更高、設計零件更多,是延續摩爾定律的關鍵,據悉,三星電子已獲得ASML今年EUV光刻機產能中的18臺。這意味三星僅在EUV光刻機上就將投資超過4兆韓元。
光刻機依然來自ASML,全球只有ASML可以量產,其它公司暫時還沒有能力研發出光刻機。
據外媒報道,半導體巨頭ASML的下一代光刻機將在2023年上半年產出第一臺樣機,并且有5份試驗機訂單將在2024年交貨,臺積電、英特爾、三星這些頂級芯片廠商,預計將在2025年開始使用最新一代光刻機的量產機。
有網友推測,中芯國際買EUV光刻機至少還要再等3年。如果3年后針對EUV光刻機的出貨限制被解除,中芯國際或能買到EUV光刻機。
文章綜合快科技、雪花、良言科技、科技強哥說
編輯:黃飛
聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。
舉報投訴
-
中芯國際
+關注
關注
27文章
1417瀏覽量
65282 -
三星電子
+關注
關注
34文章
15856瀏覽量
180933 -
摩爾定律
+關注
關注
4文章
632瀏覽量
78938 -
光刻機
+關注
關注
31文章
1148瀏覽量
47274
發布評論請先 登錄
相關推薦
光刻機巨頭ASML業績暴雷,芯片迎來新一輪“寒流”?
電子發燒友網報道(文/黃山明)作為芯片制造過程中的核心設備,光刻機決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機已經成為高端芯片(7nm及以下)芯片量產的關鍵,但目前EUV光刻機基本由荷蘭阿
用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術介紹
時,摩爾定律開始面臨挑戰。一些光刻機巨頭選擇了保守策略,寄希望于F2準分子光源157nm波長的干式光刻技術。2002年,浸潤式光刻的構想被提出,即利用水作為介質,通過光在液體
光刻機的工作原理和分類
? 本文介紹了光刻機在芯片制造中的角色和地位,并介紹了光刻機的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機:芯片制造的關鍵角色 ? ? 光刻機在
一文看懂光刻機的結構及雙工件臺技術
,光刻機作為IC制造裝備中最核心、技術難度最大的設備,其重要性日益凸顯。本文將從光刻機的發展歷程、結構組成、關鍵性能參數以及雙工件臺技術展開介紹。 一、光刻機發展歷程
俄羅斯首臺光刻機問世
據外媒報道,目前,俄羅斯首臺光刻機已經制造完成并正在進行測試。 俄羅斯聯邦工業和貿易部副部長瓦西里-什帕克(Vasily Shpak)表示,已組裝并制造了第一臺國產光刻機,作為澤廖諾格勒技術生產線
Rapidus對首代工藝中0.33NA EUV解決方案表示滿意,未采用高NA EUV光刻機
在全球四大先進制程代工巨頭(包括臺積電、三星電子、英特爾以及Rapidus)中,只有英特爾明確表示將使用High NA EUV光刻機進行大規模生產。
荷蘭阿斯麥稱可遠程癱瘓臺積電光刻機
disable)臺積電相應機器,而且還可以包括最先進的極紫外光刻機(EUV)。 這就意味著阿斯麥(ASML)留了后門,隨時有能力去遠程癱瘓制造芯片的光刻機。 要知道我國大陸市場已經連續三個季度成為阿斯麥(ASML)最大市場,而
臺積電A16制程采用EUV光刻機,2026年下半年量產
據臺灣業內人士透露,臺積電并未為A16制程配備高數值孔徑(High-NA)EUV光刻機,而選擇利用現有的EUV光刻機進行生產。相較之下,英特爾和三星則計劃在此階段使用最新的High-NA EUV
光刻機的發展歷程及工藝流程
光刻機經歷了5代產品發展,每次改進和創新都顯著提升了光刻機所能實現的最小工藝節點。按照使用光源依次從g-line、i-line發展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次從接觸接近式光刻機
發表于 03-21 11:31
?5897次閱讀
ASML 首臺新款 EUV 光刻機 Twinscan NXE:3800E 完成安裝
EUV 光刻機持續更新升級,未來目標在 2025 年推出 NXE:4000F 機型。 上兩代 NXE 系列機型 3400C 和 3600D 分別適合 7~5、5~3 納米節點生產,德媒 ComputerBase 因此預測 3800E 有望支持 3~2
光刻機結構及IC制造工藝工作原理
光刻機是微電子制造的關鍵設備,廣泛應用于集成電路、平面顯示器、LED、MEMS等領域。在集成電路制造中,光刻機被用于制造芯片上的電路圖案。
發表于 01-29 09:37
?2705次閱讀
英特爾搶下6種ASML HIGH NA光刻機
如果我們假設光刻機成本為 3.5 億至 4 億美元,并且 2024 年 10 個光刻機的HIGH NA 銷售額將在 35億至40億美元之間。
評論