光刻機是大規模集成電路生產的核心設備,它能夠制造和維護需要高水平的光學和電子產業基礎,全球只有少數制造商掌握了這一基礎。
光刻機的作用是對芯片晶圓進行掃描曝光,對集成電路進行蝕刻。精度更高的光刻機可以生產出納米尺寸更小、功能更強大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻機生產。
EUV光刻機有光源系統、光學鏡頭、雙工作臺系統三大核心技術。
目前,最先進的光刻機是荷蘭ASML公司的EUV光刻機。預計在光路系統的幫助下,能夠產出2-5nm芯片。
本文綜合自百度百科、大嘴猴侃科技、CSDN
編輯:何安
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