我覺得不管做什么事情都有一個定律，那就是人們永遠只會記得第一不會記得第二。

就像提到國內(nèi)芯片設(shè)計，很多人都會想到華為海思，但你要說第2名叫什么名字，絕大多數(shù)人都說不起來；

再比如說芯片制造，很多人都能都知道中芯國際的名字，但要說國內(nèi)第2家芯片代工廠的名字叫什么，大多數(shù)人也不知道。

所以要說芯片的機會在哪里，我覺得芯片的機會在頂端，這種頂端不僅僅指的是芯片制造的頂端，還包括整個產(chǎn)業(yè)鏈當(dāng)中各個環(huán)節(jié)的頂端。

首先大概要弄清一個道理，目前我國的芯片制造產(chǎn)業(yè)是非常龐大的，從2021年我國集成電路的產(chǎn)業(yè)規(guī)模來看，一年生產(chǎn)的集成電路個數(shù)就達到3,000億以上，目前我國集成電路產(chǎn)能占全球產(chǎn)能的比重已經(jīng)達到30%左右，這個規(guī)模可不小。

這說明目前國內(nèi)的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)競爭其實也非常激烈。

但是目前國內(nèi)的半導(dǎo)體主要集中在中低端產(chǎn)業(yè)，不論是芯片設(shè)計，芯片代工，都主要集中在中低端，高端芯片仍然嚴(yán)重依賴進口，如果國內(nèi)有哪些企業(yè)解決了高端芯片的問題，他就可以擁有更多的市場機會。

這里所謂的高端芯片，我們主要指的是14納米以上的工藝，尤其是7納米以上的工藝。

想要實現(xiàn)這個技術(shù)瓶頸的突破，不僅需要某個企業(yè)的努力，更需要整個產(chǎn)業(yè)鏈的努力，從前端的光刻機到中間的芯片代工，再到后端的芯片封裝測試都需要有頂尖的企業(yè)相互配合，才有可能實現(xiàn)技術(shù)上的突破。

高端芯片永遠是市場最大的機會，就看誰有能力去占領(lǐng)。

就拿光刻機來說，目前國內(nèi)研發(fā)光刻機的企業(yè)并不多，能生產(chǎn)高端光刻機的更是沒有一個。

目前國內(nèi)光刻機制造工藝最高的是上海微電子，但上海微電子目前真正已經(jīng)投入量產(chǎn)的光刻機也只不過是90納米，雖然他們已經(jīng)研發(fā)出了28納米的光刻機，但目前還在實驗階段，并沒有完全量產(chǎn)。

而目前國際最頂尖的光刻機制造廠家ASML已經(jīng)擁有成熟的7納米光刻機技術(shù)，5納米光刻機技術(shù)也正在實驗當(dāng)中。

目前一些頂尖芯片代工廠，比如臺積電，三星，英特爾所使用的都是ASML的EUV光刻機，只有這個光刻機才能制造出7納米以上的工藝。

假如未來國內(nèi)有某個企業(yè)能夠研發(fā)出7納米以上的光刻機，甚至更先進的光刻機，那他絕對能夠獲得很大的市場份額。

要知道目前我國7納米以上的芯片基本上全部依賴從外部進口，但是從外部進口存在很多不確定性，萬一被外部限制了，就隨時可能中斷。

對這種依賴度，其實很多企業(yè)也知道其中簡單的風(fēng)險，但無奈國內(nèi)沒有企業(yè)能夠生產(chǎn)出這么高端的芯片，所以他們只能依賴進口。

當(dāng)然除了光刻機這種大型設(shè)備之外，芯片制造設(shè)計的產(chǎn)業(yè)鏈非常長，這里面需要用到很多零部件，一個高端光刻機需要用到的零部件就達到幾萬個，這里面每一個零部件都需要做到行業(yè)頂尖水平，這些關(guān)聯(lián)零部件同樣也存在巨大的市場空間。

當(dāng)然除了硬件上的機會之外，軟件上也同樣有很多機會，比如目前國內(nèi)用于芯片設(shè)計，很多軟件都嚴(yán)重依賴歐美國家。

比如目前很多芯片設(shè)計企業(yè)所使用的EDA軟件就主要從英美國家進口，而最近幾年歐美國家一直在威脅我們要禁止出口EDA軟件，我覺得這絕對不是簡單的恐嚇，未來確實有可能付諸行動，假如某一天他們真的禁止了，那國內(nèi)很多芯片設(shè)計企業(yè)都會受到很大的影響。

雖然目前國內(nèi)也有一些企業(yè)能夠提供EDA軟件，但跟國際頂尖水平相比，仍然有一定的差距。

在比如芯片框架也是一個讓人頭疼的地方，目前全球很多芯片設(shè)計都采用ARM的框架，如果他們真的禁止相關(guān)企業(yè)使用了，對我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)來說也會有很大的影響。

所以除了在高端芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈上有很多機會之外，芯片設(shè)計的基礎(chǔ)軟件同樣也有很大的機會。

總之，在技術(shù)不斷推陳出新的背景之下，想要長久保持市場優(yōu)勢，獲得更大的市場機會，那就需要不斷進行技術(shù)突破，只有你掌握最頂尖的技術(shù)，讓競爭對手望塵莫及，你才能擁有更多的市場空間。

審核編輯：湯梓紅