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耦合器技術有利于AC/DC設計中的氮化鎵晶體管

星星科技指導員 ? 來源:ADI ? 作者:Robbins Ren ? 2022-12-19 16:39 ? 次閱讀

高效的 AC/DC 電源是電信和數據通信基礎設施發展的關鍵,因為超大規模數據中心、企業服務器或電信交換站的功耗會迅速增長。然而,電力電子行業已經達到了硅MOSFET的理論極限。同時,最近的氮化鎵(GaN)晶體管已成為取代硅基MOSFET的高性能開關,可提供更高的能量轉換效率并實現更大的密度。需要具有新規格的新隔離概念來解決GaN晶體管的優勢。

GaN晶體管的開關速度比硅MOSFET快得多,并且由于以下原因,可以實現更低的開關損耗:

較低的柵極電容和輸出電容。

電阻上的漏極-源極較低 (RDS(ON)) 以獲得更高的電流操作,從而降低傳導損耗。

低或零反向恢復電荷 (QRR),因為不需要體二極管

GaN晶體管可以支持大多數由獨立的功率因數校正(PFC)和DC-DC部分組成的交流/直流電源:前端無橋PFC和以下LLC諧振轉換器(兩個電感器和一個電容器)。這種拓撲完全依賴于半橋和全橋電路,如圖1所示。

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圖1.用于電信和服務器應用的典型交流/直流電源。

數字信號處理器DSP)作為主控制器,以及用于替代硅MOSFET的GaN晶體管,需要一種新的隔離技術來解決更高的開關頻率問題。這主要包括隔離式氮化鎵驅動器

典型隔離解決方案和要求

UART通信隔離

從以前的模擬控制系統到DSP控制系統的轉變需要隔離脈寬調制(PWM)信號和附加控制信號。雙通道ADuM121可用于DSP之間的UART通信。為了最大限度地減少隔離所需的總系統尺寸,在電路板組裝中使用了環氧樹脂密封膠。更小的尺寸和高功率密度在交流/直流的發展中至關重要。需要更小的封裝隔離器。

功率因數校正分段隔離

與MOS相比,ISO柵極驅動器的傳播延遲/偏斜、負偏置/箝位和尺寸對于GaN至關重要。為了驅動具有GaN的半橋或全橋晶體管,PFC部分可以使用ADuM3123單通道驅動器,LLC部分可以使用ADuM4223雙通道驅動器。

為隔離柵后面的器件供電

ADuM5020基于ADI公司的isoPower技術,專為跨越隔離柵進行功率傳輸而設計,是一款緊湊型芯片解決方案,可將GaN晶體管的輔助電源與柵極的輔助電源相匹配。?

隔離要求

為了充分利用GaN晶體管,隔離式柵極驅動器的首選要求是:

最大允許柵極電壓 <7 V

開關節點>100 kV/ms dv/dt,100 kV/μs 至 200 kV/μs CMTI

高低開關延遲匹配 ≤50 ns,適用于 650 V 應用

負電壓箝位 (–3 V),用于關斷

有幾種解決方案可以驅動半橋晶體管的高端和低端。關于傳統的電平轉換高壓驅動器的一個誤區是,最簡單的單芯片實現方案廣泛用于硅基MOSFET。在一些高端產品(例如服務器電源)中,ADuM4223雙通道隔離驅動器用于驅動MOS,以實現緊湊型設計。然而,當轉向GaN時,電平轉換解決方案具有缺點,例如非常大的傳播延遲和有限的共模瞬變抗擾度(CMTI),并且對于高開關頻率不是最佳選擇。與單通道驅動器相比,雙隔離驅動器缺乏布局靈活性。同時,它在負偏置的配置上存在困難。表1顯示了這些方法的比較。

溶液 科技 優點 挑戰 ADI產品
集成高邊和低邊驅動器 電平轉換 最簡單的單芯片解決方案 大延遲時間,有限的CMTI,外部自舉電路
雙隔離集成驅動器 單芯片解決方案 犧牲布局靈活性,需要時間給自舉帽充電 ADuM4223
單通道隔離驅動器 易于布局,高CMTI,低傳播延遲/偏斜 需要外部輔助電源 ADuM3123, ADuM4121
隔離器和 ISO 電源 布局靈活,易于負偏置,無自舉電路 成本高,電磁干擾問題 ADuM110+ ADuM5020

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圖2.典型的ISO機會和要求,顯示了ISO功率器件中的UART隔離和PFC部分隔離。

單通道驅動器已準備好用于GaN晶體管。典型的單通道驅動器是ADuM3123,它使用齊納二極管和分立電路提供的外部電源來實現負偏置(可選),如圖3所示。

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圖3.GaN晶體管的單通道隔離式iso耦合器驅動器應用概述。

新趨勢:定制隔離氮化鎵模塊

目前,GaN器件通常與其驅動器分開封裝。這是由于GaN開關和隔離驅動器的制造工藝差異造成的。將來,將GaN晶體管和隔離柵驅動器集成到同一封裝中將進一步提高開關性能,因為它將減少電感寄生效應。一些主要的電信供應商計劃將其GaN系統封裝為單獨的定制模塊。從長遠來看,GaN系統的驅動器可以使其實施到更小尺寸的隔離器模塊中。ADuM110N(低傳播延遲、高頻)和iso功率ADuM5020等微小單通道示例,如圖4所示,設計簡單,支持這一趨勢。

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圖4.i耦合器ADuM110N和iso功率ADuM5020非常適合納微氮化鎵模塊。

結論

與傳統的硅基MOSFET相比,GaN晶體管具有更小的器件尺寸、更低的導通電阻和更高的工作頻率,具有許多優勢。采用氮化鎵技術可以在不影響效率的情況下減小整體解決方案尺寸。氮化鎵器件具有廣闊的前景,特別是在中高壓電源方面。ADI的i耦合器技術在驅動新興的GaN開關和晶體管方面具有出色的優勢。

審核編輯:郭婷

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