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【前沿技術】MicroLED的檢測挑戰與應用普及

半導體芯科技SiSC ? 來源:半導體芯科技SiSC ? 作者:半導體芯科技SiS ? 2023-01-18 15:10 ? 次閱讀

來源:《半導體芯科技》雜志12/1月刊

隨著MicroLED顯示技術的不斷進步,其未來市場應用前景開始逐步實現。近日,KLA顯示事業部亞太區市場經理蔣仕元(Willy Chiang)就MicroLED面臨的測試挑戰,以及對于 MicroLED應用普及路線等問題與讀者分享了其觀點,可供參考。

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MicroLED顯示器未來能否被市場廣泛接受,主要挑戰是技術的成熟度和成本; 通過檢測與修補來提升端到端的綜合制程良率(Combined Process Yield),降低制程不良機率,以減少材料浪費,并搭配修補來提升整體良率。

與傳統的LED與MiniLED制程相比,以下因素導致了檢測方法的差異與挑戰,晶粒大小與型式:由于LED晶粒大小與型式會影響之后巨量轉移的方式,在晶粒制造過程必須挑選好晶粒(KGD),加上晶粒愈小愈有利降低成本,晶圓外延片與晶粒生產中所選擇的制程設備與良率控管便成為關鍵。

驅動背板的設計:與傳統顯示器的像素與周邊線路分開設計不同,無邊框背板的電路設計必須將像素與周邊線路一起設計在顯示區,光學檢測與電性檢測都必須因應施策。巨量轉移的方法:在指定時間內要完成10億顆左右MicroLED晶粒的位置偏移計算,對算法與計算機能力的提升都是一大挑戰。

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Willy:

據 SID 2021 年報告顯示,對平面顯示器而言,價格一直是普及化的關鍵門檻。對照LCD花了25年的時間才從$30k/m2 降價到 $100/m2,這也是對于MicroLED不可避免的挑戰。雖然MicroLED在技術上展現許多的優點,但在量產(HVM)路途上還是充滿整合的挑戰,仍需要未來幾年不斷的完善。

此外,晶粒大小與巨量轉移是兩大影響顯示器生產成本的主因;當前晶粒逐漸縮小到<10μm時,無塵室與機臺潔凈度設計、檢測靈敏度便成為良率高低的關鍵因素,但現有無塵室未必符合這些生產要素, 這一生產條件須從新廠規劃著手。 目前巨量轉移的生產速度與設備費用,其性價比尚未趕上主流LCD或OLED制程,以市面最快的巨量轉移生產,大約每小時制作1.5臺4K電視,這尚未達到量 產(HVM)目標,何況良率折損還需額外修補,提升巨量轉移的速度與良率是當務之急。

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Willy:

不同顯示器所用的背板不同,如硅基板(CMOS Si Wafer)、薄膜陣列玻璃基板(TFT array glass)、印刷電路板(PCB),分屬不同的制造領域,加上不同分辨率(PPI),這些因素都會影響檢測技術。

MicroLED普及應用的時程則取決于B2B或B2C的市場設定,拼接電視在虛擬攝影棚和公共顯示可以于2022年立即用于B2B市場,部分高端用戶也對模擬飛行與家庭電影有高度興趣。MicroLED手表有其顯示優越性,可在不同外在環境條件下使用,可于2024年逐漸取代OLED手表,但價格還是普及B2C市場的關鍵因素。至于車用顯示器,應當隨著節能減碳議題發酵,在2025年隨電動車的市占率逐年提升,也唯有MicroLED 可以適用各種駕駛情境,在強光下開車變得更安全。

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Willy:

以4K拼接電視為例。我們發現MicroLED 用的背板往往具有相當長的比對間距,且像素圖案不具重復性,必須改變像素對像素比對(pixel to pixel),升級到芯片到芯片比對(die to die)的算法,需高速計算能力(HPC)來進行完整的影像處理,以滿足更復雜背板設計所需要的缺陷檢出靈敏度。

其次,與過去的背板設計相比,KLA 發現MicroLED 背板需要更多的晶體管電容元件來做為補償電路,如此才能呈現高品質畫面。為了達到 MicroLED 顯示器的動態切換和像素均勻性要求,這意味著背板電測需要完整測試電路的功能性,判定顯示像素亮度的均勻性,并檢出無效像素。

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Willy:

KLA 多年以來深耕半導體、平面顯示與先進封裝領域,應用過去累積的經驗來管理MicroLED 所遇到的新挑戰; 不管硅晶圓(Si Wafer)或薄膜玻璃基板領域,過去都擁有許多量產經驗,在技術尚未統一的MicroLED 應用,公司各領域專家也適時提出解決方案,協助客 戶及早進入量產(HVM)規劃。

MicroLED從外延片到終端顯示器, KLA 擁有許多經市場驗證的制程與制程監控解決方案,可以滿足獨特又嚴苛的 MicroLED 生產流程所面臨的各種新挑戰,同時協助客戶達成高良率目標,KLA 秉持服務產業的精神,與MicroLED 客戶充分合作,共同開創未來的顯示技術。

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