1.前言
之前做過一個項目,有個模塊例化了10次,流片回來測試,有9個正常工作,另外一個工作不起來。這時這個模塊的負(fù)責(zé)人就來找我,問到:IR仿真時這10個模塊結(jié)果是怎樣的?測試有問題那個是IR最差的那個嗎?后來把仿真結(jié)果拿出來,發(fā)現(xiàn)工作不起來這個模塊IR不是最差的,結(jié)果和我就沒關(guān)系了。不過后來這個模塊又可以工作了(具體原因不知道)。
另一個項目(不是我參與的),工藝不同,還是這個模塊,不過只例化只有一次,但是流片回來測試,這個模塊在func模式下可以正常工作,在scan模式下工作不起來,項目組懷疑是IR問題。結(jié)果后端負(fù)責(zé)人整天到處出差開會(和foundary廠、項目經(jīng)理、DFT負(fù)責(zé)人等等),雖然已經(jīng)做了很多工作,但是目前還沒有定論。
從以上項目情況可知,芯片流片回來后,測試有問題,如果定位不到原因,首先會懷疑IR問題導(dǎo)致的,做IR分析的人就很無辜了,因為IR的實際情況無法測量(據(jù)某司后端負(fù)責(zé)人講,他們已經(jīng)可以測出來)。
為啥測試有問題首先會懷疑IR結(jié)果?隨著半導(dǎo)體工藝的演進(jìn),金屬線越做越窄(電阻越來越大)、電壓越來越低(噪聲容限越來越小)、電路頻率越來越高(cell 翻轉(zhuǎn)率越來越高)等一些列因素對IR都不太友好,也導(dǎo)致在先進(jìn)工藝IR分析越來越重要。加之IR沒法實測,導(dǎo)致有問題不好定位,所以大家也稱IR分析為“玄學(xué)”。
最初想寫這篇文章是在做上一個項目的時候。由于項目中有一些加速器設(shè)計(累加累乘功能),導(dǎo)致這些模塊在die+封裝仿真時,模塊局部IR Drop特別大。當(dāng)時在沖刺signoff節(jié)點,項目經(jīng)理和開發(fā)的人就問這個IR Drop不滿足標(biāo)準(zhǔn)到底有啥影響?可以waive不?哈哈,我就想說你不想讓流片回來芯片測試時正常工作你就waive吧。不過言歸正傳,IR Drop對芯片性能(timing)到底有什么影響?
2.IR Drop定義
如下圖所示,描述了連接在一個有阻抗的電源上的兩個大緩沖器。最初,所有電源網(wǎng)格中的電平處于VDD。當(dāng)大驅(qū)動器inv2開始變化時,對電流的需求降低了電源網(wǎng)格的電壓。特別是導(dǎo)線電阻產(chǎn)生的電壓降會隨著電流從外部電源向inv2的流動而增加。在芯片外圍的VDD連接點附近的電壓保持相當(dāng)高的水平,在連接到inv2時有V的壓降。實際上,IR壓降是由于時鐘緩沖器、總線驅(qū)動器、存儲器譯碼驅(qū)動器等的同時變化引起的。這些同時變化事件可以在芯片上的任何地方發(fā)生,因此,所有區(qū)域都可能受到IR壓降問題的影響。當(dāng)輸出電平變到低時地線網(wǎng)格也會受同樣類型問題的影響,只是這時的電壓值會增加,這有時稱為地線反跳(gound bounce)。
3. IRDrop對性能(timing)的影響
IR Drop可以影響net delay和cell delay。由于峰值電壓的減小,有IR Drop的instance的電壓擺幅會小于標(biāo)準(zhǔn)電壓。這會影響接收器的net delay和input slew(如下圖)。
假設(shè)driver工作在正常電壓Vdd,receiver工作在Virdrop電壓。由于cell delay是inputslew和outputload的函數(shù),所以IR drop也會影響cell delay。除此之外,電壓的降低也會影響cell delay。
從公式中可以看出,當(dāng)電壓降為5%時,延遲值如下所示,也即延遲增加9.5%。
net delay和cell delay的增加會造成時序違例的產(chǎn)生,它可以引起setup和hold違例。如果電壓降或延遲位于數(shù)據(jù)路徑,他可能產(chǎn)生setup違例;如果電壓降或延遲是位于時鐘路徑,它可能會產(chǎn)生hold的違例。
如下面某個設(shè)計,其時鐘周期為3ns,則電壓降產(chǎn)生的時序違例分析如下表所示:
這個設(shè)計在沒有電壓降時,其工作主頻可以達(dá)到318MHz,在5%電壓降時主頻為294MHz,如果有10%的電壓降,則主頻只有272MHz.可見在高頻數(shù)字電路中,降低電壓降對于提高芯片的性能有著至關(guān)重要的作用。
4.IR Drop對芯片功能的影響
小編是不是搞錯了?這玩意還能影響到功能。應(yīng)該沒有搞錯,IR Drop損害了邏輯門的噪聲容限,這不僅是因為電源網(wǎng)格的電壓降低,而且也因為地線網(wǎng)格的電壓升高。一旦噪聲容限降到預(yù)算值(典型值為10%)之下,設(shè)計就不保證正確工作了。近年來,電源電壓一直降低,以避免晶體管的穿通條件、熱電子效應(yīng)和器件擊穿。更近年來的情況是,VDD的降低主要是為了減小功耗而不是其他問題。無論那種情況都導(dǎo)致了越來越小的噪聲容限。由于有IR壓降,噪聲容限更進(jìn)一步降低,使得在百萬晶體管級的設(shè)計中處理連線耦合噪聲效應(yīng)變得更加困難。
審核編輯:湯梓紅
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原文標(biāo)題:IR Drop 對芯片性能及功能的影響
文章出處:【微信號:處芯積律,微信公眾號:處芯積律】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。
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