極紫外Extreme ultraviolet，EUV輻射是材料科學、阿秒計量和光刻的關鍵技術。

今日，美國 哈佛大學（Harvard University）Marcus Ossiander，Maryna Leonidivna Meretska，Hana Kristin Hampel，Federico Capasso等，奧地利 格拉茨技術大學(Graz University of Technology) Martin Schultze等，在Science上發文，報道實驗證明了超表面是一種聚焦極紫外EUV光的優越方式。 這些器件利用了硅膜中的孔比周圍材料大得多的折射率這一事實，并有效地真空引導波長約為50納米的光。通過孔直徑調控了納米尺度的傳輸相位。還制備了焦距為10毫米的極紫外EUV超透鏡，其支持高達0.05數值孔徑，并將高次諧波產生的超短極紫外EUV光脈沖聚焦到0.7微米束腰（即光束半徑最小的位置）。 該項研究，將介電超表面提供的巨大光成形可能性，引入到了透射光學材料的光譜范圍。

Extreme ultraviolet metalens by vacuum guiding. 真空導引的極紫外超透鏡。

圖1.真空引導的極紫外Extreme ultraviolet，EUV超透鏡。

圖2 極紫外EUV超透鏡的設計與制作。

圖3.極紫外EUV超透鏡聚焦的實驗演示。

圖4 極紫外EUV超透鏡的有限差分時域建模和優點。

超快光譜學和半導體光刻領域皆依賴于非常短的波長，往往在極紫外extreme ultraviolet，EUV波段。然而，大多數光學材料強烈地吸收該波長范圍內的光，導致缺乏通常可用的透射部件。 該項研究，設計并制造了一種超透鏡metalens，其中在薄硅膜中精心設計的孔陣列，基于“真空引導”聚焦接近衍射極限的超快極紫外EUV脈沖。該項成果，開啟了極紫外EUV波段的傳輸光學。

審核編輯 ：李倩