在光學(xué)成像末制導(dǎo)系統(tǒng)中，制冷紅外光學(xué)系統(tǒng)具有成像質(zhì)量好、探測(cè)精度高、抗干擾能力強(qiáng)和可全天時(shí)工作等突出優(yōu)點(diǎn)。但由于彈載環(huán)境極端惡劣，需確保光學(xué)系統(tǒng)在110℃寬溫范圍、高沖擊過(guò)載的環(huán)境下正常工作，因此要求系統(tǒng)具有性能優(yōu)良、技術(shù)成熟、可靠性高、加工工藝性好、易于裝調(diào)、良品率高等技術(shù)特點(diǎn)，同時(shí)還需降低生產(chǎn)制造成本，利于后期大批量生產(chǎn)。

據(jù)麥姆斯咨詢報(bào)道，近期，哈爾濱新光光電科技股份有限公司、火箭軍裝備部駐哈爾濱地區(qū)軍事代表室和哈爾濱工業(yè)大學(xué)的聯(lián)合科研團(tuán)隊(duì)在《紅外技術(shù)》期刊上發(fā)表了以“基于硅鍺材料低成本中波紅外光學(xué)系統(tǒng)無(wú)熱化設(shè)計(jì)”為主題的文章。該文章第一作者和通訊作者為新光光電賀磊高級(jí)工程師，主要從事光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)、光學(xué)導(dǎo)引頭設(shè)計(jì)與研制等方面的研究工作。

本文針對(duì)中波紅外640 × 512制冷型探測(cè)器，采用兩軸框架式總體布局方式，基于常用硅鍺兩種材料，使用一次成像3片式光學(xué)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)了一個(gè)中波紅外制冷光學(xué)系統(tǒng)，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，透過(guò)率高，像質(zhì)優(yōu)良，實(shí)現(xiàn)了中波制冷紅外導(dǎo)引頭的低成本、無(wú)熱化設(shè)計(jì)。

兩軸框架式工作原理

目前常用的成像位標(biāo)器穩(wěn)定平臺(tái)多采用俯仰和方位二自由度框架結(jié)構(gòu)，簡(jiǎn)單緊湊，兩通道相互獨(dú)立、耦合少。布局形式為內(nèi)外框架組成的萬(wàn)向支架式結(jié)構(gòu)。萬(wàn)向節(jié)中心與整流罩球心重合，外框架方位運(yùn)動(dòng)，內(nèi)框架俯仰運(yùn)動(dòng)，實(shí)現(xiàn)大視場(chǎng)掃描。圖1為這種導(dǎo)引頭的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖1 兩軸框架式導(dǎo)引頭結(jié)構(gòu)示意圖

設(shè)計(jì)實(shí)例

光學(xué)技術(shù)指標(biāo)

紅外光學(xué)系統(tǒng)的主要光學(xué)技術(shù)指標(biāo)包括：工作波段、焦距、視場(chǎng)、F數(shù)、光學(xué)畸變、像元尺寸和工作溫度等。本設(shè)計(jì)實(shí)例基于某制冷紅外系統(tǒng)，采用F數(shù)為2的640 × 512中波紅外探測(cè)器斯特林制冷，像元尺寸為15 μm，實(shí)現(xiàn)100%冷光闌效率，同時(shí)要求光學(xué)系統(tǒng)具有成本低、可靠性高，環(huán)境適應(yīng)性強(qiáng)的技術(shù)特點(diǎn)，詳細(xì)光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)指標(biāo)如表 1所示。

表1 光學(xué)技術(shù)指標(biāo)

光學(xué)結(jié)構(gòu)形式及材料的選取

紅外制冷光學(xué)系統(tǒng)（定焦）的結(jié)構(gòu)形式分為一次成像和二次成像兩種光學(xué)結(jié)構(gòu)形式。一次成像結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，鏡片數(shù)量少，透過(guò)率高，易裝校，但窗口尺寸大；二次成像結(jié)構(gòu)入瞳位于窗口上，窗口尺寸小，但系統(tǒng)結(jié)構(gòu)相對(duì)復(fù)雜，鏡片數(shù)量多，對(duì)零件的裝配精度也提出了相對(duì)較高的要求，透過(guò)率稍低。文獻(xiàn)采用二次成像結(jié)構(gòu)與高精度調(diào)焦平臺(tái)相結(jié)合的形式實(shí)現(xiàn)了機(jī)載緊湊型中波紅外相機(jī)的設(shè)計(jì)。

紅外材料按透射波段可分為兩大類：中波材料（3~5 μm）和長(zhǎng)波材料（8~14 μm）。在工程應(yīng)用中，中波系統(tǒng)中常用Si，Ge，ZnSe，ZnS等。在長(zhǎng)波系統(tǒng)中常用，Ge，ZnSe，ZnS等，此外硫系玻璃在紅外系統(tǒng)中也有大量應(yīng)用。有文獻(xiàn)是基于硫系玻璃實(shí)現(xiàn)中波紅外光學(xué)系統(tǒng)無(wú)熱化設(shè)計(jì)。文獻(xiàn)利用折/衍混合同時(shí)實(shí)現(xiàn)了復(fù)消色差和消熱差設(shè)計(jì)。隨著光學(xué)面型加工精度的提高，非球面上附加衍射面的加工也已經(jīng)能夠?qū)崿F(xiàn)，為消熱差設(shè)計(jì)提供了更多的自由度。

本系統(tǒng)采用二軸伺服框架控制方式，綜合考慮系統(tǒng)的使用目的、空間尺寸和技術(shù)指標(biāo)要求，主要解決系統(tǒng)低成本和無(wú)熱化問(wèn)題。光學(xué)系統(tǒng)采用一次成像結(jié)構(gòu)，運(yùn)用高級(jí)像差理論，合理分配各透鏡的光焦度，考慮光學(xué)材料的熱膨脹系數(shù)，平衡光學(xué)像差和熱差之間的矛盾，選用最常用、穩(wěn)定性好、加工工藝成熟的硅、鍺作為透鏡材料，使用3片式Si-Ge-Si布局形式，并在鍺透鏡上采用二元衍射面設(shè)計(jì)，減少鏡片數(shù)量，降低光學(xué)裝校難度，提高透過(guò)率，在提升系統(tǒng)環(huán)境適應(yīng)性的同時(shí)，實(shí)現(xiàn)了低成本研制，適于批量生產(chǎn)。

無(wú)熱化設(shè)計(jì)原理

在紅外光學(xué)系統(tǒng)中，當(dāng)環(huán)境溫度發(fā)生變化時(shí)，光學(xué)材料和機(jī)械材料的熱效應(yīng)將使得光學(xué)材料折射率變化、光學(xué)元件曲率半徑變化、以及光學(xué)元件厚度和空氣間隔變化。這些變化將導(dǎo)致嚴(yán)重的熱離焦，從而使紅外光學(xué)系統(tǒng)的像質(zhì)下降，圖像模糊不清，對(duì)比度下降，最終影響整機(jī)系統(tǒng)的性能，為此需要采用無(wú)熱化技術(shù)消除環(huán)境變化的影響。

對(duì)于定焦距紅外光學(xué)系統(tǒng)，目前其無(wú)熱化技術(shù)主要采用光學(xué)被動(dòng)式。光學(xué)被動(dòng)式特點(diǎn)為：結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、尺寸較小、質(zhì)量輕、無(wú)需供電和可靠性高。

設(shè)計(jì)結(jié)果及像質(zhì)評(píng)價(jià)

通過(guò)反復(fù)優(yōu)化設(shè)計(jì)，光學(xué)系統(tǒng)鏡頭參數(shù)數(shù)據(jù)表如表2所示，光學(xué)系統(tǒng)如圖2所示，光學(xué)系統(tǒng)主要由頭罩和3片透鏡組成，其中頭罩材料為藍(lán)寶石材料，透鏡材料為硅和鍺，結(jié)構(gòu)支撐件材料為鋁。透鏡1和透鏡3為正透鏡。采用傳統(tǒng)的常規(guī)球面硅透鏡，材料價(jià)格低，易于加工。

表2 光學(xué)鏡頭參數(shù)表

圖2 光學(xué)系統(tǒng)圖

衍射效率是衍射光學(xué)元件的一個(gè)重要性能指標(biāo)，經(jīng)計(jì)算衍射效率為0.98。二元面面型結(jié)構(gòu)如圖3所示。

圖3 二元面面型

圖4~圖6為不同溫度下系統(tǒng)的傳遞函數(shù)曲線，圖7為光學(xué)系統(tǒng)的畸變曲線。

圖4 20℃時(shí)MTF曲線

圖5 -40℃時(shí)MTF曲線

圖6 +70℃時(shí)MTF曲線

圖7 光學(xué)系統(tǒng)場(chǎng)曲和畸變

從上述分析結(jié)果可知，在工作溫度-40℃~+70℃內(nèi)，在奈奎斯特頻率為33 lp/mm時(shí)，不同溫度下的光學(xué)系統(tǒng)成像質(zhì)量?jī)?yōu)良、無(wú)熱化效果良好，畸變最大值為0.57%，滿足技術(shù)指標(biāo)要求具體數(shù)值（最小值）詳見表3。

表3 不同溫度下MTF值（最小值）

冷反射分析

制冷紅外光學(xué)系統(tǒng)中冷反射是評(píng)價(jià)和計(jì)算紅外系統(tǒng)性能的重要指標(biāo)之一，本文通過(guò)ZEMAX光學(xué)設(shè)計(jì)軟件建立非序列模型，進(jìn)行實(shí)際光線追跡，分析模型如圖 8所示，分析結(jié)果如圖9、圖10所示。

圖8 三維分析模型

圖9 像面非相干照度灰度圖

圖10 像面非相干照度曲線（X、Y）

從上述分析結(jié)果可以看出，冷反射分布曲線無(wú)明顯的峰值，曲線相對(duì)平直，成彌散分布，像面非相干照度非均勻性X方向?yàn)?3%，Y方向?yàn)?1%。

公差分析

光學(xué)系統(tǒng)公差包括零件加工允許誤差和系統(tǒng)裝校的允許誤差。光學(xué)系統(tǒng)在設(shè)計(jì)時(shí)，在滿足系統(tǒng)指標(biāo)要求的前提下，還要充分考慮光學(xué)系統(tǒng)各結(jié)構(gòu)參數(shù)的公差分配，如光學(xué)透鏡加工的面型精度、厚度、偏心；系統(tǒng)裝校時(shí)，各透鏡之間的相對(duì)傾斜、間隔、同軸度等因素。合理的公差分配，可極大地提高光學(xué)系統(tǒng)的加工和裝校效率，提升產(chǎn)品的良品率，降低產(chǎn)品的生產(chǎn)成本。本文表4為系統(tǒng)的零件加工公差，表5為零件裝配公差，以上述公差為分析依據(jù)，通過(guò)光學(xué)軟件進(jìn)行蒙特卡洛公差分析，光學(xué)系統(tǒng)MTF分析結(jié)果如圖11所示。

表4 零件加工公差

表5 零件裝配公差

圖11 公差分析曲線

通過(guò)上述公差分析結(jié)果可知：光學(xué)系統(tǒng)在0視場(chǎng)有95%的裝配概率MTF值大于0.58@33 lp/mm，0.7視場(chǎng)有92%的裝配概率MTF值大于0.36@33 lp/mm，全視場(chǎng)90%的裝配概率MTF值大于0.28@33 lp/mm，裝配工藝性良好，良品率高，滿足系統(tǒng)指標(biāo)要求。

工程實(shí)現(xiàn)及測(cè)試結(jié)果

光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行精密裝校后，工程樣機(jī)和成像效果如圖 12所示，使用TRIOPTICS全歐光學(xué)傳遞函數(shù)測(cè)量?jī)x對(duì)光學(xué)系統(tǒng)的傳遞函數(shù)和畸變進(jìn)行測(cè)試，測(cè)試結(jié)果如圖13、圖14所示。從測(cè)試結(jié)果可以看出，所研制的工程樣機(jī)成像質(zhì)量?jī)?yōu)良，無(wú)明顯冷反射現(xiàn)象，滿足技術(shù)指標(biāo)要求。

圖12 精密裝校后的光學(xué)系統(tǒng)

圖13 實(shí)測(cè)MTF曲線圖

圖14 實(shí)測(cè)畸變曲線圖

結(jié)論

為滿足中波紅外制導(dǎo)光學(xué)系統(tǒng)低成本和無(wú)熱化的要求，本文采用兩軸框架式導(dǎo)引頭總體布局方式，設(shè)計(jì)一種高分辨率中波制冷紅外成像制導(dǎo)光學(xué)系統(tǒng)。在設(shè)計(jì)過(guò)程中，采用一次成像3片式光學(xué)結(jié)構(gòu)，基于穩(wěn)定性好的硅鍺材料，配合使用折-衍混合設(shè)計(jì)手段，實(shí)現(xiàn)了光學(xué)系統(tǒng)－40℃~+70℃無(wú)熱化設(shè)計(jì)。開展工程樣機(jī)研制和成像效果實(shí)驗(yàn)。經(jīng)實(shí)測(cè)，光學(xué)系統(tǒng)的軸上視場(chǎng)傳遞函數(shù)（最小值）MTF≥0.55@33 lp/mm，0.7視場(chǎng)傳遞函數(shù)（最小值）MTF≥0.35@33 lp/mm，全視場(chǎng)畸變測(cè)試值為0.65%，冷光闌效率100%，無(wú)冷反射現(xiàn)象，成像質(zhì)量?jī)?yōu)良，滿足技術(shù)指標(biāo)要求。光學(xué)系統(tǒng)易加工裝調(diào)、良品率高、成本低，適于批量生產(chǎn)，可廣泛應(yīng)用于光學(xué)成像制導(dǎo)、搜索、跟蹤和偵察等領(lǐng)域。