精品国产人成在线_亚洲高清无码在线观看_国产在线视频国产永久2021_国产AV综合第一页一个的一区免费影院黑人_最近中文字幕MV高清在线视频

0
  • 聊天消息
  • 系統消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術視頻
  • 寫文章/發帖/加入社區
會員中心
創作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領取20積分哦,立即完善>

3天內不再提示

9.6.7 化學機械拋光液∈《集成電路產業全書》

深圳市致知行科技有限公司 ? 2022-03-01 10:40 ? 次閱讀

Chemical Mechanical Polishing Slurry

撰稿人:安集微電子科技(上海)股份有限公司 王淑敏

http://page.anjimicro.com

審稿人:浙江大學 余學功

https://www.zju.edu.cn

9.6 工藝輔助材料

第9章 集成電路專用材料

《集成電路產業全書》下冊

5f375280-965d-11ec-9d5f-dac502259ad0.jpg

5f48e89c-965d-11ec-9d5f-dac502259ad0.jpg

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。 舉報投訴
  • 集成電路
    +關注

    關注

    5381

    文章

    11385

    瀏覽量

    360871
收藏 人收藏

    評論

    相關推薦

    機械拋光用的什么設備和輔助品

    機械拋光是一種通過物理或化學作用改善材料表面粗糙度和光澤度的過程。這個過程通常用于金屬、塑料、玻璃和其他材料的表面處理。機械拋光設備和輔助品的選擇取決于材料類型、拋光目的和預期的表面質
    的頭像 發表于 09-11 15:43 ?407次閱讀

    機械拋光和電解拋光的區別是什么

    機械拋光和電解拋光是兩種常見的金屬表面處理技術,它們在工業制造、精密工程、醫療器械、汽車制造、航空航天等領域有著廣泛的應用。這兩種技術各有特點和優勢,適用于不同的材料和場合。下面將介紹這兩種拋光技術
    的頭像 發表于 09-11 15:40 ?671次閱讀

    集成電路產業狂飆,企業如何為高質量發展注入活力

    據國家統計局數據顯示,2024年上半年我國集成電路產品的產量同比增長了28.9%,增勢明顯。在萬年芯看來,集成電路產業強勢“狂飆”,交出了亮眼的2024年“期中考”成績,業內也正在為產業
    的頭像 發表于 08-02 14:35 ?312次閱讀
    <b class='flag-5'>集成電路</b><b class='flag-5'>產業</b>狂飆,企業如何為高質量發展注入活力

    鼎龍股份CMP拋光液業務突破:千萬元級訂單助力產能擴張

    近日,鼎龍股份宣布了其子公司武漢鼎澤新材料技術有限公司(簡稱“鼎澤新材料”)在CMP(化學機械拋光拋光液領域的重大進展,標志著公司在半導體材料供應鏈中的核心地位進一步鞏固。這一里程碑式的成就,不僅彰顯了鼎龍股份在技術創新與產能建設上的雙重飛躍,也為其在高端制造領域的持續
    的頭像 發表于 07-10 10:13 ?621次閱讀

    日本研發電化學機械拋光(ECMP)技術

    的重大障礙。   傳統的化學機械拋光(CMP)方法,雖行之有效,卻依賴大量拋光液,不僅推高了生產成本,也對環境構成了不小的壓力。   為破解這一難題,日本立命館大學的研究團隊創新性地研發了電化學機械拋光(ECMP)技
    的頭像 發表于 07-05 15:22 ?705次閱讀

    專用集成電路 通用集成電路有哪些

    專用集成電路(Application Specific Integrated Circuit,簡稱ASIC)是一種根據特定需求而設計的集成電路。與通用集成電路(General Purpose
    的頭像 發表于 04-14 10:41 ?669次閱讀

    晶亦精微科創板IPO過會

    北京晶亦精微科技股份有限公司(以下簡稱“晶亦精微”)成功通過科創板首次公開募股(IPO)審核,這標志著這家專注于半導體設備領域的公司將迎來新的發展機遇。晶亦精微主要從事化學機械拋光(CMP)設備及其配件的研發、生產、銷售以及相關的技術服務,為集成電路制造商提供關鍵設備支持
    的頭像 發表于 03-06 14:37 ?844次閱讀

    化學機械研磨拋光CMP技術詳解

    本文介紹了半導體研磨方法中的化學機械研磨拋光CMP技術。
    的頭像 發表于 02-21 10:11 ?2089次閱讀
    <b class='flag-5'>化學</b><b class='flag-5'>機械</b>研磨<b class='flag-5'>拋光</b>CMP技術詳解

    晶亦精微科創板IPO過會

    北京晶亦精微科技股份有限公司(簡稱“晶亦精微”)科創板IPO順利過會,即將在上海證券交易所科創板上市。該公司專注于半導體設備的研發、生產、銷售及技術服務,特別是化學機械拋光(CMP)設備及其配件
    的頭像 發表于 02-20 09:34 ?556次閱讀

    碳化硅晶片的化學機械拋光技術研究

    為實現碳化硅晶片的高效低損傷拋光,提高碳化硅拋光的成品率,降低加工成本,對現有的碳化硅化學機械拋光 技術進行了總結和研究。針對碳化硅典型的晶型結構及其微觀晶格結構特點,簡述了化學機械拋光
    的頭像 發表于 01-24 09:16 ?1847次閱讀
    碳化硅晶片的<b class='flag-5'>化學機械拋光</b>技術研究

    半導體行業中的化學機械拋光技術

    最后的拋光步驟是進行化學蝕刻和機械拋光的結合,這種形式的拋光稱為化學機械拋光(CMP)。首先要做的事是,將晶圓片安裝在旋轉支架上并且要降低到
    的頭像 發表于 01-12 09:54 ?1010次閱讀
    半導體行業中的<b class='flag-5'>化學機械拋光</b>技術

    SK海力士研發可重復使用CMP拋光墊技術,降低成本并加強ESG管理

    CMP技術指的是在化學機械的協同作用下,使得待拋光原料表面達到指定平面度的過程。化學藥水與原料接觸后,生成易于拋光的軟化層,隨后利用
    的頭像 發表于 12-28 15:13 ?976次閱讀

    SK海力士研發可重復使用CMP拋光墊技術

    需要指出的是,CMP 技術通過化學機械作用使得待拋光材料表面達到所需平滑程度。其中,拋光液化學物質與材料表面發生
    的頭像 發表于 12-27 10:58 ?790次閱讀
    SK海力士研發可重復使用CMP<b class='flag-5'>拋光</b>墊技術

    華海清科:12英寸超精密晶圓減薄機Versatile-GP300已獲得小批量訂單

    在北京亦莊項目建設方面,華海清科據公司的子公司華海清科北京在北京經濟技術開發區實行“華海清科集成電路高端裝備研發及產業化項目,用于公司開展化學機械拋光設備、減薄設備、濕法設備等高端半導體設備研發及
    的頭像 發表于 12-07 16:30 ?951次閱讀

    CMP拋光墊有哪些重要指標?

    CMP(Chemical Mechanical Polishing)即“化學機械拋光”,是為了克服化學拋光機械拋光的缺點
    的頭像 發表于 12-05 09:35 ?1330次閱讀
    CMP<b class='flag-5'>拋光</b>墊有哪些重要指標?