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激光熔覆的稀釋率和搭接率介紹

深圳市科瑞特自動(dòng)化技術(shù)有限公司 ? 2023-04-20 09:38 ? 次閱讀

稀釋率的概念

稀釋率是指在激光熔覆中,由于熔化基材的混入而引起的熔覆合金成分的變化程度,用基材合金占總?cè)鄹矊拥陌俜致时硎荆ǚ枽牵?/p>

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H:熔覆層高度,h:基材熔深,W:熔覆層寬度,

η=A2/(A1+A2)=h/(H+h)

不同修復(fù)工藝稀釋率對比

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熱噴涂/等離子噴涂:η=0,僅為機(jī)械結(jié)合,容易脫落。

10c0f8ee-dd89-11ed-ad0d-dac502259ad0.png

堆焊:η=30-60%,基體過度稀釋涂層,熱影響區(qū)過大,容易產(chǎn)生焊接缺陷。

10df2f58-dd89-11ed-ad0d-dac502259ad0.png

激光熔覆:η<10%,稀釋率低,熱影響區(qū)小,化學(xué)冶金結(jié)合,結(jié)構(gòu)致密,修復(fù)效果好。

搭接率的概念

單道熔覆時(shí),熔覆層不是平面,而是凸面。(表面張力梯度引起的強(qiáng)制對流和潤濕性的共同作用)。

110d77dc-dd89-11ed-ad0d-dac502259ad0.png

熔覆層截面形貌

如果不進(jìn)行搭接,不同道次連接處熔覆層有效厚度為0,表面粗糙度差。多道熔覆時(shí),相鄰熔覆道間的搭接寬度D0與單道熔覆層寬度W之比。

1124d986-dd89-11ed-ad0d-dac502259ad0.png

R0=D0/W x 100%

搭接率對熔覆層形貌的影響

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R0偏?。合噜徣鄹驳乐g會出現(xiàn)明顯的凹陷區(qū),但兩個(gè)熔覆道高度是一致的。

115dbcce-dd89-11ed-ad0d-dac502259ad0.png

R0適中(40-50%):會有較好的熔覆效果,且兩道熔覆道高度相同。

11746e9c-dd89-11ed-ad0d-dac502259ad0.png

R0偏大:出現(xiàn)搭接區(qū)的凸起,且兩熔覆道高度不同。如果繼續(xù)疊層熔覆,會將缺陷進(jìn)一步放大,導(dǎo)致無法熔覆成型。

搭接率對熔覆層組織和性能的影響

11905a76-dd89-11ed-ad0d-dac502259ad0.png搭接處金相組織

搭接處被激光重新加熱,樹枝晶更加明顯,未搭接部分受到熱傳導(dǎo)作用,產(chǎn)生自回火,硬度下降。

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