原位拉曼系統(tǒng)可以實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)半導(dǎo)體薄膜生長(zhǎng)全過(guò)程，利用共聚焦拉曼光譜的“In-Situ”方式，在石英爐中原位觀察半導(dǎo)體薄膜生長(zhǎng)過(guò)程，并且通過(guò)監(jiān)控不同的生長(zhǎng)因素對(duì)薄膜生長(zhǎng)的影響，優(yōu)化生長(zhǎng)工藝，大大節(jié)省了人力、物力和調(diào)試時(shí)間。經(jīng)過(guò)實(shí)驗(yàn)證明，該裝置有高度重復(fù)性，并成功幫助半導(dǎo)體薄膜材料研究課題組和多家半導(dǎo)體薄膜材料生產(chǎn)企業(yè)進(jìn)行半導(dǎo)體薄膜生產(chǎn)。

在半導(dǎo)體工藝中，薄膜沉積是在半導(dǎo)體原材料硅晶圓上分階段生長(zhǎng)薄膜的核心工藝。它在半導(dǎo)體電路之間起到區(qū)分、連接和保護(hù)作用。由于其厚度非常薄，在晶圓上形成均勻地薄膜具有很高的難度。所以在化學(xué)沉積過(guò)程中，確認(rèn)薄膜材料是否正常生長(zhǎng)，以及能否產(chǎn)生所需的特定物性，就非常重要。

為了確保薄膜沉積按照預(yù)期進(jìn)行，通常將已長(zhǎng)成的薄膜從真空化學(xué)氣相沉積（CVD）腔室中取出，然后用分析儀器進(jìn)行檢查。它被稱為“Ex-Situ”方法，是從外部而不是在腔室內(nèi)部進(jìn)行分析。但是，從真空室中取出的薄膜可能會(huì)與大氣中的氧氣或水分接觸，從而改變物性，很難進(jìn)行準(zhǔn)確的分析。即使通過(guò)分析發(fā)現(xiàn)問(wèn)題，也需要花費(fèi)大量的時(shí)間和精力來(lái)確定問(wèn)題發(fā)生的時(shí)間及原因。

為了解決這個(gè)問(wèn)題，許勛首席研究員于3年前成立“創(chuàng)意型融合研究項(xiàng)目”課題，著手進(jìn)行“化學(xué)沉積材料實(shí)時(shí)沉積膜監(jiān)測(cè)技術(shù)和設(shè)備開(kāi)發(fā)”的研究。課題結(jié)束后同步完成了分析設(shè)備的開(kāi)發(fā)，并與半導(dǎo)體材料企業(yè)合作進(jìn)行商業(yè)化。

許勛首席研究院研究組開(kāi)發(fā)的設(shè)備與以往不同，其特點(diǎn)是能夠?qū)崟r(shí)分析硅晶圓腔內(nèi)形成薄膜的全過(guò)程。這不是“Ex-Situ”方式，而是“In-Situ”方式。從形成薄膜到完成，可以分析整個(gè)過(guò)程的機(jī)制。制造半導(dǎo)體薄膜材料的企業(yè)、制造工藝設(shè)備的企業(yè)、三星電子或SK海力士等制造半導(dǎo)體的企業(yè)都可以派上用場(chǎng)。

首席研究員許勛表示：“我們開(kāi)發(fā)出了可以在任何時(shí)間點(diǎn)觀察和分析CVD腔室的薄膜沉積過(guò)程的設(shè)備”，“不僅可以在半導(dǎo)體領(lǐng)域使用，還可以在OLED材料、二次電池用電極材料、太陽(yáng)能電池用電極材料等多個(gè)領(lǐng)域使用。”

研究組利用拉曼光譜作為分析薄膜材料沉積過(guò)程的主要檢測(cè)手段。拉曼光譜法使用“拉曼效應(yīng)”，當(dāng)單色光在氣體、透明液體和固體中照射時(shí)，散射光中的波長(zhǎng)略有不同。使用這種現(xiàn)象分析拉曼光譜可以獲得有關(guān)材料結(jié)構(gòu)的信息。在 CVD 腔室中安裝 In-situ 拉曼，就可以在形成薄膜的腔室中實(shí)時(shí)分析薄膜材料的濃度、晶體結(jié)構(gòu)、結(jié)晶性等性能。此外，還可以檢驗(yàn)化學(xué)沉積過(guò)程中所需的化合物氣體、反應(yīng)氣體、薄膜生長(zhǎng)溫度、生長(zhǎng)時(shí)間等工藝條件，以找到最佳工藝方案。

研究組還開(kāi)發(fā)了通過(guò)分析半導(dǎo)體薄膜物性來(lái)推斷遺傳率的分析技術(shù)。介電率是指在電場(chǎng)中產(chǎn)生電極化的程度。例如SiO2是一種傳統(tǒng)的層間絕緣材料，但由于介電率高，在實(shí)現(xiàn)高密度和高速化方面存在問(wèn)題，就可以通過(guò)沉積具有低電離電特性的電介質(zhì)來(lái)補(bǔ)充。再通過(guò)磷酸光光譜法確定其沉積過(guò)程和處理?xiàng)l件的物性變化。

為了確保所需遺傳率特性的薄膜的正確產(chǎn)生，研究組將能夠產(chǎn)生紫外線（UV）區(qū)域和可見(jiàn)光（可見(jiàn)光）區(qū)域激光的拉曼光譜源組成復(fù)合型拉曼。成功的對(duì)具有低介電率特性的SiOCH薄膜形成過(guò)程和具有較高遺傳率的二氧化鈦（TiO2）薄膜形成過(guò)程進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)并對(duì)薄膜物性進(jìn)行實(shí)時(shí)分析。

首席研究員許勛表示：“為了確認(rèn)開(kāi)發(fā)的系統(tǒng)的可重復(fù)性，通過(guò)相同工藝的薄膜生長(zhǎng)和分析驗(yàn)證了設(shè)備的可靠性”，“使用企業(yè)提供的薄膜材料樣品，成功啟動(dòng)和演示了設(shè)備，確保了企業(yè)的適用性和實(shí)用性。為了滿足如三星電子、SK海力士等國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體工藝專家的客戶要求，還主動(dòng)跟蹤回訪，解決相關(guān)問(wèn)題。”

研究組開(kāi)發(fā)的設(shè)備還有望幫助開(kāi)發(fā)新的半導(dǎo)體薄膜材料。首席研究員許勛表示：“克服了現(xiàn)有分析方法的局限性，可以減少薄膜分析的時(shí)間和精力”，“目前，由于日本出口限制，材料及零部件、設(shè)備研究開(kāi)發(fā)變得尤為重要，本研究組的目標(biāo)就是幫助缺乏設(shè)備開(kāi)發(fā)和投資余力的中小企業(yè)開(kāi)發(fā)半導(dǎo)體材料源技術(shù)。

本項(xiàng)目中使用的Nanobase生產(chǎn)的顯微共焦拉曼系統(tǒng)采用透射式體相全息光柵的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，和傳統(tǒng)的反射式光柵相比，效率曲線均勻，且具備更高的效率，十分擅長(zhǎng)針對(duì)微弱信號(hào)進(jìn)行探測(cè)。以較高的靈敏度和穩(wěn)定性保障了項(xiàng)目的順利實(shí)施。獨(dú)特的振鏡掃描技術(shù)能夠在樣品不動(dòng)的情況下實(shí)現(xiàn)快速的二維成像mapping，使得原位探測(cè)的同時(shí)還可以進(jìn)行成像分析成為了可能。

XperRam系列拉曼光譜儀可以根據(jù)您的實(shí)際需求進(jìn)行光源的選擇和光譜儀的配置，不僅提供更緊湊的C系列，也提供超高光譜分辨率的S系列，以優(yōu)異的性價(jià)比和靈活度在科研級(jí)拉曼市場(chǎng)展露頭角。

Nanobase與上海昊量合作，目前可以在上海完成您的設(shè)備定制化、原位和聯(lián)用工作，國(guó)內(nèi)外均有各種成功案例。歡迎您與我們進(jìn)行更詳盡的溝通，實(shí)現(xiàn)您的更多的奇思妙想。

文中設(shè)備使用的配置：

激發(fā)光：532nm 633nm 785nm

低波數(shù)水平：10cm-1@532nm

光譜儀焦長(zhǎng)：200mm

光譜分辨率：2cm-1

光譜重復(fù)性：0.7cm-1

空間分辨率：1.5um with 50x LW物鏡

光斑位移精度：20nm