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聯發科3nm工藝旗艦芯片已成功流片:功耗降32%

芯存社 ? 來源:芯存社 ? 2023-09-07 16:35 ? 次閱讀

2023年9月7日 – MediaTek 與臺積公司今日共同宣布,MediaTek 首款采用臺積公司 3 納米制程生產的天璣旗艦芯片開發進度十分順利,日前已成功流片,預計將在明年量產。MediaTek 與臺積公司長期保持著緊密且深度的戰略合作關系,雙方充分發揮各自在芯片設計和制造方面的獨特優勢,共同打造擁有高性能、低功耗特性的高能效旗艦芯片,賦能全球終端設備。

MediaTek 總經理陳冠州表示:“MediaTek 在拓展全球旗艦市場的策略上,致力于采用全球最先進的技術為用戶打造尖端科技產品,提升及豐富大眾生活。臺積電穩定且高品質的制造能力,讓 MediaTek 在旗艦芯片上的優異設計得以充分展現,以高性能、高能效且品質穩定的最佳芯片方案提供給全球客戶,為旗艦市場帶來前所未有的用戶體驗。”

臺積公司歐亞業務及技術研究資深副總經理侯永清博士表示:“多年來,臺積公司與 MediaTek 緊密合作,為市場帶來了許多重大的創新,我們也很榮幸能繼續在 3 納米及更先進的技術上攜手合作。臺積公司與 MediaTek 在天璣旗艦芯片上的合作,將半導體產業最頂尖的制程科技帶入智能手機等移動終端,讓全球用戶享受無與倫比的使用體驗。”

臺積公司的 3 納米制程技術不僅為高性能計算和移動應用提供完整的平臺支持,還擁有更強化的性能、功耗以及良率。相較于 5 納米制程,臺積公司 3 納米制程技術的邏輯密度增加約 60 %,在相同功耗下速度提升 18 %,或者在相同速度下功耗降低 32%。

MediaTek 一直基于業界領先的制程工藝打造 Dimensity 天璣旗艦芯片,滿足用戶在移動計算、高速連接、人工智能、多媒體娛樂等領域不斷升級的體驗需求,賦能智能手機、平板電腦、智能汽車等各類設備。MediaTek 首款采用臺積公司 3 納米制程的天璣旗艦芯片將于 2024 年下半年上市,為新世代終端設備注入強大實力,引領用戶體驗邁向新篇章。

在今年7月的季度財務會議上,臺積電CEO魏哲家透露,去年底開始量產的N3 3nm工藝,已完全通過驗證,性能、良品率都達到了預期目標。

臺積電3nm工藝第一代為N3B,技術上很先進很復雜,應用多達25個EUV光刻層,還有雙重曝光,從而達到更高的晶體管密度,這也致使價格更貴。

第二代則是N3E,EUV光刻層減少到19個,去掉雙重曝光,會便宜不少,更適合主流產品。

目前業界各大芯片廠商都在攻關 3nm 制程,包括蘋果 iPhone 有望率先拿下臺積電 3nm 產能,我們可以期待在今年最新的 A17 芯片中見到。此外,高通的 3nm 芯片目前還沒有準確消息,預計會和聯發科再次展開競爭。

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原文標題:聯發科3nm工藝旗艦芯片已成功流片:功耗降32%

文章出處:【微信號:xincunshe,微信公眾號:芯存社】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

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