日本Rapidus決定2024年底引入EUV*** 員工赴ASML學習
日本半導體公司rafidus以2027年批量生產2nm工程半導體為目標，正在北海道建設半導體工廠。該公司5日表示，決定到2024年末為止引進euv***，并向荷蘭asml派遣職員，學習euv紫外線光刻技術。
Rapidus從2023年開始與ibm、asml、imec等合作。三星電子今年的目標是向ibm和asml派遣100名職員，讓他們學習先進的半導體技術。該公司目前已雇用了約300名員工。
此前，世界最大也是唯一的euv制造公司asml也決定在日本北海道千歲市設立技術支援部門，在Rapidus芯片工廠附近支援工廠。拉菲德斯的第一家工廠iim-1將于2023年9月動工，2025年4月啟動試制品，2027年投入量產。該公司表示，在正式批量生產之前，將確保1000名新人力。
此前，rafidus和東京大學表示，將與法國半導體研究機構leti合作，開發出1納米級芯片設計基礎技術，并到2024年為止，推進人力交流及技術共享。
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