文章來源:老千和他的朋友們
原文作者:孫千
掃描電子顯微鏡(SEM)已廣泛用于材料表征、計量和過程控制的研究和先進制造中,我們在對半導(dǎo)體材料和結(jié)構(gòu)進行觀測時,常常會遇到充電效應(yīng),本文討論了與樣品充電相關(guān)的一些問題以及減輕其影響的方法。
如何理解“充電效應(yīng)”
粒子束儀器中的術(shù)語“充電”意味著當(dāng)樣品被粒子束照射時,樣品表面或其附近的正或負(fù)電位的積累。充電會導(dǎo)致很多不良后果,只在少數(shù)情況下,它才可以為研究者所用。
表面充電會引起二次電子圖像強度的不穩(wěn)定,這導(dǎo)致二次電子系數(shù)和檢測器效率的變化。表面電勢的變化會導(dǎo)致放大率、電子束漂移、圖像失真,甚至?xí)绊慩射線微區(qū)定量分析。此外,充電引起的所有問題都對測量數(shù)據(jù)質(zhì)量有害。
通常,可將充電分成四大類:
不充電:即導(dǎo)電樣品,其中入射電子束可以容易地行進到接地電位;
不明顯的充電:電荷積聚非常小,操作人員在對部分導(dǎo)電的接地樣品進行成像和測量時不會輕易觀察到明顯的充電現(xiàn)象。這也是比較麻煩的情況,因為通常直到拍攝高倍顯微照片后才被發(fā)現(xiàn);
明顯充電:部分導(dǎo)電的樣品仍然允許有限的成像和測量;
完全不導(dǎo)電:即不接地的樣品,這妨礙了任何有意義的成像或測量。
麥克斯韋(Maxwell)方程規(guī)定電荷必須守恒。在高加速電壓下觀察理想導(dǎo)電樣品時,離開樣品的背散射電子(背散射電子系數(shù)-η)和作為信號離開樣品的二次電子(二次電子系數(shù)-δ)之和可能小于1,但必須與流向地面的電子相平衡,這可以作為樣品電流進行測量。在理想情況下,測量的樣品電流(Isc)是電子束能量(E)的函數(shù),它與入射束電流的關(guān)系如下:
對于導(dǎo)電樣品,通常就是這種情況。因此,當(dāng)(η+δ)為1時,測得的Isc為零。
不幸的是,大多數(shù)感興趣的樣品的導(dǎo)電性并不理想。在大多數(shù)情況下,入射束電流和樣品電流之間流向地面的電流是不同的。這些差異與電導(dǎo)率、離開樣品的總信號以及殘留的電荷數(shù)量有關(guān):在非導(dǎo)體中,Isc=0,因此電荷可以累積;如果 η+δ<1,則會產(chǎn)生負(fù)電荷;如果 η+δ>1,則會產(chǎn)生正電荷。
在電荷累積的情況下,我們的目標(biāo)是實現(xiàn)動態(tài)電荷平衡,使η+δ = 1,因此通過入射電子束注入樣品的電子數(shù)量與作為信號離開樣品的電子數(shù)量平衡。
在某些方面,充電是非常反復(fù)無常的,在某一臺儀器中充電的樣品,可能在另一臺儀器中可能沒有明顯的充電現(xiàn)象。人們可以很容易地對樣品進行大量充電,或者細(xì)微的充電可以在基本不被注意的情況下進行,并可能導(dǎo)致顯著的測量誤差。這種反復(fù)無常的性質(zhì)很大程度上是由于充電的動態(tài)性質(zhì)、SEM的多功能性、以及各種粒子束儀器中可用的各種幾何形狀和儀器條件。
充電現(xiàn)象的分類
在上面描述的四種一般情況中,嚴(yán)格地說,粒子束儀器中的充電現(xiàn)象可以歸結(jié)為兩種類型的樣品條件,不帶電和帶電,它們很容易被識別。
2.1 不充電
高導(dǎo)電性樣品(金屬)將它吸收的所有電子引導(dǎo)到地,并且在圖像采集期間或之后不會發(fā)生充電(即電勢的變化)。顯然,這是最理想的情況。但大部分感興趣的樣品導(dǎo)電性都不太好。甚至一些看似完全導(dǎo)電的金屬樣品,如鋁,其表面可能有一層氧化層,可能會產(chǎn)生電荷。
2.2 充電
當(dāng)一種材料不能有效地將入射電子束傳遞給它的能量傳導(dǎo)到地面時,樣品本身內(nèi)部或周圍的電勢會積累(或變化),進而會對成像和測量產(chǎn)生不利影響。樣品可能會產(chǎn)生靜電荷形成靜電勢,這取決于樣品的電導(dǎo)率及其環(huán)境,可在真空中長時間保留。通常,會盡量讓靜電荷從樣品中完全排出,這樣由儀器的入射電子束引起的變化可以被更好地解釋。
樣品中積累的電荷代表一種勢能,當(dāng)它被耗盡時,樣品達到一種更中和、更穩(wěn)定、能量更低的狀態(tài)。電氣連接,包括因濕度引起的表面?zhèn)鲗?dǎo),都會對樣品放電產(chǎn)生影響。
可能出現(xiàn)兩種主要的充電類型:
2.3 負(fù)電荷(η+δ<1)
當(dāng)撞擊到樣品上的大量電子被捕獲在材料中并且負(fù)電位增加時,負(fù)電荷增加。這些負(fù)電荷的能量可以只有幾伏,也可以和入射電子束的能量一樣多,即幾千伏。這種情況最常見的表現(xiàn)是圖像出現(xiàn)“發(fā)亮”(更亮)或?qū)е聢D像幾何失真,因為電子束被意外偏轉(zhuǎn)(圖1)。
在其他情況下,可以看到邊緣粘附的顆粒從樣品上“脫落”——再也看不到了(直到它們落在鏡筒中的關(guān)鍵部件上)。當(dāng)電子束掃過它們時,突出的結(jié)構(gòu)也會因為這種強烈的充電效應(yīng)發(fā)生移動。
圖1 金剛石芯片負(fù)充電效應(yīng)示例。在1keV的低著陸能量(HFW4=36μm)下,充電現(xiàn)象極小(左圖)。當(dāng)著陸能量增加到10keV時(HFV=13μm),出現(xiàn)了強烈的充電現(xiàn)象(右圖)。
由于大多數(shù)樣品不完全導(dǎo)電,充電是常見的情況。負(fù)電荷是最明顯和最麻煩的充電類型,在最極端的情況下,會干擾和偏轉(zhuǎn)電子束,并導(dǎo)致不可容忍的圖像失真。樣品上的極端負(fù)電荷積累可能會導(dǎo)致入射電子束實際上轉(zhuǎn)向并對樣品室內(nèi)部成像。樣品表面積累的靜電勢場等于或高于入射電子束的電勢。當(dāng)入射電子束在樣品上掃描時,由于受靜電勢場影響,它并不撞擊樣品,而是在整個樣品室中偏轉(zhuǎn),激發(fā)了樣品室內(nèi)部部件的電子信號。當(dāng)存在這種充電時,圖像變得嚴(yán)重失真,并且當(dāng)入射電子束在整個室中接近樣品時被偏轉(zhuǎn)。
傾斜樣品可以將電子束導(dǎo)向不同的感興趣的位置,這些行為似乎不會帶來任何負(fù)面后果,一般來說,大多數(shù)充電的問題是幾個電子伏特,在那里會發(fā)生細(xì)微的、不可識別的充電。
通常情況下,充電是顯而易見的,但有時也相當(dāng)微妙。負(fù)電荷積累對于尺寸測量來說是一個問題,因為它有可能使電子束偏轉(zhuǎn),使得電子束實際上落在離預(yù)定位置幾納米遠的地方。根據(jù)具體的儀器參數(shù)和被測量的三維結(jié)構(gòu)尺度大小,偏轉(zhuǎn)量可以忽略,也可以大到無法忽略。
如圖2所示,當(dāng)電子束接近充電結(jié)構(gòu)時,其軌跡可能改變,信號產(chǎn)生的落點和儀器掃描系統(tǒng)認(rèn)為的落點可能不同,從而導(dǎo)致錯誤的數(shù)據(jù)和測量。該測量值的增量(δ)被夸大了,偏轉(zhuǎn)量是可變的,取決于電勢、充電樣品的結(jié)構(gòu)和電子束的著陸能量。
圖2 充電效應(yīng)導(dǎo)致電子束偏轉(zhuǎn)的效果示意圖
2.4 正電荷(η+δ>1)
當(dāng)從樣品中發(fā)射出的電子多于入射電子束所能提供的電子時,正電勢就會增加。帶正電荷的區(qū)域非但沒有變亮,反而變暗,因為二次電子發(fā)射減少,許多二次電子被吸引回樣品表面。正電荷使掃描區(qū)域變暗,這常常與污染物的積累相混淆。
正電荷遠沒有負(fù)電荷的積累有害,而且通常只限于幾伏的電勢。主要結(jié)果是損失了一些有價值的信號電子,因為它們被帶正電的表面重新吸收。
如何判斷充電
正負(fù)電荷可以很容易地診斷,以確定適當(dāng)?shù)闹懩芰亢蜆悠返碾妼?dǎo)率:
將儀器設(shè)置為合適的儀器操作條件;
找到一個感興趣的區(qū)域,并以高倍數(shù)聚焦于該區(qū)域(放大倍數(shù)越高,充電的影響越嚴(yán)重);
在選定區(qū)域內(nèi)輻照樣品幾秒鐘;
將放大倍數(shù)降低5倍,觀察樣品;
如果出現(xiàn)明亮的光柵圖案(在放大倍率較低時可能會慢慢消失),則可能是負(fù)電荷。因此,嘗試將著陸能量降低100 eV。然后,在不同的位置重復(fù)該過程;
如果出現(xiàn)深色光柵圖案,然后(可能)很快消失,則可能是正電荷(圖3)。如果發(fā)生這種情況,將著陸能量提高幾百伏。然后重復(fù)該過程;
如果黑色方塊仍然存在,則正電荷不太可能,可能是由碳沉積引起的污染。
減輕充電的方法
減輕充電的兩種最常見方法是:低加速電壓(低著陸能量)操作,以及用薄導(dǎo)電金屬或碳層涂覆樣品。
4.1 低加速電壓成像
高亮度電子源(六硼化鑭和場發(fā)射電子源)的出現(xiàn),以及后來發(fā)展成當(dāng)前數(shù)字成像電子設(shè)備的幀存儲電子設(shè)備,推動了低加速電壓成像的發(fā)展。非破壞性、低著陸能量操作在半導(dǎo)體制造中變得普遍,在半導(dǎo)體制造中,絕緣樣品(如氧化物和光刻膠)在生產(chǎn)線上被常規(guī)觀察。
一般來說,在低著陸能量下,當(dāng)電子束撞擊絕緣表面時,可以實現(xiàn)電荷平衡。在低(1-2 keV)著陸能量下,二次電子系數(shù)可能大于1。
圖3 電子發(fā)射總量曲線
對于大多數(shù)非導(dǎo)電材料,E1和E2是總電子發(fā)射等于1的點。人們認(rèn)為E1和E2對于特定樣品和所應(yīng)用的一組儀器條件(著陸能量、束流、傾斜等),是相對穩(wěn)定的,因為它們是樣品處于電荷平衡時的能量。此時,由入射電子束注入樣品的電子數(shù)等于離開樣品的電子總數(shù),因此可能不會發(fā)生樣品充電。
通常,樣品可以承受的電壓范圍很小,最高可達E2值。E2是最穩(wěn)定的值,通常選擇用于無鍍膜觀察,因為它在更高的加速電壓下被發(fā)現(xiàn),因此能夠為儀器提供更高分辨率的操作條件。然而,所需的最佳著陸能量總是取決于所需的樣品信息。
高電壓入射電子束將對樣品中更深的層成像,而低電壓將提供來自樣品表面的更多信息,因此,需要妥協(xié)以最優(yōu)化方案。此外,具有超低電壓/高分辨率能力的新型粒子束儀器可以在E1工作,而不會對分辨率產(chǎn)生重大影響。
4.2 樣品鍍導(dǎo)電膜
傳統(tǒng)上,用重金屬、導(dǎo)電材料(金、金/鈀和鋨)覆蓋非導(dǎo)電樣品是克服充電的常用方法。鍍膜還增加了樣品的二次電子發(fā)射,尤其是當(dāng)樣品由低原子序數(shù)材料組成時。必須記住的一點是,如果樣品有鍍膜,信號主要是由作為保護層的鍍膜產(chǎn)生的電子流產(chǎn)生的,而不一定是目標(biāo)樣品上的信號。
此外,還會導(dǎo)致無數(shù)的鍍膜瑕疵,如開裂。如何鍍膜一直是一個復(fù)雜的決定,這基于所需的電導(dǎo)率以及人們可以容忍的偽像程度。真空蒸發(fā)(金、金/鈀)、磁控濺射涂覆(金、金/鈀)或氣相沉積都被使用過。對于EDS分析,鍍碳膜通常也有助于減少充電,并減少分析中的定量誤差。
連續(xù)鍍膜可以減輕充電,但也會引入鍍膜瑕疵,如表面細(xì)節(jié)的變化。相對于所施加的鍍膜厚度,鍍膜也增加了被觀察結(jié)構(gòu)的尺寸。因此,解釋可能會受到影響。圖6顯示一種涂有幾納米鋨鍍層的納米纖維素材料。請注意,納米纖維素材料核心(透過鍍膜觀察)的預(yù)期直徑約為6-7納米,但其周圍是幾納米厚的鍍膜。因此,涂覆納米顆粒可能會影響測量,尤其是對納米顆粒和結(jié)構(gòu)的測量。
其它解決方案
5.1 電荷中和
電荷的增加被能量非常低的離子束中和,離子的作用是在“離子零動能點”穩(wěn)定表面電位,與絕緣表面的性質(zhì)無關(guān),這需要在樣品附近安裝和優(yōu)化電荷中和裝置,該裝置位于SEM樣品室中樣品上方和物鏡下方,但這種方法目前并不常用。在掃描氦離子顯微鏡中,有一個選擇,即使用電子中和槍來中和由離子引起的正電荷。
5.2 快速、電視級成像
使用高亮度場發(fā)射電子顯微鏡進行快速掃描也可以緩解充電問題。如果在樣品上放置一層電荷,并以比平均放電速率更快的掃描速率進行掃描,就可以達到電荷平衡。使用固定的電視掃描速率,每幀1155行,每秒15幀,即使在低著陸能量下也能提供合理的成像。
電視速率成像如今現(xiàn)在在大多數(shù)儀器上很常見。但是,具有良好信噪比的快速掃描概念的成功演示,證明了充電問題可以通過這種方式緩解。
5.3 背散射電子成像
SEM中電荷減少的最早方法之一是采用背散射電子收集,而不是二次電子收集。樣品的充電對二次電子圖像的影響遠遠大于更高能量的背散射電子。大多數(shù)實驗室SEM都配備了SE探測器,SE檢測器前面的收集屏偏壓可以接地或負(fù)(反向)偏壓,從而拒絕SE,只允許那些與檢測器具有正確幾何關(guān)系的高能BSE被收集。
5.4低損耗電子成像
低損耗電子成像屬于背散射電子成像,其中背散射電子的能量過濾,即僅收集那些與樣品最小程度相互作用的電子。這些低損耗電子已被證明具有更高的表面靈敏度和更低的表觀電荷。總的來說,樣品充電并沒有消除,表面充電引起的電子束偏轉(zhuǎn)仍然會發(fā)生——充電并沒有消失,只是被忽略了。如果電荷積聚得足夠多,入射電子束仍有可能偏轉(zhuǎn)。
5.5 導(dǎo)電噴霧劑
在普遍使用高分辨率低著陸能量SEM之前,普遍使用“導(dǎo)電”噴霧來消除充電,但可能對儀器和樣品造成污染。
結(jié)論
充電是非導(dǎo)電樣品的成像不可避免的現(xiàn)象,但為了從SEM中獲得有意義且可重復(fù)的數(shù)據(jù),必須克服充電問題。鍍導(dǎo)電膜只是一種解決方案,這可能導(dǎo)致偽像。過多的電荷積累容易使入射電子束偏轉(zhuǎn)過大導(dǎo)致圖像失真,而細(xì)微的電荷積累會使電子束輕微偏轉(zhuǎn),從而導(dǎo)致測量誤差。
審核編輯:湯梓紅
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