據麥姆斯咨詢報道，泛林集團（Lam Research，納斯達克股票代碼：LRCX）近日宣布推出全球首款面向量產的脈沖激光沉積（PLD）機臺，以賦能基于MEMS的下一代麥克風和射頻（RF）濾波器。Lam Research的Pulsus PLD系統可提供鈧含量最高的摻鈧氮化鋁（AlScN）薄膜。這為具有更高性能和功能的先進消費類和汽車器件鋪平了道路。Pulsus現已開始向部分特種MEMS器件制造商發貨。

Pulsus PLD的發布，進一步擴大了Lam Research專注于特種技術沉積、蝕刻和單晶圓清洗產品的全面組合，并證明了Lam Research在該領域的持續創新。

Lam Research副總裁兼客戶支持業務部總經理Chris Carter表示：“Lam Research利用在特種半導體技術方面的深厚專業知識、成熟的沉積能力以及與CEA-Leti的戰略合作，在我們經過生產驗證的2300平臺上，為客戶帶來了這一突破性解決方案。這種新的沉積技術有助于推進MEMS器件設計，加快特種技術市場的產品路線圖。”

尖端壓電薄膜驅動高性能MEMS器件

射頻濾波器在5G、WiFi 6和WiFi 6E性能方面發揮著至關重要的作用，其不僅能增加通信網絡可處理的頻段數量，還能改善用戶體驗。MEMS麥克風因其高信噪比而備受推崇，即使是低沉的聲音也能準確捕捉，這對于5G設備中的語音控制和降噪功能至關重要。

Pulsus采用突破性技術沉積高質量薄膜，以優化射頻濾波器和MEMS麥克風。薄膜中的鈧含量越高，器件的性能越好。Pulsus提供的薄膜至少含有40%的鈧，這是目前最高的鈧含量。這些薄膜具有低介電損耗，壓電系數兩倍于目前的濺射薄膜，優化了電氣轉換，從而提高了射頻濾波器的靈敏度和MEMS麥克風的性能。此外，壓電品質的提高使得用無鉛AlScN替代鋯鈦酸鉛（PZT）成為可能。

Pulsus PLD工藝

在Pulsus PLD工藝中，使用強激光脈沖來沖擊目標材料。目標材料被氣化，形成穩定、致密的等離子體羽流，然后薄層沉積到晶圓上。該工藝對于實現厚度和應力需要精確控制的高質量、均勻薄膜至關重要。Pulsus代表了激光首次用于大批量生產中的薄膜沉積。

Pulsus為特種技術提供獨特優勢

“用于制造MEMS器件的設備需求在2023年增長到了9.4億美元以上，而且，隨著芯片制造商找到提高器件性能的新方法，這種需求還將繼續增長。Pulsus卓越的薄膜質量對于需要強大壓電性能的5G應用具有巨大價值。”Yole制造和全球供應鏈副總監John West說，“Pulsus是一種創新解決方案，可以幫助優化目前的特種器件，并推進未來各種應用的技術路線圖。”

Pulsus PLD確保了卓越的薄膜均勻性和質量，而單晶圓成本僅為傳統沉積方法的一小部分。這種效率可幫助芯片制造商提高良率，加快產品路線圖。

除了AlScN，Pulsus還能沉積其它方法無法應用的各種復雜多元素材料。Lam Research正在探索新材料，以滿足特種技術市場對AR/VR和量子計算等應用的需求。

“Pulsus PLD系統的獨特之處在于它能夠沉積包括AlScN在內的多種材料，并具有出色的薄膜特性。”CEA-Leti投資與供應商合作組組長Sothachett Van說，“我們很高興看到這項技術成熟起來，成為壓電MEMS器件的批量制造解決方案。”

審核編輯：劉清