據(jù)可靠消息來源 yeux1122 在其 Naver 博客中透露，蘋果公司正在進行一項全新的抗反射光學涂層技術測試，旨在降低鏡頭炫光及鬼影等問題，進一步提升手機照片畫質。

據(jù)悉，蘋果正在尋求采用全新原子層沉積（ALD）設備來改良iPhone相機鏡頭的生產(chǎn)工藝。

原子層次沉積（ALD）乃是一種采用連續(xù)氣相化學反應方式在基板表面對物質實行逐層鍍膜的工藝。無疑，ALD為一種精密納米技術，能夠精準控制并完成納米級別超薄薄膜沉積。

在相機鏡頭領域，ALD工藝主要用于噴涂抗反射涂層，以減輕攝影中的偽影現(xiàn)象。如在強烈陽光直射鏡頭時，可能導致拍攝出的圖像出現(xiàn)條紋或光暈，但通過ALD處理，可有效減少此類圖像失真情況。

除此之外，ALD所用材料還能保護相機鏡頭免受環(huán)境因素破壞，且不影響傳感器捕捉光線的效能。

文章指出，蘋果計劃將此工藝運用至iPhone的Pro機型中，有望在iPhone16 Pro系列乃至明年的iPhone17 Pro系列上得到體現(xiàn)。