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三星量產(chǎn)第九代V-NAND閃存芯片,突破最高堆疊層數(shù)紀(jì)錄

微云疏影 ? 來(lái)源:綜合整理 ? 作者:綜合整理 ? 2024-04-18 09:49 ? 次閱讀

三星公司預(yù)計(jì)將于今年四月份大批量生產(chǎn)目前行業(yè)內(nèi)為止密度最大的290層第九代V-NAND (3D NAND) 閃存芯片,這是繼之前的236層第八代V-NAND后的顯著提升,也代表著當(dāng)前行業(yè)中最高的可量產(chǎn)堆疊層數(shù)。據(jù)悉,該公司還計(jì)劃于2025年推出430層V-NAND產(chǎn)品

有業(yè)內(nèi)人士分析稱,三星此舉主要是為了應(yīng)對(duì)人工智能AI)領(lǐng)域?qū)AND閃存的巨大需求。隨著AI從“訓(xùn)練”向“推理”轉(zhuǎn)變,需要處理海量的圖像和視頻等數(shù)據(jù),因此對(duì)大容量存儲(chǔ)設(shè)備的需求日益增長(zhǎng)。同時(shí),觀察者們也注意到,三星對(duì)其NAND業(yè)務(wù)在第一季度的盈利狀況持樂(lè)觀態(tài)度。

值得一提的是,三星即將推出的第九代V-NAND采用了雙層鍵合技術(shù)以提高生產(chǎn)效率,這一突破性進(jìn)展打破了之前業(yè)內(nèi)專家預(yù)測(cè)的需使用三層鍵合技術(shù)才能實(shí)現(xiàn)300層的觀點(diǎn)。

研究機(jī)構(gòu)TechInsights預(yù)測(cè),三星將在2025年下半年批量生產(chǎn)第十代V-NAND,堆疊層數(shù)可高達(dá)430層,并直接越過(guò)350層。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫(xiě)或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
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