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美光計劃投資約300億元在日本新建DRAM廠

半導體芯科技SiSC ? 來源:半導體芯科技SiSC ? 作者:半導體芯科技SiS ? 2024-05-29 16:28 ? 次閱讀

據日媒報道,美光科技計劃投入6000億-8000億日圓(約合人民幣277-369億元)在日本廣島縣興建新廠,用于生產DRAM芯片。這座新廠房將于2026年初動工,并安裝極紫外光刻(EUV)設備。消息稱最快2027年底便可投入營運。

報道稱,此前,日本政府已批準多達1920億日圓補貼,支持美光在廣島建廠并生產新一代芯片。去年,日本經濟產業省曾表示,將利用這筆經費協助美光科技生產芯片,這些芯片將是推動生成式AI、數據中心自動駕駛技術發展的關鍵。

審核編輯 黃宇
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