精品国产人成在线_亚洲高清无码在线观看_国产在线视频国产永久2021_国产AV综合第一页一个的一区免费影院黑人_最近中文字幕MV高清在线视频

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

SK海力士在HBM領(lǐng)域中MR-MUF技術(shù)的發(fā)展

SK海力士 ? 來源:SK海力士 ? 2024-07-30 14:19 ? 次閱讀

挑戰(zhàn)傳統(tǒng),打破限制,勇攀高峰,打破常規(guī)者們?cè)趯で箝_創(chuàng)性解決方案的過程中重塑規(guī)則。繼SK海力士品牌短片《誰是打破常規(guī)者》播出后,將推出一系列文章,展示公司在重塑技術(shù)、重新定義行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)方面采取的各種“打破常規(guī)”的創(chuàng)新舉措。作為本系列首篇文章,將詳述HBM領(lǐng)域中MR-MUF技術(shù)的發(fā)展。

體積更小、速度更快、帶寬更高、性能更佳。如今,領(lǐng)先的存儲(chǔ)器產(chǎn)品正迅速發(fā)展,以滿足人工智能時(shí)代下的高需求。然而,這些進(jìn)步也帶來了一項(xiàng)可能阻礙下一代產(chǎn)品發(fā)展的挑戰(zhàn)——熱量過高。

為解決這一問題,SK海力士取得了前所未有的突破,開發(fā)出了一種名為批量回流模制底部填充(MR-MUF, Mass Reflow-Molded Underfill)1 的新型創(chuàng)新封裝技術(shù),可以有效改善芯片的散熱性能。自2019年以來,MR-MUF技術(shù)被應(yīng)用于SK海力士開創(chuàng)性產(chǎn)品HBM2中,使公司在市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)中脫穎而出。作為唯一一家采用MR-MUF技術(shù)的公司,應(yīng)用該技術(shù)的HBM產(chǎn)品的散熱性能獲得客戶一致好評(píng),SK海力士毫無疑問地成為HBM市場(chǎng)的領(lǐng)導(dǎo)者。

1批量回流模制底部填充(MR-MUF, Mass Reflow-Molded Underfill): 批量回流焊是一種通過熔化堆疊芯片間的凸點(diǎn)以連接芯片的技術(shù)。通過模制底部填充技術(shù),將保護(hù)材料填充至堆疊芯片間隙中,以提高耐用性和散熱性。結(jié)合回流和模制工藝,MR-MUF技術(shù)將半導(dǎo)體芯片連接到電路上,并用環(huán)氧樹脂模塑料(EMC)填充芯片間及凸點(diǎn)間的空隙。

2高帶寬存儲(chǔ)器(HBM, High Bandwidth Memory): 一種高附加值、高性能存儲(chǔ)器產(chǎn)品,通過硅通孔技術(shù)(TSV)將多個(gè)DRAM芯片垂直互聯(lián)。與現(xiàn)有的DRAM產(chǎn)品相比,數(shù)據(jù)處理速度顯著提高。

本文將探討MR-MUF技術(shù)的開創(chuàng)性發(fā)展,并重點(diǎn)關(guān)注高導(dǎo)熱性新材料如何解決下一代HBM產(chǎn)品熱量過高的問題。

全力攻克散熱難題

隨著存儲(chǔ)器產(chǎn)品的發(fā)展,散熱問題愈發(fā)嚴(yán)峻,導(dǎo)致這一問題的原因有多個(gè):例如,由于表面積減少和功率密度增加,半導(dǎo)體微型化會(huì)直接影響產(chǎn)品的散熱性能;對(duì)于HBM這樣的DRAM堆疊產(chǎn)品,熱傳導(dǎo)路徑較長(zhǎng)會(huì)導(dǎo)致熱阻增加,熱導(dǎo)性也會(huì)因芯片之間的填充材料而受限;此外,速度和容量的不斷提升,也會(huì)導(dǎo)致熱量增加。

若無法充分控制半導(dǎo)體芯片產(chǎn)生的熱量,可能會(huì)對(duì)產(chǎn)品性能、生命周期和功能產(chǎn)生負(fù)面影響。這是客戶重點(diǎn)關(guān)注的問題,因?yàn)榇祟悊栴}會(huì)嚴(yán)重影響其生產(chǎn)力、能源成本和競(jìng)爭(zhēng)力。所以,除容量和帶寬外,包括散熱在內(nèi)均已成為先進(jìn)存儲(chǔ)器產(chǎn)品開發(fā)過程中的關(guān)鍵考慮因素。

因此,人們開始將注意力轉(zhuǎn)向半導(dǎo)體封裝技術(shù),因其主要功能之一是熱控制。在第二代HBM產(chǎn)品HBM2之前,SK海力士的HBM產(chǎn)品一直采用行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)性熱壓非導(dǎo)電膜(TC-NCF,Thermal Compression Non-Conductive Film)3技術(shù)。然而,隨著HBM產(chǎn)品的進(jìn)步,需要更薄的芯片來容納更多的芯片層,因此相應(yīng)的封裝技術(shù)需要控制更多的熱量和壓力。SK海力士在開發(fā)下一代產(chǎn)品時(shí),還需要解決密集堆疊產(chǎn)品中因壓力和厚度而造成芯片翹曲等問題。基于此,公司需要跳出固有思維,為未來產(chǎn)品開發(fā)一項(xiàng)全新封裝技術(shù)。

3熱壓非導(dǎo)電薄膜(TC-NCF,Thermal Compression Non-Conductive Film):一種通過在芯片間涂抹薄膜狀物質(zhì)來堆疊芯片的技術(shù)。通過加熱和加壓融化這種物質(zhì),從而將芯片粘在一起。

MR-MUF技術(shù)及其新材料,

填補(bǔ)散熱控制拼圖中缺失的一環(huán)

SK海力士在開發(fā)第三代HBM產(chǎn)品——HBM2E時(shí),將傳熱控制作為改進(jìn)的主要焦點(diǎn)。即便TC-NCF技術(shù)被公認(rèn)為是適用于密集堆疊產(chǎn)品的封裝解決方案,SK海力士仍舊堅(jiān)持不斷挑戰(zhàn)現(xiàn)狀,努力開發(fā)一種可優(yōu)化散熱性能的新型封裝技術(shù)。經(jīng)過無數(shù)次的測(cè)試和試驗(yàn),公司于2019年推出了新型封裝技術(shù)MR-MUF,繼而徹底改變了HBM市場(chǎng)的未來。

b4213acc-4e39-11ef-b8af-92fbcf53809c.png

TC-NCF技術(shù)與MR-MUF技術(shù)散熱性能的結(jié)構(gòu)差異

MR-MUF技術(shù)由SK海力士多個(gè)團(tuán)隊(duì)共同開發(fā),該技術(shù)能夠同時(shí)對(duì)HBM產(chǎn)品中所有的垂直堆疊芯片進(jìn)行加熱和互聯(lián),比堆疊芯片后填充薄膜材料的TC-NCF技術(shù)更高效。此外,與TC-NCF技術(shù)相比,MR-MUF技術(shù)可將有效散熱的熱虛設(shè)凸塊數(shù)量增加四倍。

MR-MUF技術(shù)另一個(gè)重要特性是采用了一種名為環(huán)氧樹脂模塑料(EMC, Epoxy Molding Compound)4的保護(hù)材料,用于填充芯片間的空隙。EMC是一種熱固性聚合物,具有卓越的機(jī)械性、電氣絕緣性及耐熱性,能夠滿足對(duì)高環(huán)境可靠性和芯片翹曲控制的需求。由于應(yīng)用了MR-MUF技術(shù),HBM2E的散熱性能比上一代HBM2提高了36%。

4環(huán)氧樹脂模塑料(EMC, Epoxy Molding Compound): 一種基于熱固性聚合物環(huán)氧樹脂的散熱材料。這種材料可用于密封半導(dǎo)體芯片,以避免芯片受到外部環(huán)境因素影響,如高溫、潮濕、震動(dòng)等。

雖然MR-MUF技術(shù)也被用于HBM2E的下一代產(chǎn)品——8層HBM3,但在2023年開發(fā)12層HBM3時(shí),SK海力士還是將MR-MUF技術(shù)提升到了一個(gè)新高度。為了保持產(chǎn)品的整體厚度,DRAM芯片必須比8層HBM3所用的芯片薄40%,因此解決芯片翹曲成為了一個(gè)關(guān)鍵問題。SK海力士積極應(yīng)對(duì)挑戰(zhàn),開發(fā)了先進(jìn)的MR-MUF技術(shù),并引入了業(yè)界首創(chuàng)的芯片控制技術(shù)(Chip Control Technology)5和改善散熱效果的新型保護(hù)材料。在此過程中,因其在先進(jìn)MR-MUF技術(shù)中應(yīng)用的新型EMC與原始MR-MUF技術(shù)中的EMC相比,使散熱性能提高了1.6倍,SK海力士再次實(shí)現(xiàn)材料創(chuàng)新。

5芯片控制技術(shù)(Chip Control Technology):在堆疊芯片時(shí),對(duì)每個(gè)芯片施加瞬間高熱,使頂層芯片下的凸點(diǎn)與底層芯片上的薄墊熔合。薄墊將芯片固定在一起,以防止翹曲。

憑借熱量控制技術(shù),

SK海力士成功實(shí)現(xiàn)了最高級(jí)別HBM的量產(chǎn)

b4382296-4e39-11ef-b8af-92fbcf53809c.png

HBM產(chǎn)品發(fā)展及散熱性能優(yōu)化時(shí)間線

從開發(fā)HBM2E開始,MR-MUF技術(shù)及隨后推出的先進(jìn)MR-MUF技術(shù)的應(yīng)用,使SK海力士能夠生產(chǎn)出業(yè)界最高標(biāo)準(zhǔn)的HBM產(chǎn)品。時(shí)至2024年,SK海力士已成為首家量產(chǎn)HBM3E的公司,這是最新一代、擁有全球最高標(biāo)準(zhǔn)性能的HBM產(chǎn)品。在應(yīng)用先進(jìn)的MR-MUF技術(shù)后,與上一代8層HBM3相比,HBM3E在散熱性能方面提高了10%,成為人工智能時(shí)代炙手可熱的存儲(chǔ)器產(chǎn)品。展望未來,公司將繼續(xù)保持其在HBM領(lǐng)域的市場(chǎng)主導(dǎo)地位,并宣布計(jì)劃將下一代HBM4產(chǎn)品的量產(chǎn)提前至2025年。

打破常規(guī)者專訪:

HBM產(chǎn)品封裝部門,河京武TL

為了更深入地了解MR-MUF技術(shù)開發(fā)和HBM發(fā)展的淵源,本文采訪了HBM產(chǎn)品封裝部門的 河京武TL。通過對(duì)新材料的探索、測(cè)試和驗(yàn)證,河京武積極推動(dòng)著MR-MUF技術(shù)的發(fā)展,并就這一創(chuàng)新工藝所帶來的影響進(jìn)行了深入探討。

Q

SK海力士采用MR-MUF技術(shù)成功開發(fā)出的HBM產(chǎn)品具有怎樣的意義?MR-MUF技術(shù)和先進(jìn)MR-MUF技術(shù)在材料創(chuàng)新方面有哪些重大突破?

A

“MR-MUF技術(shù)的引入讓我們站在了HBM市場(chǎng)的頂峰,確保了我們?cè)贖BM市場(chǎng)的領(lǐng)先地位。自從我們決定在HBM2E產(chǎn)品上采用MR-MUF技術(shù),而非像其他半導(dǎo)體公司一樣使用TC-NCF技術(shù)以來,SK海力士一直在超越競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手。MR-MUF技術(shù)的應(yīng)用使公司成功量產(chǎn)層數(shù)越來越多的、前所未有的HBM產(chǎn)品,充分證明了公司對(duì)創(chuàng)新不懈追求的精神。”

“在材料創(chuàng)新方面,MR-MUF技術(shù)采用了比NCF技術(shù)散熱性能更好的EMC材料。與TC-NCF技術(shù)相比,這一舉措對(duì)提高M(jìn)R-MUF技術(shù)的熱控性和產(chǎn)品的環(huán)境可靠性起到了關(guān)鍵作用。此外,關(guān)于先進(jìn)MUF材料, 是SK海力士在EMC材料基礎(chǔ)上更進(jìn)一步,推出的散熱性能更強(qiáng)的新版本。”

Q

在MR-MUF技術(shù)的開發(fā)過程中,有哪些幕后工作值得分享?

A

“在這些先進(jìn)技術(shù)的背后,是持續(xù)不斷的測(cè)試和評(píng)估,以驗(yàn)證和提高用于封裝工藝的新材料的質(zhì)量。”

“在開發(fā)先進(jìn)MR-MUF技術(shù)時(shí),將新EMC材料持續(xù)用于通用測(cè)試載具(UTV, Universal Test Vehicle)6進(jìn)行可靠性測(cè)試至關(guān)重要。具有與HBM產(chǎn)品相同規(guī)格UTV在經(jīng)過晶圓級(jí)封裝(WLP, Wafter-Level Package)7后成為樣品,然后進(jìn)行預(yù)見可靠性(LAR, Look Ahead Reliability)8測(cè)試,以識(shí)別產(chǎn)品缺陷。只有通過測(cè)試并進(jìn)行了必要升級(jí)的材料,才可用于HBM最終產(chǎn)品。”

6通用測(cè)試載具(UTV, Universal Test Vehicle):在產(chǎn)品開發(fā)初期階段,用于測(cè)試和確定產(chǎn)品規(guī)格及標(biāo)準(zhǔn)的樣品。

7晶圓級(jí)封裝(WLP, Wafer-Level Package):在切割晶圓前,一次性進(jìn)行封裝和測(cè)試晶圓并產(chǎn)出最終產(chǎn)品的技術(shù),在晶圓加工和芯片切割方面,與傳統(tǒng)封裝工藝不同。

8預(yù)見可靠性(LAR, Look Ahead Reliability):在質(zhì)量評(píng)估前進(jìn)行的初步測(cè)試,旨在針對(duì)測(cè)試過程中發(fā)現(xiàn)的產(chǎn)品缺陷制定對(duì)策,并于質(zhì)量評(píng)估期間采取相應(yīng)對(duì)策,以修復(fù)產(chǎn)品缺陷。

Q

在MR-MUF技術(shù)開發(fā)過程中,SK海力士的“打破常規(guī)者精神”是如何激勵(lì)員工突破傳統(tǒng)的?

A

“我們公司倡導(dǎo)一種‘打破常規(guī)’的企業(yè)文化,鼓勵(lì)每個(gè)人設(shè)定具有挑戰(zhàn)性的目標(biāo),而非安于現(xiàn)狀。此外,無論來自哪個(gè)部門,成員們都致力于“一個(gè)團(tuán)隊(duì)”協(xié)作精神,并努力成為團(tuán)隊(duì)中最好的一員。”

“這一點(diǎn)在MR-MUF技術(shù)開發(fā)過程中尤為明顯,當(dāng)時(shí)來自各部門的成員通力合作,確保了項(xiàng)目成功。這是全公司成員們共同努力的成果,正是因?yàn)榇蠹引R心協(xié)力,才使這項(xiàng)創(chuàng)新成為可能。在這個(gè)過程中每個(gè)成員都各司其職,例如我的職責(zé)就是為工程師開發(fā)流程提供支持,此外,我的主要職責(zé)還包括對(duì)材料進(jìn)行初步風(fēng)險(xiǎn)評(píng)估、制定技術(shù)驗(yàn)證計(jì)劃、競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手監(jiān)測(cè)以及提前確定客戶需求。”

“在SK海力士,我們都是打破常規(guī)者。因?yàn)槲覀兩钚牛灰ㄟ^共同的努力,就能不斷勇攀高峰,創(chuàng)造出令人驚嘆的成就。”

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • DRAM
    +關(guān)注

    關(guān)注

    40

    文章

    2273

    瀏覽量

    182778
  • 存儲(chǔ)器
    +關(guān)注

    關(guān)注

    38

    文章

    7317

    瀏覽量

    162891
  • SK海力士
    +關(guān)注

    關(guān)注

    0

    文章

    906

    瀏覽量

    38215
  • HBM
    HBM
    +關(guān)注

    關(guān)注

    0

    文章

    322

    瀏覽量

    14598

原文標(biāo)題:[Rulebreakers’ Revolutions ] MR-MUF熱控技術(shù)取得突破,HBM邁向新高度

文章出處:【微信號(hào):SKhynixchina,微信公眾號(hào):SK海力士】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

收藏 人收藏

    評(píng)論

    相關(guān)推薦

    標(biāo)普上調(diào)SK海力士評(píng)級(jí)至BBB,看好其HBM領(lǐng)域主導(dǎo)地位

    近日,國(guó)際知名評(píng)級(jí)機(jī)構(gòu)標(biāo)準(zhǔn)普爾全球評(píng)級(jí)(S&P Global Ratings)宣布了一項(xiàng)重要決策,將SK海力士的長(zhǎng)期發(fā)行人信用及發(fā)行評(píng)級(jí)從BBB-提升至BBB,并維持穩(wěn)定的評(píng)級(jí)展望。此次上調(diào)評(píng)級(jí),主要基于SK
    的頭像 發(fā)表于 08-08 09:48 ?192次閱讀

    SK海力士攜手臺(tái)積電,N5工藝打造高性能HBM4內(nèi)存

    半導(dǎo)體技術(shù)日新月異的今天,SK海力士再次引領(lǐng)行業(yè)潮流,宣布將采用臺(tái)積電先進(jìn)的N5工藝版基礎(chǔ)裸片來構(gòu)建其新一代HBM4內(nèi)存。這一舉措不僅標(biāo)志
    的頭像 發(fā)表于 07-18 09:47 ?465次閱讀

    SK海力士與Amkor攜手推進(jìn)硅中介層合作,強(qiáng)化HBM市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力

    )合作展開深入?yún)f(xié)商。這一合作旨在通過整合雙方優(yōu)勢(shì)資源,進(jìn)一步提升SK海力士高性能內(nèi)存(HBM領(lǐng)域的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力。
    的頭像 發(fā)表于 07-18 09:42 ?394次閱讀

    SK海力士探索無焊劑鍵合技術(shù),引領(lǐng)HBM4創(chuàng)新生產(chǎn)

    半導(dǎo)體存儲(chǔ)技術(shù)的快速發(fā)展浪潮中,SK海力士,作為全球領(lǐng)先的內(nèi)存芯片制造商,正積極探索前沿技術(shù)
    的頭像 發(fā)表于 07-17 15:17 ?548次閱讀

    SK海力士將在HBM生產(chǎn)中采用混合鍵合技術(shù)

    半導(dǎo)體技術(shù)日新月異的今天,SK海力士再次站在了行業(yè)創(chuàng)新的前沿。據(jù)最新消息,該公司計(jì)劃于2026年在其高性能內(nèi)存(High Bandwidth Memory,
    的頭像 發(fā)表于 07-17 09:58 ?606次閱讀

    SK海力士HBM4芯片前景看好

    瑞銀集團(tuán)最新報(bào)告指出,SK海力士HBM4芯片預(yù)計(jì)從2026年起,每年將貢獻(xiàn)6至15億美元的營(yíng)收。作為高帶寬內(nèi)存(HBM)市場(chǎng)的領(lǐng)軍企業(yè),SK
    的頭像 發(fā)表于 05-30 10:27 ?437次閱讀

    SK海力士與臺(tái)積電攜手量產(chǎn)下一代HBM

    近日,SK海力士與臺(tái)積電宣布達(dá)成合作,計(jì)劃量產(chǎn)下一代HBM(高帶寬內(nèi)存)。在這項(xiàng)合作中,臺(tái)積電將主導(dǎo)基礎(chǔ)芯片的前端工藝(FEOL)和后續(xù)布線工藝(BEOL),確保基礎(chǔ)芯片的質(zhì)量與性能。而SK
    的頭像 發(fā)表于 05-20 09:18 ?368次閱讀

    SK海力士HBM4E存儲(chǔ)器提前一年量產(chǎn)

    SK海力士公司近日首爾舉辦的IEEE 2024國(guó)際存儲(chǔ)研討會(huì)上,由先進(jìn)HBM技術(shù)團(tuán)隊(duì)負(fù)責(zé)人Kim Kwi-wook宣布了一項(xiàng)重要進(jìn)展。
    的頭像 發(fā)表于 05-15 11:32 ?634次閱讀

    SK海力士明年HBM產(chǎn)能基本售罄

    SK海力士近日宣布,其高帶寬內(nèi)存(HBM)芯片在2025年的產(chǎn)能已經(jīng)基本售罄。這一成績(jī)主要?dú)w功于人工智能(AI)技術(shù)的蓬勃發(fā)展,極大地推動(dòng)了
    的頭像 發(fā)表于 05-07 09:48 ?344次閱讀

    SK海力士聯(lián)手臺(tái)積電推出HBM4,引領(lǐng)下一代DRAM創(chuàng)新

    SK海力士表示,憑借其AI應(yīng)用領(lǐng)域存儲(chǔ)器發(fā)展的領(lǐng)先地位,以及與臺(tái)積電全球頂尖邏輯代工
    的頭像 發(fā)表于 04-19 09:28 ?379次閱讀

    剛剛!SK海力士出局!

    來源:集成電路前沿,謝謝 編輯:感知芯視界 Link 3月25日消息,據(jù)報(bào)道,由于SK海力士部分工程出現(xiàn)問題,英偉達(dá)所需的12層HBM3E內(nèi)存,將由三星獨(dú)家供貨,SK
    的頭像 發(fā)表于 03-27 09:12 ?394次閱讀

    SK海力士成功量產(chǎn)超高性能AI存儲(chǔ)器HBM3E

    HBM3E的推出,標(biāo)志著SK海力士高性能存儲(chǔ)器領(lǐng)域取得了重大突破,將現(xiàn)有DRAM技術(shù)推向了新的
    的頭像 發(fā)表于 03-20 15:23 ?805次閱讀

    三星澄清:未采用MR-MUF工藝,持續(xù)創(chuàng)新引領(lǐng)HBM芯片技術(shù)

    近期,針對(duì)三星是否在其高帶寬內(nèi)存(HBM)芯片生產(chǎn)中采用了MR-MUF(Magnetic RAM based Multi-Level Unified Memory Framework)工藝的討論科技界引發(fā)了廣泛關(guān)注。
    的頭像 發(fā)表于 03-14 11:56 ?408次閱讀
    三星澄清:未采用<b class='flag-5'>MR-MUF</b>工藝,持續(xù)創(chuàng)新引領(lǐng)<b class='flag-5'>HBM</b>芯片<b class='flag-5'>技術(shù)</b>

    受困于良率?三星否認(rèn)HBM芯片生產(chǎn)采用MR-MUF工藝

    芯片生產(chǎn)中應(yīng)用MR-MUF(批量回流模制底部填充)技術(shù)的傳言并不屬實(shí)。 ? 三星HBM生產(chǎn)中目前主要采用非導(dǎo)電薄膜(NCF)技術(shù),而非
    的頭像 發(fā)表于 03-14 00:17 ?3462次閱讀
    受困于良率?三星否認(rèn)<b class='flag-5'>HBM</b>芯片生產(chǎn)采用<b class='flag-5'>MR-MUF</b>工藝

    SK海力士宣布HBM內(nèi)存生產(chǎn)配額全部售罄

    SK 海力士副總裁 Kim Ki-Tae 對(duì)此表示,作為 HBM 行業(yè)翹楚,海力士洞察到市場(chǎng)對(duì) HBM 存儲(chǔ)的巨大需求,現(xiàn)已提前調(diào)整產(chǎn)量,以
    的頭像 發(fā)表于 02-23 14:12 ?615次閱讀