文章來源：睞芯科技LightSense

原文作者：LIG

分辨率增強及技術(Resolution Enhancement Technique, RET)實際上就是根據已有的掩膜版設計圖形，通過模擬計算確定最佳光照條件，以實現最大共同工藝窗口(Common Process Window)，這部分工作一般是在新光刻工藝研發的早期進行 。

在IC技術中，具有更分辨率、更大景深和更大的曝光容許度一直是光學曝光系統發展的挑戰，這些需求一直用縮短曝光波長和發展新型光阻來應對。同時許多分辨率增強技術也發展出來，使得光刻技術能夠適應更小的尺寸。

不管是相移技術、還是光學鄰近修正，計算部分過于復雜，都是由計算光刻軟件完成的。

相移技術Phase-Shift Technology

相移光罩(phase-shift mask,PSM)是一項重要的分辨率增強技術，如圖所示。對于傳統的光罩，光透過每個縫隙處的電場強度都是同相，如圖(a)所示，由于光的衍射——衍射是光經過邊緣時所產生的彎曲現象，光的分布范圍比縫隙寬，一個縫隙在晶圓上的電場強度分布如虛線所示，相鄰縫隙的繞射光因重疊增強了縫隙間的電場強度，光強度正比于電場強度的平方，因此兩個光投影的影像彼此太接近就很難區分出來，限制了分辨率。

將相移層復蓋于相鄰的縫隙上，將使其電場反相，如圖(b)所示，相鄰縫隙的電場會因相位相差180°而互相抵消。因此，影像可以分辨出來。要得到180°的相位差，可用一透明材料，其厚度為d=λ/2(n-1)，其中n為相移材料的折射率，λ為波長。

光學鄰近修正Optical Proximity Correction

衍射效應會嚴重影響光學投影成像，各自的圖案會與鄰近的圖案相互作用衍射相交疊的結果即所謂的光學鄰近效應，這種效應在制程尺寸和其間距達到光學系統的分辨極限時變得越來越突顯。光學鄰近修正(optical proimity correction-OPC)是一種用來減小這種影響增強解析度的技術，該方法利用光罩上幾何圖形的修正來補償因衍射效應所產生的成像誤差，例如:一條寬度接近解析度極限的線，由于兩個角的繞射效應，出來的是一條帶有圓角的線，如左圖所示。右圖所示，為在線上的邊角上加一些額外的幾何圖案修正，將印出一條更精確的線。

計算光刻軟件包

計算光刻是依靠專用軟件包來實施的，這些軟件包都是由專門的供應商提供的。軟件包都是要在GPU上運算，于是，計算光刻技術軟件庫應運而生。